日本占全球氟聚酰亚胺和光刻胶总产量的90%,全球半导体企业70%的氟化氢需从日本进口。日本对韩国实施出口管制后,韩国半导体企业和面板企业三星和LG等公司将受到冲击。另一方面,国产光刻胶有望迎来机会。
相关公司方面,据选股宝主题库(xuangubao.cn)光刻机板块显示,
晶瑞股份:参股公司苏州瑞红是国内光刻胶龙头之一;公司是国内最早规模化生产光刻胶的企业之一,在国内率先实现目前集成电路芯片制造领域大量使用的核心光刻胶的量产
南大光电:参股公司北京科华开发的248nm光刻胶目前已通过包括中芯国际在内的部分客户的认证
强力新材:公司从事半导体KrF光刻胶用光酸、光酸中间体以及聚合物用单体的生产及销售,光酸中间体已商业化量产,光酸及单体已向主要KrF光刻胶企业认证,销售。
更多公司见光刻机板块显示,
*风险提示:股市有风险,入市需谨慎
Q: 半导体中乙醇酸和氢氟酸混合作用 :乙醇酸和氢氟酸混合可以用来清洗半导体表面。当这两种酸混合在一起时,它们会发生反应,产生氟化物,并形成一层薄膜,从而起到清洁的作用。乙醇酸有助于去除污垢,氢氟酸可以去除金属的氧化物。此外,乙醇酸也可以帮助去除金属的氧化物,使金属表面光滑。因此,乙醇酸和氢氟酸混合可以有效地清洁半导体表面,从而使半导体元件具有良好的性能。
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