马来西亚再度封国!半导体产业链再遭暴击:产线只能保留20%员工

马来西亚再度封国!半导体产业链再遭暴击:产线只能保留20%员工,第1张

近期马来西亚疫情持续加重。5月28日中午公布的数据显示,24小时内新增确诊感染新冠病毒人数达8290人,再度刷新纪录。而根据预计进入6月,每日新增确诊或将突破1万人。

对此,5月28日晚间,马来西亚政府再度宣布,鉴于国内新冠疫情形势严峻,决定从6月1日开始在全国范围内实施“全面封锁”,暂停经济和 社会 活动,仅开放必要经济和服务领域。第一阶段为期2周,第2阶段将维持4周。

马来西亚首相办公室表示,若在第一阶段能降低每天新增确诊病例,将进到第2阶段,允许一些不涉及大型集会且可能保持社交距离的经济部门重新开放。第3阶段则是禁止社交活动,几乎所有经济领域都可运作,但须遵守严格防疫规定,包括限制到公司上班的人数等。

受马来西亚新的“封国”政策影响,当地的众多半导体工厂产线被要求维持低度人力运作,产线降载。

根据芯智讯此前的报道,资料显示,东南亚在全球封装测试市场的占有率为27%,而其中仅马来西亚就贡献了其中的一半(13%)。根据statista的数据显示,自2015年以来,马来西亚的半导体封测收入呈现出持续快速的增长,2019年已经达到了287.6亿美元。

目前,马来西亚有超过50家大型半导体公司,其中大多数是跨国公司(MNCs),包括英特尔、AMD、恩智浦、德州仪器、ASE、英飞凌、意法半导体、瑞萨、安世半导体、日月光、X-FAB、AVX、佳美工(Nippon Chemicon)、松下、村田等,大都在当地建立了自己的封测或元器件制造工厂。

除了国际厂商以外,马来西亚本土的封测厂还包括Inari、Unisem(2018年已被华天 科技 以29.92亿元收购)等。

另外,中国台湾地区的被动元件厂商华新科、旺诠、奇力新、广宇,在马来西亚也均设有工厂。

受此次马来西亚“封国”影响,预计半导体封测产能以及车用MLCC、芯片电阻、固态电容、铝质电容等元器件将受较大冲击。

据台湾媒体最新报道,上周末在当马来西亚当地设厂的台厂已接获通知。据了解,马来西亚政府要求生产线只能维持10 20%的低度人力运作。业者形容,这几乎等于只是不关机的状态,当地设厂的旺诠估在此月产能有150 170亿颗、华新科旗下的釜屋电机(Kamaya)在此也有150 160亿颗电阻月产能,光这二家台厂位于大马的电阻产能就占全球7.5%。

另外,全球第一大铝电厂日本佳美工、固态电容龙头日本松下在当地的产线已获政府通知,只能维持60%的人力运作,预估将影响铝电产能达2 3成,尤其松下将绝大多数产能保留给 游戏 机,导致固态电容严重供不应求,造就固态电容今年以来为数不小的涨价幅度。

日商村田在大马当地则有MLCC及电感厂,然MLCC产能比重不高,村田在日本境内有37处基地可以进行产能调配,因此业界预期,这一次马来西亚封城对村田的影响不致太大。

业界分析,国巨、大毅有望迎接转单效应,尤其美商AVX虽是全球第二大钽电厂,但是该公司的大马槟城厂是旗下最尖端的MLCC旗舰工厂,以车用MLCC为主力,月产能约数十亿颗,今年2月已经停工过一次,如今再面临产线降载压力,则国巨旗下的基美有机会迎接转单。

值得注意的是,这并不是马来西亚第一次封城,在2020年第一度“封国”之时,就有为数不少的厂商以专案申请的方式,维持最低限度的产出,并靠库存苦撑。但是今年这一波印度变种病毒更为凶猛,围堵更为不易,马来西亚政府对于专案放行的态度恐转趋严厉。在目前全球全球晶圆制造及封测产能持续紧缺的背景之下,将使全球缺芯问题雪上加霜。

