压印和叠印是一个意思,即一个色块叠印在另一个色块上。不过印刷时特别要注意黑色文字在彩色图象上的叠印,不要将黑色文字底下的图案镂空,不然印刷套印不准时黑色文字会露出白边。
纳米压印技术凭借其高效率、高分辨率以及低成本等优势,吸引了许多科研人员与工程技术人员的关注,MIr的一篇评论甚至称之为有可能改变世界的十大技术之一。纳米压印技术按模板特性主要可分为软压印、热压印及分步式模压曝光三种工艺。
压印是将板料放在上、下模之间,在压力作用下使其材料厚度发生变化,并将挤压外的材料,充塞在有起伏细纹的模具形腔凸、凹处。
而在工件表面得到形成起伏鼓凸及字样或花纹的一种成形方法。如硬币,纪念章等,都是用压的方法成形的。
压印工作,大多数是在封闭的模腔内进行的,以免金属受压后被挤出模外,而对于较大的压印工件,可利用敞开的模腔压制。
工件在压印和压花时,为了使工件质量好,精度高,在坟印前,应首先将坯料进行退火处理,并且还要经过酸洗或喷丸等工序,要事先清洗表面不能有污物。压印成形后的精度,在厚度方向上一般可以达到±0.1mm,最高可达0.05mm左右。
压印的坯料尺寸,可以用压印前后重量相等的原则确定。并且,在印压后需要修边时,应增加必要的修边余量 。
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纳米压印:
纳米压印的发展最初主要是为了解决集成电路线宽突破几十纳米的瓶颈问题,随着压印技术的应用越来越广泛,这种纳米加工工艺也逐步进入其他研究领域。
纳米压印技术是纳米尺寸大面积结构复制的最有前途的下一代技术之一,这种成本低、效率高的纳米结构制作方法已逐渐应用于生物医学、半导体加工和数据存储等领域,因为传统热压印技术和紫外压印工艺存在模板成本高、图形转移不稳定、压印效率低等缺点。
通过对最新压印工艺成果的筛选、分类和总结,给出了纳米压印技术在压印工艺、图形赋形技术和纳米压印技术应用三个方面的最新进展。
压印工艺方面介绍了大面积滚轴压印工艺、紫外压印一光刻联合工艺、快速热压印工艺、气相沉积成型工艺、沉积缩印工艺以及湿法刻蚀缩印工艺;
图形赋形方面介绍了蘸水笔、聚合物笔阵列、喷墨笔、聚合物纳米球以及有规嵌段共聚物5种图形赋形方法;
纳米压印技术应用方面介绍了纳米压印技术在聚合物纳米颗粒、金属纳米套筒、纳米电极阵列以及扫描探针制备中的应用。
这些研究成果极大地促进了纳米压印这一新型纳米加工工艺的发展,使纳米压印技术更加成熟化和多样化,更加具备了产业化应用的价值
大日本网屏此前销售过半导体工艺用清洗装置“SS-3100”等,这些装置都配备了向晶圆表面喷射液体超微粒子的喷射清洗技术“Nanospray2”。不过,32nm以后的工艺方面,随着工艺的微细化,电路图案的尺寸越来越细,使用以前的技术进行喷射清洗时,电路图案遭到破坏的危险性越来越大。比如,在以前的技术中,液滴的大小、喷射速度及喷射方向等不均匀。因此,为确保清洗能力,需要使液滴的大小和喷射速度的平均值保持在一定值以上,这样就会含有尺寸大且喷射速度高的液滴,从而导致图案的损坏。
对此,DNS在继承Nanospray2技术基本思路的基础上,开发出了分别控制液滴大小、喷射速度及喷射方向的“Nanospray Advance”技术。新开发出了可逐粒喷射大小相同的液滴的喷头,利用该喷头抑制了液滴的尺寸、喷射速度及喷射方向的不均现象。由此,可将液滴能量的不均匀性降至1/100左右,并能够在确保清洗能力的同时抑制对电路图案的损坏。喷头可喷射的液滴量为数千万粒/秒。
“Nanospray Advance”清洗技术将在2010年12月举行的“SEMICON Japan 2010”上展出。另外,在此次的SEMICON Japan上,DNS还将把LED及功率半导体用晶圆清洗装置“CW-1500”作为新产品展示,并参考展出高亮度LED用纳米压印装置“XI-1000”。此外,还预定展出“SU-3100”“FC-3100”“SS-3100”等各种清洗装置、闪光灯热处理装置“LA-3000-F”、涂布显像装置“SOKUDO DUO”以及结晶类太阳能电池PSG膜气相清洗装置“RS-C810A/810L”等。
比较忙.。
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