什么化学剂可以把抛光后的半导体中硅半导体硅片洗干净?

什么化学剂可以把抛光后的半导体中硅半导体硅片洗干净?,第1张

标准的RCA清洗方法:

1 NH3•H2O(氨水):H2O2(双氧水):去离子水=1:1:5浸泡(70~80度)

2 HF:去离子水=1:20浸泡。3 HCL(盐酸):H202(双氧水):去离子水=1:1:5浸泡(70~80度)。

DNS是厂商名字,中文叫迪恩士,就是化学清洗槽(也叫酸槽/化学槽),主要有HF,,H2SO4,H2O2,HCL等酸碱液体按一定比例配置,目的是为了去除杂质,去离子,去原子,最后还有DI清洗。IPA是异丙醇,就是工业酒精,是用来clean机台或parts的,是为了减少partical的。


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