这个我不是很懂啦,但是看到问题想说下自己想法,具体的Cox意义和推导是半导体器件物理中的内容。
在一般的模拟集成电路设计中,在设计电路时有指定的工艺模型,里头Cox是一个给定的参数,不同的工艺里Cox的大小都会有区别。所以设计电路的孩纸对这样的参数不用过于深究,但要知道是啥(这算是学习指引啦,哈哈)
我试着解释一下吧,栅极和衬底之间之间有一层氧化层(相当于介质),G和B(衬底)之间会有电容,电容的大小和栅极面积有关,栅极面积 = W*L,所以Cox = Cgb/WL。
其实CMOS的物理模型里有好多电容,什么Cgd,Cgs,Csb...(把g、d、s、b排列组合一遍),Cgb是里头比较大的,然后又和W、L密切相关,所以比较重要
平带电位(Flatbandvoltage)就是在MOS系统中,使半导体表面能带拉平(呈平带状态)所需要外加的电压时的电位。
用来表征:平带状态一般是指理想MOS系统中各个区域的能带都是拉平的一种状态。
测量:电化学方法:在三电极体系下,使用入射光激发半导体电极,并改变电极上的电势。当施加的电位比平带电位偏负的时候,光生电子不能够进入外电路,也就是说不会产生光电流。
相反,当施加的电位比平带电位偏正的时候,光生电子则能偶进入外电路,进而产生光电流。所以开始产生光电流的电势即为该纳米半导体的平带电位。
扩展资料:
平带电压计算
平带电压可分为两部分相加,Vfb=Vfb1+Vfb2,Vfb1用来抵消功函数差的影响,Vfb2用来消除氧化层及界面电荷的影响
1)Vfb1
Vfb1=φms=φg-φf;
对于多晶硅栅,高掺杂的情况下,φg≈0.56V,+用于p型栅,-用于n型栅。
φf是相对于本征费米能级的费米势。
2)Vfb2
以固定的有效界面电荷Q0来等效所有各类电荷作用,Vfb2=-Q0/Cox。
Cox为单位面积氧化层电容,可用ε0/dox求得。
总结起来,Vfb=φg-φf-Q0/Cox。
参考资料来源:百度百科-平带电位
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