中国唯一一台euv光刻机现状

国产光刻机任重道远。“即使你给图纸，你也做不出一个光刻机。”“就算全国都发展半导体制造，也很难成功。”ASML掌门人、TSMC创始人张忠谋在过去两三年里不止一次公开表示，中国大陆自己无法成功制造光刻机。实际上，严格来说，位于荷兰的ASML公司(ASML)是世界上唯一一家可以生产光刻机的公司，但它只是一家组装公司。大量核心技术来自美国，在ASML的供应链中也有中国公司，如傅晶科技和沃尔特天然气公司。实际上，在光刻机成品方面，上海微电子自2002年成立以来，一直牢牢扎根于低端光刻机市场，90nm及以下工艺的产品一直在稳步出货。公开数据显示，2018年上海微电子出货量约为50-60台，约占大陆市场的80%。所以，以上两人的论断要加上一个前提条件，那就是“先进制造工艺”的光刻机。我们常说的高级芯片是指生产工艺小于28nm的芯片，也就是28\14\7\5\3nm的工艺。这次上海微电子在光刻机举行首个2.5D/3D高级封装交付仪式，标志着中国首个2.5D/3D高级封装在光刻机正式交付给客户，但对于我们目前的卡顿芯片制造来说，只是暗夜中的烛光。“1”和“0”的故事虽然近年来“光刻机”屡见报端，但很少有人提到光刻机主要分为“前路、后路、面板”三类。卡脖子的是前路光刻机，这次上海微电子发布了光刻机。如果把芯片制造比作食品生产，前面的路就是“食品”本身，后面的路就是包装袋。面板制造属于平时想不起来的“调味品”，但它的缺失会直接打击消费者的味蕾，给数字生活调味，因为面板是C端用户最“触手可及”的。因为没有驱动芯片，无论是前端还是后端芯片，C端用户都很难对芯片性能有直观的体验。但是，无论包装和调味品对食品有多重要，如果没有“食品”本身，它的价值就是“0”。所以要想充分体现后通道和面板芯片的价值，首先要有性能优异的前通道芯片。在以前的光刻机制造中，其实光刻机并不是按照“NM”的个数来分类的，而是按照光源的波长来分为436nm光源的“g线光刻机”；具有365纳米光源的“I线掩模对准器”具有248纳米光源的“KrF掩模对准器”193nm深紫外光源的“DUV光刻机”以及13.5nm极紫外光源的“EUV光刻机”，也是目前卡脖子的主打产品。目前上海微电子的产品技术已经触及ArF技术和相应的光刻胶。目前，国内公司如上海新阳、通成新材料、南大光电、景瑞股份有限公司等都已开展研发和生产。其中，南大光电旗下的ArF光刻胶已于2020年底顺利通过客户验证，是国内首个通过产品验证的国产光刻胶。

最近半导体领域之中传来了两个好消息，首先就是华为旗下的哈勃投资了北京科益虹源光电技术公司，并且成为了这家企业的第七大股东。北京科益虹源主营业务是光源系统，而光源系统就是制造光刻机的核心技术之一。同时，北京科益虹源也是全球第三家193纳米ARF准备分子激光器企业。

第二个好消息是，国产光刻机巨头上海微电子目前已经表示，新一代的光刻机会在今年年底或者是明年年初实现量产，而在光源系统之中，采用了与阿斯麦DUV光刻机一样的光源技术，波长突破了193纳米。这就意味着国产代工企业将在今年或者是明年年底就能够实现7纳米工艺的代工水平，并且是在没有阿斯麦光刻机的情况之下。

可以说光刻机领域之中接连传来这两个好消息，对于我们而言，对于国产芯片未来的发展而言，起到了一定推促的促进作用，毕竟一直以来在光刻机领域之中，荷兰的阿斯麦占据绝对的垄断地位，尤其是在极紫外光刻机领域之中，更是处于绝对垄断的地位。

而国内在芯片上的短板就是因为缺少极紫外光刻机，所以导致中国企业没有办法生产出7纳米以及5纳米这样先进制程工艺的芯片。2018年，中芯国际曾经从阿斯麦买订购过一台euv光刻机，但是说到瓦森纳协定的影响，阿斯麦至今都没有出货这台EUV光刻机

后面中兴以及华为的限制使得国内科技企业自主研发的意识被彻底唤醒，于是在这样的情况之下，所有的国内厂商将希望全部中寄托在了中国光刻机企业身上。为了解决这一难题，华为在第一时间就宣布扎根半导体领域，另外，中科院也宣布入局光刻机，并且将光刻机变成科研清单。

