半导体物理中PBE是什么意思

半导体物理中PBE是什么意思,第1张

质子条件式根据酸碱质子理论,酸碱反应的实质是质子的转移,当酸碱反应达到平衡时,酸失去质子的数目必然与碱得到质子的数目相等,这种相等关系式称为质子条件式(PBE,Proton Balance Equation),又称为质子平衡方程.

导读:本文总结了二维材料/宽禁带材料异质结构的制备方法和能带对齐理论;介绍了铁电极化场和压电应力效应在二维/铁电异质结构中的应用;列举了二维/宽禁带半导体异质结构在探测器、场效应晶体管、光催化和气体传感器领域的研究进展;最后,总结了二维/宽禁带材料异质结构目前存在的问题,并展望了其未来发展方向。

综述背景

综述简介

北京邮电大学吴真平副教授,香港理工大学郝建华教授等以“Hybrid heterostructures and devices based on two-dimensional layers and wide bandgap materials”为题在《Materials Today Nano》发表了邀请综述文章。

论文链接:

https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S2588842020300213

该综述首先介绍了2D/WBG材料异质结构的制备方法,并详细探讨了2D/WBG异质结构的能带对齐理论。接下来,文章系统回顾了铁电极化场和压电应力效应在2D/铁电异质结构中的应用,并列举了2D/宽禁带半导体异质结构在探测器、场效应晶体管、光催化和气体传感器领域的研究进展,最后探讨了目前该领域的研究进展和存在研究难点,并对未来的研究方向提出了见解。

图1、常见二维材料、宽禁带半导体和铁电体的能带示意图

图2、(a)BP-ZnO异质结示意图。(b)化学气相沉积法制备MoSe2工艺示意图。(c)GaN衬底和第3相MoSe2薄膜的照片。(d)单层MoS2/单层WSe2/GaN(上)和少层MoS2/GaN(下)的AFM图像。(e)蓝宝石衬底上生长的晶圆级MoS2薄膜的光学图像和横截面TEM图像。(f)MoS2/GaN(0001)的横截面TEM图像。

图3、(a)2D/WBG-vdW异质结构的原子结构和各种能带排列示意图:(b)欧姆接触,(c)肖特基接触,(d)I型跨骑,(e)II型交错,(f)III型错层。

图4、用PBE(左下区域)和HSE06(右上区域)计算的vdW异质结构能带排列表。绿色、红色和蓝色分别表示I型、II型和III型异质结构类型。两个彩色方框表示两种不同类型的机会相等。

图5、基于二维材料和铁电材料的异质结构。(a)石墨烯的输运性质。插图显示了石墨烯/PZT异质结构的示意图。(b)石墨烯在空气和真空中的输运特性。(c)基于MoS2和BTO的FTJ的I-V特性。(d)随电压变化的电阻开/关比。

图6、基于二维材料和压电PMN-PT的异质结构。(a)石墨烯/MoS2/PMN-PT异质结构示意图。(b)压电双轴应变在0 0.2%范围内调谐的MoS2的PL谱。(c)WSe2/PMN-PT异质结构示意图。(d)在PMN-PT上施加电场从 20-20kv/cm调谐的SPE的微PL谱。(e)PMN-PT上 20和20kv/cm电场调谐的SPE的微PL光谱。

图7、光电探测器。石墨烯/Ga2O3肖特基结光电探测器的结构图(a),在不同光强下的光响应(b)和光谱选择特性(c)。自组装石墨烯/GaN异质结探测器示意图(d),在360 nm光照条件下测量的I-V曲线(e)和光谱选择特性(f)。WS2/GaN光电探测器示意图(g),器件的响应度和比探测率与光强度的函数关系(h)和紫外成像结果(i)。

图8、场效应晶体管。Ga2O3/WSe2结场效应晶体管示意图(a),器件的传输和跨导特性(b),器件的击穿电压可达144 V(c)。垂直Ga2O3/石墨烯势垒晶体管开关器件示意图(d),器件的关态击穿电压(e),器件击穿电场与其他报道的功率器件的比较(f)。E/D双型石墨烯/Ga2O3 MESFET示意图(g),直接耦合场效应晶体管逻辑逆变器(h),逻辑逆变器的电压传输特性(i)。

图9、气体传感器。MoS2/GaN气体传感器示意图(a),反向偏压下氢气氛围下器件的能带图变化(b),不同温度下器件对氢气浓度测试的灵敏度(c)。rGO/AlGaN/GaN气体传感器原理图(d),在正偏压条件下,器件在NO2、NH3和SO2气氛中的能带图变化示意图(e),传感器气体浓度依赖响应曲线(f)。

图10、杂化异质结构中二维材料的形态。(a)GaN上MoSe2层的SEM图像。(b)GaN外延晶体上MoS2单层三角形的扫描电镜。GaN/AlGaN/GaN上生长的MoS2的TEM图像亮场(c),暗场(d),和选区电子衍射(SAED)图(e)。

结论与展望

综上,本综述系统讨论了2D/WBG异质结构的制备、能带结构设计和相关应用。虽然2D/WBG混合vdW异质结构在电子、光电子器件领域已经展现出优异的性能,但仍存在许多挑战和机遇。

1、目前研究的2D材料和WBG材料种类仍很少,以石墨烯为主,仍需要 探索 其他2D材料在本领域的应用。

2、铁电、压电材料目前仍只用于提供极化和应力来调控2D材料的物理特性,其耦合效应尚未完全理解。

3、制备获得高质量晶圆尺寸的2D/WBG混合异质结构是实现器件产业化的最大技术瓶颈。


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