我国已研发出5nm光刻技术，该技术能否真正投入生产使用？

就是最近我们国家的中科院在5纳米激光光刻的技术上面有了成功的突破，不过这个消息出来以后，有的媒体对这件事情解读就太过于荒诞了，在这里有必要要说清楚一些情况。

技术层面的突破是一件好事，可是纸面上的技术要运用到实践上面，还是需要一个很长的流程，而且没有更多的产业链支持也无法完成。就好比你造一个冰箱一样，你有造冰箱的技术，可是冰箱的整体框架总需要人加工吧，还有其他一些细小的零部件，总需要人提供吧。这些都是需要一条产业链的支持，不是有技术就可以的，产业链里其他的生产技术达不到。那也无法去完成。

而且这样的技术，虽然已经在理论上面有所突破，可是还得需要在实践过程中累积经验才能够生产，因为芯片生产涉及到了波长稳定性，还有精准性等等因素影响的。因此工艺上的经验累积也十分重要。不然生产出来的芯片良品率会不稳定。

另外还有一点就是媒体错误理解了一个概念，那就是中科院突破的5nm狭缝电极并不是芯片制造的都所有技术，这是一天很漫长的道路，而且激光光刻机用于工业上面也不合适，只适合用来做实验。打个比方把芯片当成一个图片还看待的话，那么euv的光刻机是可以一次拍照成型，可是激光光刻机复杂程度就高了许多，还需要一条条按照线路来刻。因此在效率上来说根本不适合在工业生产之上使用。

因此中科院这一次技术突破不会对半导体产业有太大的影响，不过蚊子再小也是肉，也能作为一个技术储备，将来能够用作研发经验来便于新的技术开发。因此投入生产使用现在来说是不可能的。

这是我国拥有自主产权的光刻机。可以满足军用需求和卫星导航。

光刻机是一个高端领域。我国起步比较晚，因长期没有属于自己的光刻机产品，不得不依赖西方进口。让我国在军事领域受到别人的制约。半导体严重限制了我国军事和航天方面的发展。

一、光刻机的作用。

因为一些特殊发展原因导致我国光刻机发展水平低于欧美国家。一些核心领域使用的半导体光刻机，不得不从国外引进。由于完全依赖西方产品，导致国内市场半导体行业受到影响。上海微电子成功量产的光刻机，已于2021年交付使用。虽然与世界先进水平仍有差距，但是这是我国自主研发的光刻产品，基本上可以满足军用需求和国内市场。

二、国产90纳米光刻机作用。

上海微电子的90纳米光刻机，通过验收并且量产彻底改变了国产光刻机完全依赖进口的需求。这也是我国首台完全自主知识产权的产品。掌握光刻技术可以满足我国军用需求。不仅可以配备在北斗卫星导航系统上，也可以使用国产战斗机上面，在军事领域避免了被西方国家卡住核心利益。

三、我个人看法是什么？

此次量产的90纳米光刻机打破了西方国家对我国核心技术的封闭。可以确保我国芯片制作不会再被外国厂商威胁，可以确保我们在军事领域有了自己的主动权。虽然90纳米光刻机不是领先于世界水平，但是我们通过自身的努力证明了我们有能力可以制作属于自己的光刻机。完全可以实现国产化。让我们不再依赖西方进口。自主生产的国产芯片让我们没有了后顾之忧，确保了人民经济的稳固运转。