激光熔覆技术有什么特点,如何应用才更好?

激光熔覆技术有什么特点,如何应用才更好?,第1张

激光熔覆技术是用不同的填料在基体表面上放置涂层材料,之后用激光辐射和基体表面薄层一起熔化,经凝固后变成低稀释度的基体材料结合的表面涂层,结合方式为冶金结合。可以有效改善基体表面耐磨,耐腐蚀和热,抗氧化和电器特性的功能。是一种非常好的工艺方法,有很多的好处比如节约成本和贵重稀有金属材料,同时是一种经济效益非常好的新技术,应用在矿山和电力设备都非常的好。

一、激光熔覆技术有显著的工艺特点

激光熔覆技术有一系列明显的工艺特点,比如冷却的速度很快,高功率密度快熔时,变形的程度比较小。涂层稀释率较低,选择粉末不会被限制,能进行自由选区选择等。不会对材料进行太高的消耗,性价比很高,可以有效实现自动化。

二、激光熔覆技术有广泛的应用

激光熔覆技术的应用范围和领域都非常的广,整个机械制造业都需要用到。在不锈钢,模具钢,可锻铸铁,铜合金和钛合金等表面已经成功的实施了激光熔覆,石油化工和铁路设备及零部件也都有很好的应用,为这些设备提供了很好的技术保障。

三、对激光熔覆技术的评价

一般而言,熔覆道的形状和表面平整度,裂纹及气孔等是评价激光熔覆技术的重要因素,还有是否形成了好的组织和符合要求的性能也是评价的重要标准,使用寿命也是其中一个参考价值。改善激光熔覆技术需要把重点放在熔覆设备的开发和研制上和设计好的合金成分等。

虽然激光熔覆技术有很大的用途,但它仍然有很多需要面临和解决的问题,比如激光熔覆技术还没有形成产业化,其中一个重要的原因就是熔覆层质量具备不稳定性和需要进行光熔覆过程的自动化控制实现。同时激光熔覆层容易开裂,太过于敏感。

激光熔覆技术是指将选定的涂层材料以不同的包装方式放置在涂层基材表面,并在快速凝固后,通过激光照射同时在基材表面与薄层熔化,形成了与基体材料具有极低稀释度和冶金结合的表面涂层,从而显著提高了耐磨性,耐腐蚀性,耐热性,基体材料表面的抗氧化性和电特性。

激光熔覆技术是一项具有较高经济效益的新技术。它可以在廉价的金属基材上生产高性能合金表面,而不会影响基材的性能并降低成本,节省贵重和稀有的金属材料,应用于激光熔覆的激光器主要包括CO2 激光器和固态激光器,主要包括圆盘激光器,光纤激光器和二极管激光器。激光融合按不同的送粉工艺可分为两种类型:

送粉法和同步送粉法,两种方法的效果相似,同步送粉方法具有自动化控制简单,激光能量吸收率高,无内部气孔,尤其是覆层金属陶瓷,能显著提高覆层的抗裂性、这样硬质陶瓷相可以均匀分布在包层和其他优点。冷却速度快 (高达 106 K/s),属于快速凝固过程,并且容易获得精细的晶体结构或产生平衡状态无法获得的新相,如不稳定相和非晶态。

涂层的稀释率低 (通常小于 5%),并且与基材具有牢固的冶金结合或界面扩散结合。通过激光工艺参数的调整,可以得到具有低稀释率的良好涂层,涂层组成和稀释是可控的。在激光熔覆过程中,涂层材料完全熔化,而基体熔化层非常薄,因此对熔覆层的组成几乎没有影响,但是,激光合金化是将合金元素添加到基材表面的熔融层中,以基于基材形成新的合金层,个人以上的问题,基本上就是这样了。

发光二极管

它的优点:亮度高、工作电压低、功耗小、微型化、易与集成电路匹配、驱动简单、寿命长、耐冲击、性能稳定。

在电工仪器及控制设备中广泛用作信号、状态指示、数码显示以及各种图形显示等。

它的主要缺点是LED的价位很高,尤其是高亮度级的或特殊颜色的。

半导体激光器

前苏联科学家H.Γ.巴索夫于1960年发明了半导体激光器。半导体激光器的结构通常由P层、N层和形成双异质结的有源层构成。其特点是:尺寸小,耦合效率高,响应速度快,波长和尺寸与光纤尺寸适配,可直接调制,相干性好。


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