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因为N型半导体的功函数小于金属的功函数,所以当N型半导体与金属接触时,N型半导体中的电子将向金属一边转移,结果就造成半导体表面空间电荷区中有正电荷,在金属表面(界面)上有负电荷,从而产生一个由半导体指向金属表面的电场。.....可参见“http://blog.163.com/xmx028@126”网页中的有关说明以及百度百科中的“pn结势垒”词条。半导体的迁移率比金属高,但内部会感应出反向电荷,出现电位移,形成逆向场。而金属导体内部场强处处相等,宏观上电流比半导体强,所以金属导电性更好。迁移率代表电子定向运动的速度,而不是电流强度。您好,小子不才,愿尝试为您解答。(1)半导体禁带宽度不变,导带向上弯曲,价带自然向上弯曲;既然是N型半导体,空穴就是少子,它的变化可以忽略。纠结它的能量变化没什么意义。(2)稳定之后的系统,费米能级是水平的,不是弯曲的。空间电荷区外应该具体一点。如果是半导体内部,费米能级是水平的,Efs没有弯曲,保持电中性。如果是金属一侧,Efm也是与Efs在一条水平线上,也没有弯曲。费米能级对x的变化率与nu的积等于电流密度。
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