关于场效应管(见图7),在栅极没有电压时,由前面剖析可知,在源极与漏极之间不会有电流流过,此时场效应管处与截止状态(图7a)。当有一个正电压加在N沟道的MOS 场效应管栅极上时,由于电场的作用,此时N型半导体的源极和漏极的负电子被吸收出来而涌向栅极,但由于氧化膜的阻挠,使得电子汇集在两个N沟道之间的P型半导体中(见图7b),从而构成电流,使源极和漏极之间导通。我们也能够想像为两个N型半导体之间为一条沟,栅极电压的树立相当于为它们之间搭了一座桥梁,该桥的大小由栅压的大小决议。图8给出了P沟道的MOS 场效应管的工作过程,其工作原理相似这里不再反复。
下面简述一下用C-MOS场效应管(加强型MOS 场效应管)组成的应用电路的工作过程(见图9)。电路将一个加强型P沟道MOS场效应管和一个加强型N沟道MOS场效应管组合在一同运用。当输入端为低电平常,P沟道MOS场效应管导通,输出端与电源正极接通。当输入端为高电平常,N沟道MOS场效应管导通,输出端与电源地接通。在该电路中,P沟道MOS场效应管和N沟道MOS场效应管总是在相反的状态下工作,其相位输入端和输出端相反。经过这种工作方式我们能够取得较大的电流输出。同时由于漏电流的影响,使得栅压在还没有到0V,通常在栅极电压小于1到2V时,MOS场效应管既被关断
二极管的基本特性就是单向导电性。检修测量时通过两个方向的截止和导通情况来判断是否损坏。二极管的主要参数有反向电压、持续正向电流、正向导通电压、耗散功率和反向恢复时间(决定适用工作频率)。不同型号的二极管,维修替换时要全面考虑这些参数,用于替换的元件参数须与元件参数相同或高出原件。
二极管的正向压降使用数字万用表的二极管测试挡可以测出,一般在0.4~0.8V之间,肖特基二极管的导通电压可以低至0.2V,在需要低电压降的场合大量应用,维修时选择替换型号尤其要引起注意。
三极管是电流控制型半导体器件,是透过基极的小电流来控制集电极相对大电流的元件。三极管有三个工作状态:截止状态、放大状态和饱和状态。因为运算放大器的广泛使用,在工控电路板中使用三极管用作模拟放大的电路已不多见,三极管的最常见用法是使用它的饱和截止状态做开关信号驱动。
场效应管的外观封装和三极管相同。场效应管属于电压控制型半导体器件,即通过控制栅极和源极电压大小来控制漏极和源极的导通情况,场效应管的栅极输入阻抗非常高。根据结构的不同,场效应管又分为P沟道和N沟道两种类型。
维修时,需要关注的几个场效应管的主要参数如下。
V DSS (漏-源电压):场效应管工作时,漏极-源极之间的电压应低于此电压;
V GS (栅极-源极电压):在栅极和源极所加控制电压的极限;
I D (漏极持续电流):场效应管导通时,漏极能持续通过的最大电流;
R DS ( ON ) (漏-源通态电阻):当漏极和源极导通后,它们之间的电阻值;
VGS(TO)栅-源阈值电压:既要使场效应管导通,加在栅极和源极之间的最小电压。
晶闸管也称可控硅,也是电流型控制半导体器件,如图1.39(a)所示,控制极和阴极之间的电阻比较小,通过施加控制极G和阴极K之间的电流来控制阳极A和阴极K之间的导通。晶闸管的特点是“一触即发”,就是在G和K之间加上电流后,A和K导通,即使去除G和K之间的电流,阳极和阴极也会维持导通。如果要关断A和K,就要断开加在A上的电压或减小A、K之间的回路电流至足够小才行。
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