半导体生产废水中的金属离子种类很多,主要有铜、镍、锡、铅、银等,一般浓度在几十mg/L左右。
半导体知识产权泛指FABIP,也即Fab+intellectualproperty源于Fab是集成电路的制造业产业链源头,Fab专注于晶圆的生产制造,而Fabless专注于Chip的设计,这就是分工。
纯水和超纯水一般都没有统一的标准。是根据用户的需求来规定。一般意义上讲纯水至少应该是去离子水,即水中大部分阴阳离子是应该被去除的。细菌、悬浮物等的含量也应是相当低的。目前水质要求最高的超纯水是半导体行业,根据半导体芯片的大小和线径的不同水质要求也不一样,其超纯水的水质指标如下: 电阻率大于18.2兆欧(25摄氏度);TOC(总有机碳)小于1到10ppb,DO(溶解氧)小于1到10ppb;Particle(颗粒):0.05微米小于200个/升;离子含量大部分是小于20到50ppt;细菌检测:无。欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
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