我国半导体基础差，为何还要发展半导体产业？

国产芯片水平只能实现90纳米。

从芯片制造环节看，光刻机、蚀刻机、晶圆、光刻胶等设备和材料占比很大。其中光刻机设备，目前上海微电子是90纳米。高端的KrF和ArF光刻胶更是几乎依赖进口，其中ArF光刻胶几乎为零国产。因此，我国要生产高度国产化的芯片，目前90纳米是一个分界点。

这其中还不包含芯片设计使用的EDA设计软件和其它的电子化学气体材料。EDA软件被誉为“芯片设计上的明珠”，国产率不到2%。

90纳米芯片！相当于2004年的半导体工艺。2007年，苹果上市的第一代手机就是使用了90纳米的处理器。可以说，90纳米芯片瞬间让大家回到了15年前的科技生活。

当然，这样的结果只是一种极端的假设。我国半导体产业链，并不是这么差。有些环节、技术、设备已经达到国际水平。譬如芯片设计、人工智能、大数据、5G、蚀刻机。换言之，半导体基础把我国半导体的综合能力拉低了。

时间来到现今的2022年，“研究”水平已经比产品水平高了，“研发”更高水平光刻设备的技术积累这个底子增厚了一些。

中国光刻机产品研究已经达到了“中端水平”。国产DUV光刻机产品很快就能成批推出、规模采用，据报道上海微电子研发出的28纳米国产光刻机整机已经安排生产，再过一两年一定能用于国产芯片的生产，而且，按中芯国际梁孟松在2020年就说到的，一定能用于规模量产7纳米芯片，而且良品率还能达到业界标准吧，梁孟松当时说的是只有制造5、3纳米的芯片才“只待”、也就是只需EUV光刻机，梁孟松的话自然是可信的。

现有的EUV光刻机是7纳米的吧，不是已经让台积电以及三星制造出5纳米的芯片了吗。近日，有报道说梁孟松已经“宣布进军7纳米芯片”了，这也可信，按时间节点，肯定是要规模量产7纳米芯片，肯定是采用荷兰ASML卖给的DUV 光刻机。这样一来，中国光刻机产品的水平现在就已经不再是低端的了，在全球，和日本等同了，在同一个端上，当然仍旧显著低于美日韩欧合在一起达到的高端水平，目前的全球顶级水平；

但是在国内，与其他工艺设备的水平等同，还低于中芯国际芯片制造和长电科技芯片封装的高端水平，显著低于华为芯片设计的顶级水平，与苹果、高通以及联发科同样达到了5纳米，不过呢，国产中端光刻机却能分别直接支持中芯国际制造出、长电科技封装出7纳米的国产高端芯片，间接支持华为做出重新搭载高端麒麟芯片的手机，虽然只是、也只能达到7纳米，但肯定够用了。

全球百大半导体企业中国多达42家，我国缘何这么重视半导体的发展首先是因为半导体本身就是制作电子芯片的核心材料，其次就是半导体的技术提升意味着整体的科研水平的提升，再者就是如果没有充足的高质量芯片就没有足够智能化的时代，另外就是如果一些半导体需要受制于人就会影响到中国的长期发展目标，需要从以下四方面来阐述分析全球百大半导体企业中国多达42家，我国缘何这么重视半导体的发展 。

一、因为半导体本身就是制作电子芯片的核心材料 

首先就是因为半导体本身就是制作电子芯片的核心材料 ，对于半导体而言本身就是制作电子芯片的重要材料，通过半导体可以生产高水平的芯片来满足国内的一些互联网公司的发展需求。

二、半导体的技术提升意味着整体的科研水平的提升 

其次就是半导体的技术提升意味着整体的科研水平的提升 ，对于半导体而言如果整体的质量得到提升那么我们国家的科研水平也会得到提升，这样子有利于国家整体的发展质量的提升。

三、如果没有充足的高质量芯片就没有足够智能化的时代

再者就是如果没有充足的高质量芯片就没有足够智能化的时代 ，对于高质量芯片而言可以更好的构建一个智能化的时代，从而迎合很多人民群众的发展需求。

四、如果一些半导体需要受制于人就会影响到中国的长期发展目标 

另外就是如果一些半导体需要受制于人就会影响到中国的长期发展目标 ，这样子我们国家才有充足的底气来发展，从而更好的构建一个和谐的社会。

中国应该做到的注意事项：

应该提升整体的核心竞争力。

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