中国唯一一台euv光刻机现状

国产光刻机任重道远。“即使你给图纸，你也做不出一个光刻机。”“就算全国都发展半导体制造，也很难成功。”ASML掌门人、TSMC创始人张忠谋在过去两三年里不止一次公开表示，中国大陆自己无法成功制造光刻机。实际上，严格来说，位于荷兰的ASML公司(ASML)是世界上唯一一家可以生产光刻机的公司，但它只是一家组装公司。大量核心技术来自美国，在ASML的供应链中也有中国公司，如傅晶科技和沃尔特天然气公司。实际上，在光刻机成品方面，上海微电子自2002年成立以来，一直牢牢扎根于低端光刻机市场，90nm及以下工艺的产品一直在稳步出货。公开数据显示，2018年上海微电子出货量约为50-60台，约占大陆市场的80%。所以，以上两人的论断要加上一个前提条件，那就是“先进制造工艺”的光刻机。我们常说的高级芯片是指生产工艺小于28nm的芯片，也就是28\14\7\5\3nm的工艺。这次上海微电子在光刻机举行首个2.5D/3D高级封装交付仪式，标志着中国首个2.5D/3D高级封装在光刻机正式交付给客户，但对于我们目前的卡顿芯片制造来说，只是暗夜中的烛光。“1”和“0”的故事虽然近年来“光刻机”屡见报端，但很少有人提到光刻机主要分为“前路、后路、面板”三类。卡脖子的是前路光刻机，这次上海微电子发布了光刻机。如果把芯片制造比作食品生产，前面的路就是“食品”本身，后面的路就是包装袋。面板制造属于平时想不起来的“调味品”，但它的缺失会直接打击消费者的味蕾，给数字生活调味，因为面板是C端用户最“触手可及”的。因为没有驱动芯片，无论是前端还是后端芯片，C端用户都很难对芯片性能有直观的体验。但是，无论包装和调味品对食品有多重要，如果没有“食品”本身，它的价值就是“0”。所以要想充分体现后通道和面板芯片的价值，首先要有性能优异的前通道芯片。在以前的光刻机制造中，其实光刻机并不是按照“NM”的个数来分类的，而是按照光源的波长来分为436nm光源的“g线光刻机”；具有365纳米光源的“I线掩模对准器”具有248纳米光源的“KrF掩模对准器”193nm深紫外光源的“DUV光刻机”以及13.5nm极紫外光源的“EUV光刻机”，也是目前卡脖子的主打产品。目前上海微电子的产品技术已经触及ArF技术和相应的光刻胶。目前，国内公司如上海新阳、通成新材料、南大光电、景瑞股份有限公司等都已开展研发和生产。其中，南大光电旗下的ArF光刻胶已于2020年底顺利通过客户验证，是国内首个通过产品验证的国产光刻胶。

中国的半导体产业虽然谈不上落后，但也算不上先进，有像华为海思这样闻名全球的芯片公司，也有崭露头角的汇顶 科技 、紫光展锐这样的芯片公司。但整个半导体产业链其实是非常庞大的，中国的芯片公司主要只是掌握了设计。

整个半导体产业链规模是十分庞大的， 从EDA到芯片设计、芯片制造，到最后封装测试，所涉及到的公司不计其数。 而在中国大陆，半导体产业主要存在于芯片设计这块，我上面提到的华为海思便是主要做芯片设计，并未参与到制造过程中。

中国的芯片公司把产品设计出来后再交给代工厂生产，如咱们熟悉的台积电，不仅是麒麟系列芯片的代工厂，还是苹果A系列芯片的代工厂，也就是说， 台积电是芯片设计公司的上游供应商，而在台积电的上面，还有更上一级的供应商，那就是半导体设备商。

整个半导体制造产业中，最核心的设备就是光刻机， 因为缺少了光刻机，中芯国际目前仅取得了14nm工艺进展。 相比之下，台积电已经在量产5nm、规划3nm工艺了，所存在的差距确实是巨大的。不过现在好消息传来了，中国已经开始追赶了。

投影物镜、工件台和光源，这是制造光刻机的三大核心子系统，对自主生产光刻机有着至关重要的作用。 早在2001年的时候，荷兰光刻机公司ASML就生产出了双工件台系统， 极大的提升了光刻机的产能，从原本单工件台的80片/时，提升到了270片/时。

就在那时候，ASML已经把光刻机的分辨率已经推进到0.1微米，而中国光刻机分辨率还处于0.8到1微米，而且缺乏产业化，主要研制单位都是研究所。ASML双工件台系统的推出，引起了清华大学机械工程系教授朱煜的关注。

朱煜当时就认定，中国必须掌握这样的顶尖技术，因为这是强大的技术壁垒，双工件台称得上是半导体产业中一个世界级的难题。 在这样的背景之下，朱煜参与了“十五”、“863”IC装备重大专项的规划工作，2004年便研制出了10纳米同步精度的超精密运动平台。

但在后续的研发过程中，朱煜团队又陷入到了瓶颈之中，从2004到2008年，团队一度因为研发经费不足而几乎停滞，好在2009年“02专项”开始实施，团队才再次获得科研经费，从这时开始，朱煜团队开始重点研发双工件台。

