英特尔pcd是什么部门

英特尔pcd是什么部门,第1张

英特尔pcd是英特尔的一个事业部门也就是类似于企业的某个事业线,主要是研发个人电脑和智能设备的部门。英特尔是半导体行业和计算创新领域的全球领先厂商,正转型为一家以数据为中心的公司。英特尔与合作伙伴一起,推动人工智能、5G、智能边缘等。

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焊接

线路板焊接机理

采用锡铅焊料进行焊接的称为锡铅焊,简称锡焊,其机理是:在锡焊的过程中将焊料、焊件与铜箔在焊接热的作用下,焊件与铜箔不熔化,焊料熔化并湿润焊接面,依靠焊件、铜箔两者问原子分子的移动,从而引起金属之间的扩散形成在铜箔与焊件之间的金属合金层,并使铜箔与焊件连接在一起,就得到牢固可靠的焊接点,以上过程为相互间的物理一化学作用过程。

线路板焊接特点

焊料熔点低于焊件。

焊接时将焊料与焊件共同加热到焊接温度,焊料熔化而焊件不熔化。

焊接的形成依靠熔化状态的焊料浸润焊接面,从而产生冶金、化学反应形成结合层,实现焊件的结合。

铅锡焊料熔点低于200℃,适合半导体等电子材料的连接。

只需简单的加热工具和材料即可加工,投资少。

焊点有足够强度和电气性能。

锡焊过程可逆,易于拆焊。

线路板锡接条件

一、焊件具有可焊性

锡焊的质量主要取决于焊料润湿焊件表面的能力,即两种金属材料的可润性即可焊性。如果焊件的可焊性差,就不可能焊出合格的焊点。可焊性是指焊件与焊锡在适当的温度和焊剂的作用下,形成良好结合的性能。不是所有的材料都可以用锡焊实现连接的,只有部分金属有较好可焊性,一般铜及其合金、金、银、锌、镍等具有较好可焊性,而铝、不锈钢、铸铁等可焊性很差。一般需要特殊焊剂及方法才能锡焊。

二、焊件表面应清洁

为了使焊锡和焊件达到良好的结合,焊件表面一定要保持清洁。即使是可焊性良好的焊件,如果焊件表面存在氧化层、灰尘和油污。在焊接前务必清除干净,否则影响焊件周围合金层的形成,从而无法保证焊接质量。

三、合适助焊剂

助焊剂的种类很多,其效果也不一样,使用时应根据不同的焊接工艺、焊件的材料来选择不同的助焊剂。助焊剂用量过多,助焊剂残余的副作用也会随之增加。助焊剂用量太少,助焊作用则较差。焊接电子产品使用的助焊剂通常采用松香助焊剂。松香助焊剂无腐蚀,除去氧化、增强焊锡的流动性,有助于湿润焊面,使焊点光亮美观。

四、合适焊接温度

热能是进行焊接不可缺少的条件。在锡焊时,热能的作用是使焊锡向元件扩散并使焊件温度上升到合适的焊接温度,以便与焊锡生成金属合金。

五、合适焊接时间

焊接时间,是指在焊接过程中,进行物理和化学变化所需要的时间。它包括焊件达到焊接温度时间,焊锡的熔化时间,焊剂发挥作用及形成金属合金的时间几个部分。线路板焊接时间要适当,过长易损坏焊接部位及器件,过短则达不到要求。

线路板焊接方式

关于线路板的焊接方法,小批量的焊接方法,多采用手工焊接方式,对于大批量的电子产品生产,则采用浸焊与波峰焊的办法.

线路板焊接设备

在整个焊接过程中,使用手工焊接方法,使用的工具多为电烙铁,电烙铁分为外热式电烙铁和内热式烙铁.在批量的线路板焊接过程中,使用的设备为:波峰焊机.

PVD(Physical Vapor Deposition)---物理气相沉积:指利用物理过程实现物质转移,将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。

CVD是Chemical Vapor Deposition的简称,是指高温下的气相反应,例如,金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解,氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法。

PVD技术出现于,制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。最初在高速钢刀具领域的成功应用引起了世界各国制造业的高度重视,人们在开发高性能、高可靠性涂层设备的同时,也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了更加深入的涂层应用研究。

与CVD工艺相比,PVD工艺处理温度低,在600℃以下时对刀具材料的抗弯强度无影响;薄膜内部应力状态为压应力,更适于对硬质合金精密复杂刀具的涂层;PVD工艺对环境无不利影响,符合现代绿色制造的发展方向。

当前PVD涂层技术已普遍应用于硬质合金立铣刀、钻头、阶梯钻、油孔钻、铰刀、丝锥、可转位铣刀片、车刀片、异形刀具、焊接刀具等的涂层处理。

扩展资料

CVD例如,金属卤化物、有机金属、碳氢化合物等的热分解,氢还原或使它的混合气体在高温下发生化学反应以析出金属、氧化物、碳化物等无机材料的方法。

这种技术最初是作为涂层的手段而开发的,但不只应用于耐热物质的涂层,而且应用于高纯度金属的精制、粉末合成、半导体薄膜等,是一个颇具特征的技术领域。

其技术特征在于:

⑴高熔点物质能够在低温下合成;

⑵析出物质的形态在单晶、多晶、晶须、粉末、薄膜等多种;

⑶不仅可以在基片上进行涂层,而且可以在粉体表面涂层,等。特别是在低温下可以合成高熔点物质,在节能方面做出了贡献,作为一种新技术是大有前途的。

参考资料来源:百度百科-PVD

参考资料来源:百度百科-CVD


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