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如果你说的是半导体与电解液接触的话,那么:能带弯曲与 半导体/电解液结 有关对于一个n型半导体当其费米能级等于平带电势时,半导体与电解液之间没有电荷流转,在半导体与电解液接触界面两侧没有多余电荷,因此在固液界面的半导体一侧不会出现能带弯曲。如果电子从电解液流向半导体(即半导体的费米能级低于电解液中氧化还原电对电势),此时在固液界面的半导体一侧得到的是累积层,半导体靠近界面处的能带弯曲方向朝下。如果电子从半导体流入电解液(即半导体的费米能级高于电解液中氧化还原电对电势),此时在固液界面的半导体一侧得到的是耗尽层(由不能移动的带正电的电子施主形成),半导体靠近界面处的能带弯曲方向朝上。如果电子过多的从半导体流入电解液以至于固液界面处的电子浓度低于半导体的本征电子浓度,此时在固液界面的半导体一侧得到的是反型层,半导体靠近界面处的能带弯曲朝上加剧,同时半导体表面呈现p型特征(半导体体相依旧为n型)。p型半导体与电解液接触形成半导体/电解液结的原理与n型半导体相同,只是在p型半导体中可移动的载流子为空穴。(来自冯建勇博士论文:(氧)氮化物的制备及其光电化学水分解性能的研究)金属功函数:金属内部逸出到表面真空所需最小能量 半导体功函数:E0与费米能级的差 电子亲和能 使导带底的电子逸出体外所需最小能量 WSe2为P型半导体 半导体费米能级高于金属的费米能级 接触后,金属和半导体的费米能级相同,半导体的导带电子流向金属 电荷的流动在半导体表面形成正的空间电荷区(因为电子溜走了嘛) 那么半导体表面 和内部就会存在电势差,就是表面势Vs 接触电势差分布在空间电荷区和金属半导体表面间,当紧密接触时主要分布在空间电荷区 势垒高度为-qVs金属-半导体边界上形成的具有整流作用的区域.金属-半导体作为一个整体在热平衡时有同样费米能级.由半导体到金属,电子需要克服势垒而由金属向半导体,电子受势垒阻挡.在加正向偏置时半导体一侧的势垒下降相反,在加反向偏置时,半导体一侧势垒增高.使得金属-半导体接触具有整流作用(但不是一切金属-半导体接触均如此.如果对于P型半导体,金属的功函数大于半导体的功函数,对于N型半导体,金属的功函数小于半导体的功函数,以及半导体杂质浓度不小于10^19/立方厘米数量级时会出现欧姆接触,它会因杂质浓度高而发生隧道效应,以致势垒不起整流作用).当半导体均匀掺杂时肖特基势垒的空间电荷层宽度和单边突变P-N结的耗尽层宽度相一致.
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