p型半导体上加负偏压,界面处在电场作用下耗尽曲变宽,金半结不导通,仅有很小的漏电流。
当然有,但通常采用的是n型半导体,主要原因如下:1.载流子迁移率。电子迁移率远高于空穴迁移率,因此选用n型半导体可以获得良好的频率特性。2.正向导通电压。与n型相比,p型肖特基结往往正向导通电压过低,反向漏电流过高,制备更加困难(容易变成欧姆接触)。3.耐高温性。CMOS工艺往往需要高温退火处理,同样基于漏电流过高等问题,退火后p型肖特基接触易变成欧姆接触。当然还有其他一些因素,但基于n型肖特基结的成熟,自然是工业生产的首选。随着材料科学的发展,越来越多具有优越性能的p型半导体材料涌现,稳定的高质量p型肖特基结是可以实现的。n型肖特基结最大的问题是采用贵金属(Au,Pt等),而p型肖特基结采用低功函数的金属(Al,Ti等),这是一个显著优势。以上。欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
评论列表(0条)