如果您要做的是一个小型项目,比如清洗和润滑一个小零件,那么干洗方法比较适合。它可以节省能源和材料,耗时更少,也是一个非常安全的方法。
但是,如果您要做的是一个大型项目,比如清洗和润滑一个大型机械零件,那么cmp工艺就是更好的选择。它可以提供更好的清洁效果,更少的残余污染,同时也更安全可靠,而且在这种情况下,它也可以提供更好的成本效益。
INRF:Integrated Nanosystems Research FacilityINRF制定很多wafer clean工艺的标准,安全标准,clean room标准等等有关半导体生产的一系列标准.
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