为了加快产业化进程，2012年朱煜等人成立了华卓有限，也就是如今的华卓精科，经过长达8年的努力，朱煜团队终于开始收获回报了。 2016年华卓精科研制成功两套α样机，这也是“02专项”光刻机项目群中，首个通过正式验收的项目。

如今在朱煜等人带领下的华卓精科，成功 打破了ASML长达20年的双工件台垄断， 成为了全球第二家掌握高端光刻机双工件台的企业。按照计划， 华卓精科将于2021年生产可用于浸没式28nm光刻机的DWSi系列双工件台，朱煜表示，这款产品的售价约为6000万元。

目前华卓精科已经拿下了上海微电子的订单，公司的工件台已经于2020年4月供货。不过摆在华卓精科面前的难题依然艰巨，因为这家公司目前仅有上海微电子一家客户，而全球三大光刻机厂商尼康、佳能和ASML的高端工件台均为自主研发。

需要注意的是，尼康、佳能和ASML合计占据全球超过90%的光刻机份额，华卓精科基本上没有任何机会向这三家企业销售工件台。三家公司也都一致地认为，工件台属于核心技术，不对外销售，因此才使得华卓精科成为了上海微电子工件台的唯一供应商。

总之摆在华卓精科面前的难题依然很严峻， 首先是客户单一化，成为了企业营收最大的难题；其次上海微电子主要生产SSX600和SSX500 两个系列的光刻机，只能满足90nm工艺需求， 对于日渐提升的半导体产业而言，意义还是很有限的。

所以中国自主光刻机能否实现更进一步的突破，还得看后面上海微电子能够做得怎么样。 据悉，上海微电子的28nm光刻机即将于2021年交付，其中华卓精科的工件台起到了非常重要的作用。 真心希望如外界所言，国产光刻机能够在2021年迎来新的突破！

哈喽，大家好，我是钻石老狗

一直以来，华为的消息无时无刻不牵动着国人的心。作为在全球市场仅次于苹果的国产手机品牌，在如日中天之际，遭受外邦莫须有的罪名打压排挤。

在美帝的长臂管辖下，世界各个芯片公司都不敢把芯片和光刻机卖给华为。

甚至在前不久就有消息传出，因为芯片问题长期得不到解决，华为要把手机业务给出售...

华为难道真的就这样倒下了吗？

时间来到11月7日上午，中国进口博览会上，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）全球副总裁、中国区总裁沈波表示，

该公司对向中国出口集成电路光刻机持开放态度 ， 对全球客户均一视同仁 ， 在法律法规框架下，都将全力支持。

沈波透露，2020年第二、第三季度，公司发往中国大陆地区的光刻机台数超过了全球总台数的20%。

这些话的言外之意，就是说，“不是我不想卖光刻机，只不过碍于美帝的限制，将来如果限制解除了，还是很乐意来大陆做生意的，要怪就怪美帝不让我卖，别怪我”。

我真的忍不住想插句嘴，这真的是生意人的老套路了，墙头草，风往哪吹往哪倒。

目前国内已经开始重视芯片制造行业，一旦国内的光刻机崛起，或者中美关系缓和（拜登如果赢得大选，很有可能），到时候荷兰反而尴尬了。

而后面所说的往中国大陆地区交付的数量占全球20%的光刻机，其实都是些已经落后了三五年内的设备，最多只能生产20mm，14mm工艺的芯片。

真正高端的极紫外光刻机，此前我国曾找ASML花10亿订购过一台，双方合同都已经签了，但是在华为最需要光刻机的时候，这家公司拒交了...

而且在拒交的时候，这家公司的总裁曾表示， 中国永远无法复制出光刻机，因为它太复杂了。

再到现在这次进口博览会上ASML公司的发言，可以说是求生欲满满。

世界首富比尔盖茨这个小坏坏曾经说过，应该开放技术让咱们用，要不然人家就自己研究了，等他们有了，你们的东西就不值钱。

大鹏一日同风起，扶摇直上九万里！

现在我国正以举国之力去发展半导体行业，中科院甚至都立下军令状说光刻机将是下一步的头号科学攻关任务，定下时间表，什么时间以内要达到什么程度，而且这个任务期限很短，就是这三五年的事儿。

这说明中科院其实是心里有底的，而且是能做到的。

可以预见的是，2020年将是国内芯片制造行业技术井喷式发展的元年。

大禹治水、愚公移山、三峡大坝，港珠澳大桥，两d一勋，航母，芯片...

从古至今，我们都从来不自称是一个幸运的民族，古时和天斗，与地争，我们赢了。

现在，我们的对手是把人分为三六九等傲慢的资本列强，只是我希望我们的对手明白一件事，细细品一下世界史，

古往今来

牌桌上的牌，换了一副又一副

牌桌上的规则，换了一次又一次

牌桌上的玩家，换了一个又一个

连牌桌都不知道换了多少张了

而五千年来，我们一直在牌桌上，我们的对手，却早已换了一轮又一轮。

芯片没有，自己造，只要有足够的时间，就没有什么能难倒我们，千磨万击还坚劲，任尔东西南北风，这就是中国人的韧性！

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