一直以来,半导体行业都是国内产业生产的薄弱之处,很多技术都依赖于外企。

像EUV光刻机、芯片核心制造技术以及高端光刻胶等方面,但同样我们在芯片设计、封测技术等方面也占据了世界前列的位置。

如今,随着局势的变化,华为因芯片断供产生的后续影响已经初步显现,它让国产其他相关企业认识到只有自己掌握了核心技术才能避免在这些方面受到技术上的"卡脖子"。

11月13日,根据新浪 财经 最新报道,国内光刻胶领域迎来好消息,对于国内7nm芯片制造或可迎来重大突破。消息显示,国内宁波南大光电材料有限公司已正式宣布,首条ArF光刻胶生产线已经正式投入生产,预计项目完成后年销售额达10亿元。

目前该公司已经将生产出来的ArF光刻胶样品送至客户手中进行测试,如果测试成功,那么该公司将迎来更多ArF光刻胶方面的订单。

或许有小伙伴不太了解ArF光刻胶。

光刻胶在芯片生产中起到很关键的作用,可以说它是集成电路产生制造中的核心材料,对于芯片最终呈现的质量和性能方面都有很大的影响,因而光刻胶的成功对于生产制造芯片也有很大的帮助。

目前来说,虽然国内不乏有主营光刻胶的企业,但在ArF光刻胶这样的高端种类却几乎100%依赖于外企,而ArF光刻胶在对于28nm-7nm工艺芯片的生产起到至关重要的作用,因而可以说这一次在ArF光刻胶上的突破也预示着在7nm芯片制造上迎来突破!

根据资料显示,目前高端光刻胶主要集中于美企和日企手中,所占份额达全球光刻机份额的95%,而这一次宁波南大光电材料有限公司在ArF高端光刻胶中的突破也预示着国产半导体的逆势崛起,将打破美日企业在高端光刻胶领域上的垄断。

不过,想要避免外资企业在技术上的垄断,光靠一家公司明显后劲不足,但就如今的发展趋势来说,目前国产半导体相关企业已经纷纷在各自的领域中寻找突破之路。

上海微电子、上海华虹半导体、晶瑞股份等公司在芯片生产工艺上以及光刻机上等方面寻求突破口,照这样的趋势发展,未来国产半导体行业将迎来新生!

美、日将联手研发2nm芯片

美、日将联手研发2nm芯片,日美两国将启动次世代芯片(2纳米芯片)的量产研发,力拼在2025年量产,此时间点也与台积电、三星所喊出的2纳米目标一致。美、日将联手研发2nm芯片。

美、日将联手研发2nm芯片1

目前全球能做到2nm工艺的公司没有几家,主要是台积电、Intel及三星,日本公司在设备及材料上竞争力有优势,但先进工艺是其弱点,现在日本要联合美国研发2nm工艺,不依赖台积电,最快2025年量产。

日本与美国合作2nm工艺的消息有段时间了,不过7月29日日本与美国经济领域有高官会面,2nm工艺的合作应该会是其中的重点。

据悉,在2nm工艺研发合作上,日本将在今年内设立次世代半导体制造技术研发中心(暂定名),与美国的国立半导体技术中心NSTC合作,利用后者的设备和人才研发2nm工艺,涉及芯片涉及、制造设备/材料及生产线等3个领域。

这次的研发也不只是学术合作,会招募企业参加,一旦技术可以量产,就会转移给日本国内外的企业,最快会在2025年量产。

对于日美合作2nm并企图绕过台积电一事,此前台积电方面已有回应,台积电称,半导体产业的特性是不管花多少钱、用多少人,都无法模仿的,要经年累月去累积,台积电20年前技术距最先进的技术约2世代,花了20年才超越,这是坚持自主研发的结果。

