半导体干法蚀刻真空环境用滚珠丝杠哪里买?

半导体干法蚀刻真空环境用滚珠丝杠哪里买?,第1张

半导体干蚀刻:利用不易被物理、化学作用破坏的物质光阻来阻挡不欲去除的部分,利用电浆的离子轰击效应和化学反应去掉 想去除的部分,从而将所需要的 线路图形留在玻璃基板上。干蚀刻等向性蚀刻与异向性蚀刻同时存在。

将特定气体置于低压状态下施以电压,将其激发成各种不同的带电荷离子、原子团、分子以及电子(这种物质状态称为Plasma)并利用这些解离后带能量的反应性的离子及原子团,对特定层膜加以化学性的蚀刻及离子轰击,达到膜层去除的一种蚀刻方式。

干蚀刻:

电浆的组成:电子、离子、原子团、各种中性原子和分子。

电子的作用:维持电浆的存在;

离子的作用:进行物理性蚀刻;

原子团的作用:进行化学性蚀刻。

物理性蚀刻:利用辉光放电产生的正离子轰击膜层,造成非等向性蚀刻。

化学性时刻:利用Plasma中的反应性粒子与膜层发生化学反应,造成等向性蚀刻

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1.蚀刻前处理

在金属蚀刻之前的工序都是前处理,它是保证丝印油墨与金属面具有良好附着力的关键工序,因此必须要彻底清除金属蚀刻表面的油污及氧化膜。除油应根据工件的油污情况定出方案,在丝印前进行电解除油,保证除油的效果。除氧化膜也要根据金属的种类及膜厚的情况选用好的浸蚀液,保证表面清洗干净。在丝网印刷前要干燥,如果有水分,也会影响油墨的附着力,而且影响后续图纹蚀刻的效果甚至走样,影响装饰效果。

2.丝网印刷

丝网印刷要根据印刷的需要制作标准图纹丝印网版。图纹装饰工序中,丝印主要起保护作用,涂感光胶时次数要多些,以便制得较厚的丝网模版,这样才使得遮盖性能好,蚀刻出的图纹清晰度高。丝网版的胶膜在光的作用下,产生光化学反应,使得光照部分交联成不溶于水的胶膜,而未被光照部分被水溶解而露出丝网空格,从而在涂有胶膜丝网版上光刻出符合黑白正阳片图案的漏网图纹。


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