1、清洗 ->2、在晶片上铺一层所需要的半导体 ->3、加上掩膜 ->4、把不要的部分腐蚀掉 ->5、清洗
重复2到5就可以得到所需要的芯片了
Cleaning ->Deposition ->Mask Deposition ->Etching ->Cleaning
1、中的清洗过程中会用到硝酸,氢氟酸等酸,用于清洗有机物和无机物的污染
其中Deposition过程可能会用到多种器材,比如HELIOS等~
Mask Deposition过程中需要很多器材,包括Spinner,Hot plate,EVG等等~
根据材料不同或者需要的工艺精度不同,Etching也分很多器材,可以使用专门的液体做Wet etch,或者用离子做Plasma Etching等
最后一部的Cleaning一般是用Develpoer洗掉之前覆盖的掩模~
多数器材都是Oxford Instruments出的
具体建议你去多看看相关的英文书,这里说不清楚。。
半导体新产品导入流程包括以下步骤:1、产品设计:确定新产品的功能、性能和外观,并确定半导体元件的类型和数量。
2、原材料采购:根据产品设计,采购所需的半导体元件,以及其他原材料。
3、工艺设计:根据产品设计,确定半导体元件的安装位置,以及其他工艺参数。
4、测试:测试新产品的性能,确保其达到设计要求。
5、产品发布:发布新产品,开始销售。
欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
评论列表(0条)