好在伴随着时间的推移，如今一个又一个的好消息传来。关于光刻机的两个好消息传来，意味着中国心再次迎来了春天。而这对于阿斯麦来讲当然不是什么好事情。

北大教授曾经说过这样一句话，如果中国依旧拿不到阿斯麦的光刻机，那么在三年之后，中国就将会掌握这项技术，并且一旦中国掌握了这项技术，那么其生产的产本成本一定比任何一个国家都要便宜。

北大教授的这一番话，可以说对于阿斯麦来讲，更是一个重磅炸d，失去中国市场的阿斯买强会面临地位的威胁，如今日本的尼康以及佳能正在不断崛起，挑战这阿斯麦所在的地位，如果中国真的掌握了光刻机技术，那么阿斯麦想要在进入国内市场基本上没有可能，更不要提凭借中国市场稳固其地位的梦想了。

光刻机的问题解决了，那么芯片的问题自然也就不是问题了。早在芯片禁令实施之初，张召忠就曾经公开表示，再过三年，美国的芯片将会无人购买，因为到那个时候，中国的芯片将会到处都是。

如今看起来，张召忠果然没有说错，相信过不了多久，我们在芯片领域也一定会迎来一定的突破，中国芯片在未来一定会拥有更好的发展，而对中国企业实行打压的硅谷，在将来也一定会尝到失去中国市场的苦果。

自从华为被断供以来，光刻机就成为了国人之痛，作为芯片制造过程中，最为核心的重要设备，却一直掌握在国外的手里，如今我们在芯片供应方面被人卡住脖子，就是因为ASML公司无法自由出货，导致我们无法拥有能打造高端芯片的EUV光刻机，比如我国物理学家杨振宁，其实早在几十年前就已经提醒世人，不要将钱浪费在建造对撞机上，而是要将钱放在半导体领域的研发，结果这样的提醒在当时的中国看来，完全就是显得非常多余，因为谁也没有想到如今半导体会成为 科技 发展最重要的支柱，可是真正比EUV光刻机垄断更可怕的 科技 领域，其实还有一个，那就是精密仪器领域，我国在精密仪器领域的市场份额，几乎有90%都被美国和日本所垄断。

确实如此，随着中国 科技 的不断发展，其实我们在很多领域都已经实现领先，这也是为什么现在中国的影响力越来越高，也是为什么国外媒体总是报道中国 科技 发展得越来越好，然而我们不仅在半导体领域被EUV光刻机卡住脖子，同时我们在精密仪器领域也受制于人，所谓的精密仪器就是指面向高端制造装备、生物医学工程和航天国防等重大前沿 科技 领域，是以精密机械、光学、电子、量子技术、计算机等前沿 科技 为手段，来 探索 并研究和设计新原理的高端仪器，从而实现自动化、信息化、智能化的前沿 科技 ，如测量仪器、检测仪器以及精密电子仪器等尖端科学仪器，正是这些仪器我们基本都需要从国外进口，才能满足国内市场所需。

比如截止2021年，我国企业就已经累积投入了3800亿用于仪器进口，很多精密仪器都是花大价钱从国外进口来的，除了为了满足我国国内市场所需之外，同时也是为了拆解后进行科学研究，希望能打破来自国外技术的垄断，然而拆解后才发现技术的精密程度远超人们的想象，这也是为什么我们现在连山寨版都无法实现的具体原因，前几年常常有人说中国是山寨大国，无论国外有什么技术我们总是能模仿并生产，可是如此高端的精密仪器我们却连山寨版都做不出来，这就和EUV光刻机一样，其难度之大是超乎所有人的想象，据可靠数据统计，我国在该领域的自给率连5%都没有达到，几乎有90%以上的精密仪器都是从美国和日本进口的，而且进口的价格还特别的贵。

那么为什么我国连山寨版的精密仪器都无法制造呢？未来要如何打破这种垄断的局面呢？其实高端精密仪器虽然属于冷门行业，但是我国企业也投入了大量精力，甚至可以说投入的力度一点不比在半导体领域小，可是由于该领域的市场规模有限，这也就意味着很多企业是难以生存的，包括行业又自带重资产属性，哪怕是产生了一定的成果也未必会得到市场认可，这也是为什么很多企业不敢投入更多资金去研发的原因，而更加重要的是，科研仪器的研发技术门槛很高，涉及到的基础学科众多，然而我国相关人才又少之又少，这也导致我们企业很难招聘到满意的人才，所以自然也组建不了相应的科研团队，特别是产业链基本集中在美日企业，很多核心技术都掌握在他们手里，想要突破更是难上加难。

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