光刻机性能指标是什么？

光刻机采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。那么光刻机性能指标是什么呢？1、 光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。 2、 分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。 3、 对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。 4、 曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。 5、 曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等。 以上就是给各位带来的关于光刻机性能指标是什么的全部内容了。

光刻胶的要求比光刻机的要好

光刻胶是光刻机研发的重要材料，换句话说光刻机就是利用特殊光线将集成电路映射到硅片的表面，如果想要硅片的表面不留下痕迹，就需要网硅片上涂一层光刻胶。

简单的说光刻胶是用于保护硅片的，光刻机是用来制作芯片的。光刻胶的性能指标要求极高，如感光的性能、抗蚀性、表面的张力等。

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