酸洗的作用是溶解以碳酸盐和金属氧化物为主的污垢,是借助与污垢发生酸、碱反应,使污垢转变为可溶解或易于分散的状态。但是对新建
锅炉和含硫酸盐垢的锅炉,首先需要碱洗。碱洗主剂的作用如下NaOH:提供强碱性,去油Na3PO4:保持
清洗剂碱性,可与Ca2+、Mg2+等离子生成沉淀,降低水的硬度Na2CO3:保持清洗剂碱性,可与Ca2+、Mg2+等离子生成沉淀,降低水的硬度,也可使不被酸溶解的硫酸盐转化为可溶解的碳酸盐。锅炉在清洗过程中有三种情况需要碱煮。①新锅炉启用之前需要碱煮除油。因为在制造和安装锅炉的过程中需涂抹油性防锈剂,该油脂在锅炉运行中容易起泡沫,启用之前必须将油脂去除。②酸洗之前需要碱煮。因为锅炉表面的油脂妨碍清洗液与水垢接触,所以在酸洗之前需要碱煮除油和去除部分硅化物,改善水垢表面的润湿性和松动某些致密的垢层,给酸洗创造有利的条件。碱煮去除硅化物的反应式如下 。SiO2+2NaOH→Na2SiO3+H2OSiO2+Na2CO3→Na2SiO3+CO2③水垢类型的转化。对用酸不能溶解松动的硬质水垢(如硫酸盐等),可在高温下与碱液作用,发生转化,使硬垢疏松或脱落。碱洗目的:用高强度碱液,以软化、松动、乳化及分散沉积物。有时添加一些表面活性剂以增加碱煮效果。常于锅炉的去除油性污垢和硅酸盐垢。碱洗是在一定温度下使碱液循环进行。时间一般为6~12h,根据情况也可以延长。美国半导体清洗标准。对切割出来的
硅片进行打磨、抛光。硅片的表面会有很多大小不一的、各种各样的颗粒,包括金属沫、油污等。这些颗粒是要清洗的内容。
1、加热。假设室温20℃的情况下,用加热器将清洗溶液的温度加热到80℃,这样酸碱在高温下能加快反应,得到更好的清洗效果。
2、使用超声波产生气泡,同样能够达到吸取硅片表面杂质的目的。这种情况是在温度要求不能太高的情况下使用的。
3、震动。为了让杂质不会粘贴在硅片表面上,采用一种晃动的方式,让装有硅片的篮子在清洗溶液中充分接触溶液,增加摩擦,有效去污。
DNS是厂商名字,中文叫迪恩士,就是化学清洗槽(也叫酸槽/化学槽),主要有HF,,H2SO4,H2O2,HCL等酸碱液体按一定比例配置,目的是为了去除杂质,去离子,去原子,最后还有DI清洗。IPA是异丙醇,就是工业酒精,是用来clean机台或parts的,是为了减少partical的。
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