1000平米的半导体制造无尘车间的建造有哪些要求?

1000平米的半导体制造无尘车间的建造有哪些要求?,第1张

半导体制造无尘车间洁净度等级要求比较高。按照IC生产的不同阶段匹配不同工艺,在各自工艺流程不同环节要配置相应的生产环境,风量、温度、湿度、压差、设备排风按需受控,照度、洁净室截面风速按设计或规范受控,最普通的万级区域环境建设参数一般如下(百级千级黄光区域要求更高):

1、无尘车间内的噪声级不大于65dB(A)。

2、垂直流洁净室满布比不小于60%,水平单向流洁净室不小于40%,以防止局部单向流。

3、无尘车间与室外的静压差不小于10Pa,不同空气洁净度的洁净区与非洁净区之间的静压差不小于5Pa。

4、补偿室内排风量和保持室内正压值所需的新鲜空气量之和。

5、保证供给无尘车间洁净室内每人每小时的新鲜空气量不小于40m3。

6、净化空调系统加热器设置新风,超温断电保护。

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为了统一洁净室的空气洁净度等级、各类技术要求,世界各国都陆续制定了各自的洁净室标准,著名的美国之音FS209标准便是从1963年开始制定发布实施的,到1992年已从209A不断修改变化为。

洁净室标准是源于各类产品生产工艺技术、产品性能的不断研究开发、升级和各种使用要求,对空气洁净度及污染物的控制要求不断变化、提高,尤其是半导体集成电路的高速发民是洁净度等级的扩大和控制微粒粒径日益严格的重要标志;洁净室标准也源于洁净技术的研究开发和发展。

因此洁净室标准的实施,对洁净室的设计建造和运行具有重要性、实用性,它的统一技术要求,严格的技术条件规定,统一的检测方法以及明确、严格的安全技术规范,都已成为建设洁净室工程的主要依据。

扩展资料:

(1)在<电子工业洁净厂房设计规范〉GB50472中有关生产环境的要求的规定主要有:电子工业洁净厂房生产环境的设计应根据生产工艺的要求控制微粒和对产品质量有害的杂质,同时还应提出温度、湿度、压差、噪声、振动、静电防护、照度等参数要求。

(2)各种电子产品生产环境的空气洁净度等级应根据生产工艺要求确定。

(3)单向流和混合流洁净室(区)的噪声级(空态)不应在于65DB,非单向流洁净室的噪声级(空态)不应大于60DB

(4)药品生产有关工序和环境区域的空气洁净度等级,应符合国家现行(药品生产质量管理规范)

(5)医药洁净室的温度和湿度,应符合下列规定

生产式工艺对温度和湿度无特殊要求时,空气洁净度100、10000级的医药洁净室温度应为20-24度,相对湿度应为45%-60%空气洁净度100000级、300000级的医药洁净室温度为18-26度,相对湿度应为45%-65%。

生产工艺对温度和湿度有特殊要求时,应根据工艺要求确定。

人员净化及生活用室的温度,冬季应为16-20度,夏季应为26-30度。

参考资料来源:百度百科-洁净室工程装修标准

参考资料来源:百度百科-洁净室

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