台积电不会掉以轻心,研发支出会持续增加,台积电3nm制程将会是相当领先,2nm正在发展中,寻找解决方案。

美、日将联手研发2nm芯片2

现在全球最先进的芯片约有9成是由台积电生产,各国想分散风险以确保更稳定的供应,像是日本与美国将在半导体产业进行合作,日经新闻29日报道,日美两国将启动次世代芯片(2纳米芯片)的量产研发,力拼在2025年量产,而此时间点也与台积电、三星所喊出的2纳米目标一致。

报道指出,日美强化供应链合作,日本将在今年新设一个研发据点,其为和美国之间的窗口,并将设置测试产线,值得注意的是,日美也将在本月29日,于华盛顿首度召开外交经济阁僚协议“经济版2+2”,上述2纳米合作将纳入该协议的联合声明。

报道提到,日本将在今年新设次世代半导体制造技术研发中心,并将活用美国国立半导体技术中心的设备和人才,着手进行研发。因美国拥有Nvidia、高通等企业,而在芯片量产不可或缺的.设备、材料上,日本企业包括东京威力科创、Screen Holdgins、信越化学、JSR等拥有很强的竞争力,为日美合作奠下基础。

报道称,全球10纳米以下芯片产能,台湾市占率高达9成,台湾企业也计划在2025年开始生产2纳米芯片,不过日美忧心台海冲突恐升高,两国的目标是即便“台湾有事”,也能确保先进芯片的供应数量。

美、日将联手研发2nm芯片3

据媒体报道,日美两国将通过经济协商,就确保新一代半导体安全来源的共同研究达成协议。7月29日,日本外务大臣林吉正(Yoshimasa Hayashi)和贸易大臣萩生田光一(Koichi Hagiuda)将在华盛顿与美国国务卿布林肯(Antony Blinken)和商务部长雷蒙多(Gina Raimondo)举行第一轮经济“二加二”会谈,预计供应链安全将是一个主要议题。

据悉,日本将于今年年底建立一个联合研发中心“新一代半导体制造技术开发中心(暂定名)”,用于研究2纳米半导体芯片。该中心将包括一条原型生产线,并将于2025年开始量产半导体。建立该中心的协议将列入会议结束后发表的声明中。报道还表示,产业技术综合研究所、理化学研究所、东京大学将是新中心的参与者之一,其他企业也可能被邀请参与。

从产业链来看,美国和日本在半导体领域中有很强的互补性。上世纪80-90年代,日本半导体在美国的打压之下,其半导体制造环节基本从全球半导体制造格局中退出,转而布局上游半导体材料和设备。目前日本在半导体材料和半导体设备领域两大环节拥有优势,特别是半导体材料领域的“垄断”地位。

代表性企业为大硅片(日本信越、Sumco)、掩膜版(日本DNP、Toppan)、光刻胶(日本JSR、东京应化、富士电子材料)、溅射材料(日矿金属、日本东曹、住友化学等)。

美国则在半导体设备业在全球同样处于垄断地位,拥有除光刻机以外几乎所有的设备生产能力,如应用材料。在EDA工具、IP及计算光刻软件等领域,美国处于绝对垄断地位,主要为Cadence、Synopsys、Siemens EDA三大巨头垄断。

整体来看,美国和日本在半导体材料、设备、设计领域占据优势,加之两国“紧密”的政治关系,在先进芯片工艺研发上有先天的优势与基础。在很大程度上,对美国提出“四方芯片联盟”,美日两国有最“坚定”的政治可能和经济基础。

至于为什么急于发展2纳米先进工艺,主要有以下两点:一是芯片是所有高科技产业的“底座”,是综合国力竞争的制高点,加之疫情以来的芯片短缺,让美日进一步认识到半导体制造的重要性;二是东亚晶圆代工实力强劲,规模庞大,除了台积电、三星之外,中国大陆芯片代工发展迅速,比如中芯国际、华虹半导体;三是推动高端产业链本土化回迁,掌控科技竞争主动权。


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