美国半导体清洗标准是什么

美国半导体清洗标准。对切割出来的硅片进行打磨、抛光。硅片的表面会有很多大小不一的、各种各样的颗粒，包括金属沫、油污等。这些颗粒是要清洗的内容。

1、加热。假设室温20℃的情况下，用加热器将清洗溶液的温度加热到80℃，这样酸碱在高温下能加快反应，得到更好的清洗效果。

2、使用超声波产生气泡，同样能够达到吸取硅片表面杂质的目的。这种情况是在温度要求不能太高的情况下使用的。

3、震动。为了让杂质不会粘贴在硅片表面上，采用一种晃动的方式，让装有硅片的篮子在清洗溶液中充分接触溶液，增加摩擦，有效去污。

产 品 说 明

Cable Clean? RD (Rapid DRY) High Voltage Splice Cleaner 快干电缆清洁剂

1、 产品介绍：

氯化溶剂型清洁剂、可去除高压电缆线之半导体核心的污染物。提供有效的清洁作用，并且有不可燃、快速挥发、无残留物等优点，可取代三氯乙烷清洁剂且不会影响效能、不含已知的臭氧破坏化学物质。

2、 应用范围：

用于电线、电缆材料、去除表面油污、粘胶剂、硅质润滑剂、抗氧化剂及其他污染物

3、 特点：

不可燃、快速挥发无残留物

去除缆线拉管化合物、抗氧化物与半导体颗粒等去除绝缘层后可能残留在电缆的物质

不腐蚀、不导电、不玷污

高介电强度41100V

需要的话可以联系我，联系方式在个人资料中

微小颗粒尺寸是1.8微米

洁净间管理中Particle的粒子直径单位数量级是微米。

洁净间（无尘间、洁净室）是指具有HEPA过滤功能以从空气中去除颗粒的房间。指将一定空间范围内之空气中的微粒子、有害空气、细菌等之污染物排除，并将室内之温度、洁净度、室内压力、气流速度与气流分布、噪音振动及照明、静电控制在某一需求范围内，而所给予特别设计之房间

粒子（particle），是指能够以自由状态存在的最小物质组成部分。最早发现的粒子是原子、电子和质子，1932年又发现中子，确认原子由电子、质子和中子组成，它们比起原子来是更为基本的物质组分，于是称之为基本粒子。

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