半导体利好消息一大堆，订单也排到一年后，为什么就是涨不起来？

半导体利好不表示一定要涨，涨不起来主要是低部尚未构造好，日线是在跌破六个多月的横盘区下方形成日线的双底形态，周线尚未形成向上的形态，但周线一旦向上开出中长阳线，5周均线将金叉，后市会有一轮上升行情，希望4月1日，也就是星期四拉出中阳线以上，明确一轮上升行情的开始。

半导体整体板块要有大行情，必须收复六个多月的横盘区域，在这之前不要希望很大。

A股是典型的资金推涨型股市，没有大资金介入，就是投资价值再高股价依然不涨，有了大资金强势介入，就是再没有投资价值的股票，也一样涨不停。

就像机构抱团股，尽管市场有太多的质疑声音，可是机构依然任性拉升股价，在于机构需要盈利，在于机构需要盈利最大化，就会有动力不断推高股价，另外看到股价处于上升趋势中，还会有抄作业的机构不断追涨买进，进一步推高股价，才会有新基金激进建仓，结果短短时间亏得一塌糊涂，不得不出面道歉。

半导体曾经涨过一波，也是机构和游资携手炒作的结果，可是大资金中很大一部分已经成功离场，落袋为安，此后股价跌不停，不少个股已经腰斩，但因为调整时间不算很充分，上方有大量套牢盘，机构等大资金不愿意介入拉升股价，何况机构主要持有抱团股，没有多余资金拉升芯片半导体，甚至部分机构不愿意看到芯片半导体上涨，分流抱团股资金带来调整压力。

因此节后芯片半导体利好不断，主要是供应极度紧张，价格不断上涨，上市公司盈利增长也很靓丽，国家政策方面也是利好频出，可是就是股价不涨，在于大资金缺少低位筹码，没有动力拉升股价。

现在机构资金对抱团股展开强劲的自救行情，白酒、新能源 汽车 和光伏等出现波段性活跃，就是股价大跌以后，有很多逢低买盘介入，包括抄底资金和自救资金合作，只有抱团股行情告一段落，芯片半导体才会出现新行情。

A股就是涨跌超预期，芯片半导体是这样，未来抱团股也是这样。调整起来，就是看不到底。

首先说一下半导体板块走势：已经在筑底。

然后，说点有的没的，每个板块都有自己的周期，有些板块景气度高，所以拉长来看是一直走在上升周期，但是，你怎么会认为它涨不起来呢？

拿长电 科技 举例，按现在这个你口中的所谓一直不涨的位置来看，已经比去年同期位置涨了50个点了。

不是它不涨，只是你买在了下跌通道。

现在已经在企稳，拿着吧。

半导体材料是一类具有半导体性能、可用来制作半导体器件和集成电路的电子材料。常见的半导体材料有硅、锗、砷化镓等，其中硅是商业应用上最具有影响力的一种，其下游应用十分广泛，包括集成电路，通讯系统，光伏发电，人工智能等领域。半导体产业是科技创新的先驱，在世界经济发展中占据越来越重要的地位。半导体材料作为半导体产业的基石，对于半导体产业的发展起着决定性的作用。近年来，国家为推动我国半导体产业的发展，先后出台了一系列政策推动我国半导体材料国产化进程。

法律依据：

《中华人民共和国政府信息公开条例》

第七条各级人民政府应当积极推进政府信息公开工作，逐步增加政府信息公开的内容。

第八条各级人民政府应当加强政府信息资源的规范化、标准化、信息化管理，加强互联网政府信息公开平台建设，推进政府信息公开平台与政务服务平台融合，提高政府信息公开在线办理水平。

第九条公民、法人和其他组织有权对行政机关的政府信息公开工作进行监督，并提出批评和建议。

在受到西方国的技术封锁、原材料断供等手段之后，我国的芯片市场遭到了前所未有的打击，在这样的情况下，诸多西方媒体纷纷跳出来说着“中国芯片自主研发是妄想”等言论，但事实真就如他们所说吗？

其实随着 我国 科技 方面的不断进步，一个个 科技 难题被攻破 ，我国在芯片领域的发展可谓是突飞猛进，用ASML总裁的话来说就是： “如果继续对中国进行技术封锁，要不了多久中国就能实现芯片自主化。”

