半导体废气怎么处理?半导体废气治理有哪些好办法?

半导体废气怎么处理?半导体废气治理有哪些好办法?,第1张

√ 楼主您好,根据您提出的问题,下面为您做详细解答:

半导体行业中使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量有机物成分,在工艺过程中,这些有机溶剂大部分通过挥发成为废气排放。其废气的主体是VOCs,同时废气中还混合了HCl、氨、HF等危险污染物,分离和处理难度比较大。

半导体废气治理办法

半导体酸废气处理通常采用碱液体喷淋法,又称化学洗涤法。因液体自身具有的溶解特性,可以更好地捕捉沉降,溶解去除污染物,而达到大气排放标准,故喷淋法是半导体行业酸碱废气治理普遍采用的主要处理方法。

希望此次回答对您有所帮助!

医疗器械清洗的实际效果好坏与病人的生命健康、医院内感染及医疗护理的质量有着密切的关系。清洗是医疗器械再处理流程中(回收利用、归类、清洗、消毒杀菌、检验、包装、储存、发放)的关键步骤,都是医疗器械从污染到整洁的主要环节。

因而清洁变成医疗机械再处理方式中消毒和灭菌前最关键的一个环节。恰当的清洗处理方式、科学合理的清洁方法,科学合理的清洗流程及其清洗机械正确的实际 *** 作可获得如下所示优势:

彻底消除器械表层的污渍和微生物菌种,防止生物膜产生,确保除菌品质;

确保医疗机械清洁,为除菌器械给予无菌检测确保;

可最大程度地降低器械的受腐蚀性水平;

可最大程度地降低作业人员被感染的好机会;

以免引起环境中的环境污染。

01消除有机化合物

清洁环节中消除附着在医疗机械里的有机物是最艰难的,其作用好于消毒和灭菌,由于有机物的存有会影响到医疗机械的进行消毒与除菌,一切残余的大分子物质如血块、脓、蛋白、黏液、油渍等都可以防碍微生物菌种与除菌媒体合理有效触碰,且也会产生病菌的防护膜从而影响除菌实际效果,造成化学消毒,汽体、蒸气、暖空气、及其低温灭菌失败。

医疗机械在清洁环节中,对可多次重复使用的腹腔镜、喉镜、肠胃镜、手术刀和手术针、牙科手等医疗机械,1个至关重要的阶段是清洁除去有机化合物,以免引起严重的疾病人感染及其器械特性衰退。针对一次性创伤假体、正骨螺丝、脊柱假体、扭簧、输血波纹管、x光线靶和射线管等医疗机械/原材料务必能证明临床污染物质被有效地除去而且没有活体微生物菌种。

依据器械种类和特性的差异,针对耐高温、耐湿湿的器械与物件可采取机械设备清洁,针对高精密繁杂的器械可采取人工清洁。为确保清洁实际效果,通常采用人工(预)清洁+机械设备清洗的融合方法。

02人工(预)清洁

人工(预)清洁,则在CSSD中用以机洗前预备处理以及对干枯污渍的润湿解决。主要用于机械设备清洁前预湿热泡浸及其不可以选用器械清洁方法处理的器械。

正确预泡浸能降低清洁难度系数,世界各国十分重视预泡浸实际 *** 作,国内大部分医疗机构都是有该流程。主要用于高精密、繁杂器械的清洗和有机物污染比较严重器械的基本解决。仔细观察多种多样清洁方法的清洗实际效果,发觉对表面光洁的器械选用人工清洁,既能确保清洁品质,又可节约清洗费用和提高效率。

对构造繁琐的器械能拆卸的构件务必拆卸,细心清洗管道、间隙、齿槽及骨关节等地方,应选用不同种类和大小的软刷先人工基本清洗,除去大的污渍,再换清洗机清洁,以保证清洁实际效果。

清洗剂层面,选用多酶清洗剂,不容易造成蛋白质变性,有利于降低器械表层的污染物质负载。中性清洗剂对金属材料耐腐蚀;碱性清洗剂面对各种有机化合物有良好的除去作用,对金属材料腐蚀性小,不容易加速返锈。

03机械设备清洁

机械设备清洁常见医用超声波清洗机,是医疗机构必不可少的机器设备。也主要是用于医疗行业、科研机构、药业公司的专用型清洗机械。主要用于金属材料器械、玻璃容器等硬质器械(但是不适合橡胶和软塑类材料器械清洁)。

