刀片切割是指用金刚石刀片切割晶圆,这种方法最为普遍,但容易产生摩擦热和碎屑,需要用纯净水,在切割过程中进行冷却清洗。
激光切割的精度更高,能轻松处理厚度较薄或划片线间距很小的晶圆。
等离子切割采用等离子刻蚀的原理,因此即使划片线间距非常小,这种技术同样能适用。
半导体工艺技术有很多,每种工艺都有其特定的优势和劣势,没有一种工艺能够满足所有的应用需求,因此,选择哪种工艺是根据应用的具体要求而定的。常见的半导体工艺有:晶圆切割、晶圆研磨、光刻、掩膜、熔融清洗、热处理、化学镀、接极等。
其中,晶圆切割、光刻、掩膜、熔融清洗、热处理、化学镀、接极等是半导体八大工艺,这八种工艺是半导体制造过程中最重要的工艺,也是最常用的工艺。
每种工艺都有其优势和劣势,没有一种工艺能够满足所有的应用需求,因此,选择哪种工艺是根据应用的具体要求而定的,没有哪一种工艺是最好的。
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