在“中国芯”的研发道路上， 不仅光刻机被荷兰ASML垄断，制造芯片的核心材料也是时常遭受“断供威胁”。

芯片的研发制作必然离不开光刻，而在光刻的过程中， 光刻胶和光刻机都是其中必不可少的一员 ，光刻胶的精密度越大则生产出的芯片就越先进。

简单来说，如果没有好的光刻胶，即便我们有最先进的EUV光刻机也是形同虚设， 光刻胶是除了光刻机之外的第二大技术难题。

高精度光刻胶的生产技术牢牢掌握在日本手中，我国只能够生产出一些低精度的光刻胶， 高精度光刻胶的来源主要是进口 ，而据数据显示， 全球市场上高端光刻胶由90%以上是由日本和美国提供，我们也时常因此被“卡脖子”。

就是在西方强国技术封锁的情况下， 我国将光刻胶自主研发提上了日程 ，并在2019年建立光刻胶的生产基地，耗时两年后终于传来了好消息： 光刻胶已经自主研发成功 ，国产光刻胶迎来曙光，为国内半导体行业的发展带来了新的希望，一举摆脱“卡脖子”的窘境。

除了制造芯片的核心材料光刻胶得到突破以外 ，我国在芯片设备研发上也传来了利好消息 ，在全球各大芯片企业研发刻蚀机无法取得突破的同时， 我国的 中微半导体公司率先研制出了3nm刻蚀机 ，并且已经完成了原型机设计、测试工作，如此高精度的刻蚀机可以说在全球都是不可多得的存在。

有人看到这可能会有些迷茫， 刻蚀机的工作原理是什么？它突破有何意义？光刻机有何不同？

其实， 刻蚀机对于“中国芯”的研发来说，也是有着举足轻重的作用 ，刻蚀机和光刻机虽然仅仅一字之差，但是它们分别是芯片制造中两个关键流程所用到的设备。

总的来说， 光刻机就如同我们的车载导航，而刻蚀机则代表着我们的车辆 ，只要跟着导航走就能够安全到达指定地点。

随着3nm刻蚀机的问世，我国的国产芯片水平更上一层楼，同时 它的出现也让不少国人们看到了“中国芯”问世的希望。

但也有部分人表示， 有着高精度刻蚀机没有高精度光刻机，“中国芯”也难以得到实现 ，但事实真就是如此吗？

一直以来，光刻机都是生产高精度芯片的核心设备，而光刻机生产技术一直牢牢掌控在荷兰ASML公司手中，而ASML又因为与美国的协议无法对我国出口光刻机，导致我国半导体领域发展一直萎靡不振。

但是最近，我国最大的光刻机厂商上海微电子传来了好消息： 其公司自主研发的28纳米光刻机已经问世并且通过认证，预计在年底可以正式交付投入使用。

国产光刻机的问世也让许多人发出质疑， 国产光 科技 的工作效率和质量能和ASML公司的光刻机媲美吗？

值得一提的是， 上微电子所研发出的光刻机进度和ASML的DUV光刻机是一样的 ，而DUV光刻机在英特尔手中被用来制造出了10纳米芯片，台积电更是用DUV光刻机量产出了7纳米芯片。

这也就意味着， 我国只要时机成熟，完全可能由现如今的量产28纳米芯片技术跳跃到量产7纳米芯片技术。

除此之外，根据我国目前对于芯片的需求来看，28纳米的芯片已经能够满足大部分市场需求，而上 海微电子研发的这台28纳米光刻机更是让“中国芯”的实现更进一步。

如今看来，在 美国芯片禁令的影响 下，虽说 对于我国半导体事业虽说有一定影响 ，但与此同时 更加快了“中国芯”的发展进程 ，美国这一做法无疑是搬起石头砸自己的脚。

我国先后在 光刻胶、蚀刻机、光刻机 等领域取得突破，所以我国想要突破芯片国产化只是时间问题， 我国的半导体行业也正在飞速发展，等到我国打造出属于自己的芯片产业链，芯片禁令也将成为笑谈！

最后，对于美国在芯片上对我国进行打压的行为，你又有什么不同的看法呢？欢迎你们在评论区与零零柒进行探讨。

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