医用超声波清洗机可为预清洗完后的器械做彻底清洁,做到人工清洁到的地方,例如器械的盲区。同时又是传统方法高压蒸汽对医疗机械进行清洗除菌的替代解决方法,很多现代医疗机械中常用的光纤元件,不可以用高压蒸汽清洗,由于高温会毁坏它们。医用超声波清洗机可以达到高压蒸汽清洗无法达到的最繁杂表层,及其假体内部的每一个表层。

医用超声波清洗机做为超声波清洗机器设备在医院里专业应用领域,解决环境污染器械的清洗、漂洗、上油、烘干等,有之较基本超声波清洗机器设备无法比拟的技术特征。适合于微创手术器械、基础器械、麻醉器械、各种专科器械等有关医疗机械的清洗、预进行消毒、干躁等处理,清洁实际效果好于现有的超声波清洗机和喷淋清洗剂等。

04清洁案例

超声波水基清洗机械可以实现医疗机械零件的彻底浸没式清洁。清洁,钝化处理及其净化处理等工序都可集成化于清洁工作中,以适应更加严格洁净度规范。如髋关和膝盖骨假体必须有效的清洗方案以彻底除去微生物菌种体。多槽超声波水基清洗系统能够满足这样的要求,该系统具有过滤、持续级联溢流漂洗、自动搬运、数据追溯、除菌等作用并配置100%烘干设备。

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连续振荡 振幅及频率是固定的 可强力清洗。由驻波作用使清洗不均,应增加摇动,达到清洗均匀性。

加宽调制 振幅变化 有良好的脱气效果,对不同物体清洗性好,噪声大。

频率调制(FM振荡) 振荡频率实行数千赫的变化 能均匀地清洗。清洗效率差,平均输出功率低。

同时多频率 多种频率同时发生 形成均衡的声场,清洗均匀,不易得到强力的超声波。

多频率交替 每一种频率发生复数个频率 清洗均衡,不易得到强力清洗。

圆锥形辐射清洗 用不锈钢制成的共振体进行超声波辐射。一般在清洗不充分场合使用 可获得常规超声波10倍或20倍的强度,性能高。 但清洗面小,噪声大

清洗条件的选择设定主要有以下数点。

·清洗位置:将清洗物置于驻波压力最大的位置,可获得最佳的清洗效果。但是比驻波大的物体清洗时,易产生清洗不均,这时应将物体在上下数十毫米内加以摇动,这是减少清洗不良的常用方法。

·由网孔引起的衰减:在清洗小型另件时,多使用网篮方式,网篮网孔的大小不当,会造成超声波衰减,使清洗力降低,例在28KHZ场合,网篮的网孔直径需在5mm以上,才可正常清洗。如小的螺钉清洗时,网孔最小要做到1mm,如果衰减大,使用0.1-0.5mm的薄板网蓝,也可得到正常清洗效果。

·频率:对于频率因素涉及的清洗效果,大体可这样认为,采用频率低的针对较难清洗的污垢,频率高的,适合于精密清洗场合。

·液体温度:随着液温的上升,液中生存的气泡会遮断声波,使超声波减弱,但是在常规做法上都以提高液温来增加清洗能力。适合的液温要针对不同的清洗液和清洗物来确定,一般场合液温在5060℃比较适当。

清洗工序和清洗装置

清洗工序的设定要根据污染的类型,污染程度,处理批量来决定,譬如,眼镜片的清洗一般要10个工序。在使用水系清洗剂时,最基本的工序制定如下:

超声波清洗(水系清洗剂)→超声波清洗(纯水、自来水)→脱水 (干燥)

干燥处理对清洗物的清洗性优劣非常重要,常见的干燥方法有热风干燥、通风干燥、真空干燥、离心脱水干燥、IPA提升干燥等,可按照生产批量、成本、产品精度、被洗物形状等加以选择。

工业用超声波清洗机多为单槽或双槽式、自动清洗形式的清洗机也有多槽形式。近年来,半导体行业用的清洗方式大多采用带950KHZ超声槽的单枚式“US喷淋”高频清洗,可得到高性能的清洗结果,“US喷淋”的方式是将载有950KHZ超声波所形成的水帷幕,用于液晶玻璃、电路芯片的超精密清洗,尘粒子可接近“零”的程度。

今后不同产品的湿式清洗,如需100%地发挥清洗剂的性能作用,对超声清洗装置将会提出更高的要求。


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