关于半导体物理的mis结构问题

MOS为Metal-Oxide-Semiconductor 对应的为 金属-氧化物-半导体，MOS管又有P型MOS管和N型MOS管之分，MOS管构成的集成电路叫MOS集成电路，PMOS管和NMOS管互补共同构成的MOS集成电路叫CMOS集成电路 Complementary Metal Oxide Semiconductor，互补金属氧化物半导体。BIOS 为Basic Input Output System，基本的输入输出系统，它是为计算机提供最底层，最基本的硬件设置和控制。在计算机中CMOS的作用主要作为RAM存放BIOS的相关设置，你可以发现每块主板上都有一块纽扣电池，就是给CMOS供电的，如果将电池卸下，BIOS设置被重置，CMOS中的信息丢失。

MIS结构中，S层（半导体层）表面存在大量表面态，造成费米能级钉扎效应。因此费米能级不变。而PN结中结区几乎无表面态（同质PN结理论上无表面态，异质PN结会有）。费米能级钉扎效应的具体解释，见百度百科，链接如下： http://baike.baidu.com/link?url=onmx5OQ1KsPZNxMUMKooxuhA0ZyUfdnQkqTbkbBkr4tVMUMC61xq6Yo4Te6tnjhrIK4JDGcZ_JWaYjcn-TuyJa

取决于M I S的三个的费米能级，S的掺杂是P型还是N型，金属的费米能级就是功函数，这个和二极管原理一样的。 把三个费米能级计算出来，平移下就可以了，所有的Ef在你条直线上，把其它能级用曲线连接起来就好了。能级计算 Ei-Ef=kt/q*ln(Na/Ni)

---