半导体清洗剂是干什么用的，怎么用?

半导体清洗剂多用于电子产品半导体器件、集成电路的清洗，对其成分含量要求特别高，做这个成分分析是很有必要的，这个做的好的第三方检测机构英格尔检测算一个，做的结果准确，服务态度特别好，让人感觉特别舒服，最主要的是价格还很便宜，你可以去看看。

常用的清洗剂都是酸类，分为无机酸和有机酸两类。使用得较多的是无机酸。适于锅炉化学清洗的无机酸是盐酸和氢氟酸。采用盐酸作清洗液的优点是清洗能力很强，选择适当的缓蚀剂，清洗液对基体金属的腐蚀速度很低。采用盐酸清洗时，不但能将管内结的垢部分溶解，而且还可使垢从管内壁脱落下来。盐酸另一个突出的优点是价格便宜，货源易于解决，输送简便，酸洗 *** 作容易掌握。盐酸作清洗剂虽然优点很多，但是也有缺点。因为氯离子能促使奥氏体钢发生应力腐蚀，因此，盐酸不能用来清洗由奥氏体钢制作部件的锅炉（例如亚临界和超临界压力锅炉的过热器及再热器。此外，对以硅酸盐为主要成分的水垢，盐酸清洗的效果较差。氢氟酸作清洗剂的优点是不但溶解铁氧化物的速度很快，溶解以硅化合物为主要成分的水垢的能力很强，而且在较低的浓度(1%)和较低的温度（30℃)下，它也能获得良好的清洗效果。采用氢氟酸清洗时，清洗液通常是一次流过清洗部件，无需像盐酸清洗那样要进行反复循环。由于金属与清洗液接触时间很短，清洗液的浓度和温度都较低，只要缓蚀剂选择适当，腐蚀速度很小，可低于lg/m2。氢氟酸对金属的腐蚀极小，不但可以清洗有奥氏体钢部件的锅炉，而且可以不必拆卸锅炉汽、水系统中的阀门等附件，清洗时的临时装置可大为简化。此外，采用氢氟酸清洗时，水和药品的消耗较少，酰洗后的废液，经过简单处理即可成为无毒无腐蚀性的液体而排放。因为氢氟酸的优点很多，所以，近几年来采用氢氟酸清洗的锅炉越来越多。

无机酸类效用快、有机酸类清洁彻底。

无机酸有盐酸、硫酸、硝酸、磷酸、氢氟酸和氨基磺酸等，溶解力强速度快，效果明显，费用低。

无机酸用于清洗对象的结构复杂，清洗剂的排放有困难或者由于氯离子残留使结构材料容易产生应力腐蚀开裂时。

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