什么是ITO涂层

在化学上，ITO 是Indium Tin Oxides的缩写。 作为纳米铟锡金属氧化物，具有很好的导电性和透明性，可以切断对人体有害的电子辐射、紫外线及远红外线。因此，铟锡氧化物通常喷涂在玻璃、塑料及电子显示屏上，用作透明导电薄膜，同时减少对人体有害的电子辐射及紫外、红外。 ITO 是一种N型氧化物半导体-氧化铟锡,ITO薄膜即铟锡氧化物半导体透明导电膜，通常有两个性能指标：电阻率和透光率。 在氧化物导电膜中，以掺Sn的In2O3(ITO)膜的透过率最高和导电性能最好，而且容易在酸液中蚀刻出细微的图形，其中透光率达90%以上。ITO中其透光率和阻值分别由In2O3与SnO2之比例来控制，通常SnO2:In2O3=1:9。 目前ITO膜层之电阻率一般在5*10-4左右，最好可达5*10-5，已接近金属的电阻率，在实际应用时，常以方块电阻来表征ITO的导电性能，其透过率则可达90%以上，ITO膜之透过率和阻值分别由In2O3与Sn2O3之比例控制，增加氧化锢比例则可提高ITO之透过率，通常Sn2O3： In2O3=1：9，因为氧化锡之厚度超过200Å时，通常透明度已不够好---虽然导电性能很好。 如用是电流平行流经ITO脱层的情形，其中d为膜厚，I为电流，L1为在电流方向上膜厚层长度，L2为在垂直于电流方向上的膜层长主，当电流流过方形导电膜时，该层电阻R=PL1/dL2式中P为导电膜 之电阻率，对于给定膜层，P和d可视为定值，P/d，当L1=L2时，怒火正方形膜层，无论方块大小如何，其电阻均为定值P/d，此即方块电阻定义： R□=P/d，式中R□单位为：欧姆/□（Ω/□），由此可所出方块电阻与IOT膜层电阻率P和ITO膜厚d有关且ITO膜阻值越低，膜厚越大。 目前在高档STN液晶显示屏中所用ITO玻璃，其R□可达10Ω/□左右，膜厚为100-200um，而一般低档TN产品的ITO玻璃R□为100-300Ω/□，膜厚为20-30um。 在进行LCD走线设计时，由ITO阻计算方式，可知影响ITO阻值有如下因素： 1、ITO玻璃之方块电阻 要确保走线电阻小，应酬让ITO玻璃方块电阻小，因为R□=P/d，则必须选P小，d适当大些的材料。 2、L1/L2 L1/L2即走线在平行电流方向与垂直电流方向上的长度比，在R□一定时，要保证走线电阻值小，就要让L1/L2小，当L1一定时，只有增大L2，也说法是在设计时，走线应尽可能加宽而当L2一定时，L1就要小，即走线宽度一定时，细线应尽可能短。 3、ITO阻值影响 在LCD显示屏设计当中，不仅要考虑走线布对ITO阻值的影响，还要考虑生产工艺对ITO阻值的影响，以便选择适当方块电阻的ITO玻璃，以便设计到制作的全面控制，生产高对比的LCD产品，这时高占空比及COG产品无为重要，如ITO膜厚的均匀性，因为ITO的耙材及工艺的为稳定，会使同样长度与宽度的ITO阻值发生变化，如目标值为10Ω时，其R□范围在8-12Ω之间，所以在生产中要使用ITO膜厚均匀的导电玻璃，以减少电阻的变化，其次为ITO玻璃的耐高温时性，酸碱性，因为通常LCD生产工艺中要使用高温烘烤及各种酸碱液的浸泡，而一般在300°C *30min的环境中，会使R□增大2-3倍，而在10wt%NaOH*5min及6wt%HCL*2min（60°C）下也会增到1。1倍左右，由此可知，在生产工艺中不宜采用高温生产及酸碱的长时清洗，若无法避免，则应尽量在低温下进行并尽量缩短动作时间。 4、由于在液晶显示器中，ITO方块电阻等效于电路图中的分压电阻，其阻值大小直接影响电路两端电压的大小，即方块电阻越大，LCD值电压越大。有数据表明，ITO之方块电阻由100Ω/□降至60Ω/□。（Cell Gap为6um）左右，Vth值会降低0。03V左右。

导电涂层是加涂在绝缘材料表面具有一定导电能力的薄膜或涂层。导电涂层主要有两类：一类是掺合型，另一类是透明薄膜型。掺合型导电涂层是将细颗粒的导电材料掺人到涂层的填料中，与有机或无机黏结剂、稀释剂一道涂刷或喷涂到绝缘材料表面，形成具有某种导电能力的导电层。它可以用喷涂、印刷、刷涂等工艺加涂在刚性或柔性底材上。根据使用要求，调节填料中导电粉末的含量，或用不同电阻率的导电材料则可调节导电涂层的电阻率。这类涂层主要用作电极、电加热膜．也可用来消除静电干扰。另一类更为重要的是透明薄膜型导电涂层。它是利用半导体化合物，如氧化锡、氧化铟、氧化镉、锡酸镉等或者在这些化合物中掺少量氟、锑而制备的透明导电膜。

涂碳铝箔：利用功能涂层对电池导电基材进行表面处理是一项突破性的技术创新，覆碳铝箔/铜箔就是将分散好的纳米导电石墨和碳包覆粒，均匀、细腻地涂覆在铝箔/铜箔上。它能提供极佳的静态导电性能，收集活性物质的微电流，从而可以大幅度降低正/负极材料和集流之间的接触电阻，并能提高两者之间的附着能力，可减少粘结剂的使用量，进而使电池的整体性能产生显著的提升。涂覆方法：形成表面导电层的方法有：在塑料表面涂敷金属填充涂料，真空金属化，热喷涂和粘贴压敏金属箔等。应该根据产品在工作寿命期间对涂层导电性能的稳定性和附着力的要求，选择经济适用的某一种涂敷方法。涂敷金属填充涂料用填充有金属粒子的涂料在塑料外壳形成一层屏蔽层的方法，是一种最简便、最经济的涂敷方法。真空金属化是利用真空技术将金属膜(通常是铝膜)沉积到塑料表面的一种方法。热喷涂将熔化后的金属(如锌熔液)直接喷射到塑料衬底上，可以形成一层厚度约25~50微米纯金属沉积层。压敏金属箔背面涂有粘合剂的金属箔(金属薄片)经常用来连结由于结构缝隙所形成的导电表面断裂，以保持屏蔽的完整性。用途：编辑导电涂层的主要用途是通过金属化涂敷的方法在非导电材料(如塑料)表面上构成一层完整的导电层，以达到对电磁波的吸收和屏蔽目的。