请问在半导体行业中那些生产需要用到抛光研磨减薄等工艺步骤?

请问在半导体行业中那些生产需要用到抛光研磨减薄等工艺步骤?,第1张

抛光研磨的步骤在传统半导体的封装中或是晶圆制造完后的加工工艺,工艺流程就叫研磨(grinding)和抛光(polish).所有的晶圆基本上都会经过研磨,但不一定都要抛光,只有要达到的厚度比较薄,或是对背面强度要求比较高的才会做抛光.

硅晶圆片是正式的芯片材料,依制造过程入料并形成内部线路,就是有功能可出售的芯圆,一般称为wafer的即是指这种圆片硅抛光片一般是制造过程中的"假片"又叫dummy 或dummy wafer,是为了设备运行和保护晶圆片而重复使用,属于生产辅料,万万不可混料出货也有另一个叫抛光的是后工程专业名词,为晶圆片封装切割前必须在反面磨薄抛光,也会叫抛光片


欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出

原文地址: http://outofmemory.cn/dianzi/8466115.html

(0)
打赏 微信扫一扫 微信扫一扫 支付宝扫一扫 支付宝扫一扫
上一篇 2023-04-16
下一篇 2023-04-16

发表评论

登录后才能评论

评论列表(0条)

保存