模式剥离器原理

模式剥离器是一种用于分析和提取软件系统中的设计模式的工具。其原理基于静态代码分析技术，通过对程序源代码进行解析、语法树构建和遍历等 *** 作，识别出其中所使用的各种设计模式，并将它们从原有的代码结构中抽离出来。

具体而言，模式剥离器通常会先预定义一些已知的设计模式及其特征（如类名、方法名、参数类型等），然后在扫描目标程序时匹配这些特征并记录下相应信息。当发现某个部分符合某个已知模式时，就可以将该部分独立成一个新组件或子系统，并为之添加适当的接口以保持与原有结构兼容。

需要注意的是，由于不同编程语言和开发环境下可能存在差异，在实际使用过程中可能需要针对具体情况进行调整和优化。此外，在处理复杂系统时还需考虑到多重继承、动态加载等因素带来的影响。

dislocation

脱位

双语对照

词典结果：

dislocation

[英][?d?sl?'ke??n][美][?d?slo?ke??n]

n.[医]脱位，脱臼[物]位错混乱，紊乱[地]断层

例句:

1.

All this dislocation is hard to take, but there is little choice.

所有这些变化让人难以承受，但除此之外别无选择。

2.

Chinese government efforts to curtail grazing as an environmental-protection measurehave caused economic dislocation.

中国限制放牧以保护环境的措施阻碍了经济的发展。

1. 用电子束（E-beam Lithography），好处是精度极高，目前实验室级别的E-beam最小可以写到1纳米，不需要Mask。但是因为精度高，所以写片子的时候速度会很慢。。

2. Micro-printing（类似于刻字印刷那种样子~），不是太了解，实验室不怎么用这个，精度貌似不是很好

3. 激光（Laser Lithography），好处是不需要Mask，直接往Resist上写，因为精度不如e-beam好，所以pattern都比较大，因此速度快。

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我当你说的光刻半导体工艺是传统用紫外灯做的Photo-Lithography了哈~

4. 传统光刻（Photo-lithography），这个其实速度也是很快的，实际的曝光时间只有几秒甚至更少。一般对精度要求不高的片子我们都用这个写。唯一缺点是每一个新的设计都要重新做一个Mask。

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