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【嵌牛导读】本文介绍了7nm制程工艺是如何实现的
【嵌牛鼻子】7nm制程工艺
【嵌牛提问】7nm 制程工艺如何实现？
【嵌牛正文】
本文主要就7nm 制程工艺中各特征尺寸是如何通过光刻技术实现作说明，而对于7nm 制程工艺中其他的应变硅技术(strained silicon)、HKMG技术等不作讨论。
首先我们看一下7nm 工艺制程的特征尺寸和工艺参数，找出其中最小的特征尺寸，比如 fin width 6nm, fin pitch 27/30nm，gate length 8/10nm，minimum metal pitch 36/40nm，gate pitch 54/57nm，我们需要考虑的问题就是如何通过光刻工艺来实现这些特征尺寸。
目前可以实现7nm 制程的只有台积电和三星两家，三星是从一开始就使用EUV光刻机来实现，而台积电则是从DUV开始实现，然后再转向EUV 。也就是说，目前7nm 制程工艺使用DUV 和 EUV 都是可以实现的，下面就DUV 和 EUV 两种设备的实现方法分别说明。
关于光刻机的分辨率不再作过多介绍，DUV设备以可以实现最高分辨率的是 ASML 193nm DUV光源、 NA 1.35的浸入式光刻机（immersion），设备型号一般是从NXT1950到 NXT2000。对于这一特征波长和NA的光刻机， 能够实现的分辨率极限就是38nm ，单次曝光形成的图形是不可能小于这个极限值的。
那么如何使用分辨率极限为38nm 的光刻机来实现7nm 制程工艺呢？
最主要的两种方法就是双重曝光技术(double exposure，DE) 和自对准双重成像技术 (self-aligned double patterning, SADP)。双重曝光就是采用两次分别曝光不同图形，两次曝光图形的叠加来实现更小的分辨率，当然必要的时候也可以三重甚至是更多重图形的叠加来实现更小的分辨率。双重曝光的缺点是增加了光刻工艺的使用，并且对每次光刻图形之间的套刻误差(overlay)也有更高的要求，因此增加了工艺的复杂度和成本。
相比较而言， SADP 技术就要简单得多，SADP 技术可以相对轻松地实现光刻图形尺寸减缩小一倍，也就是说使用上述DUV 光刻机结合SADP 技术是可以实现20nm 的图形。上文中7nm 工艺参数中的 DP(193i) 指的就是使用193nm immersion 光刻机和SADP 技术。
我们找到了台积电7nm 的Design Rules, 可以看到7nm 制程工艺总共用到了13个金属互联层，M0~M12，其中Fin是最小尺寸(6nm)，使用了SAQP技术（后续介绍）；然后是Poly ,也就是多晶硅 Gate 工艺 ，以及前端的几个线宽比较小的金属互联工艺 M0~M4 都使用到了SADP 技术。
如下图所示
1）Litho: 首先在做有硬掩膜版（HARD MASK ）的wafer 上使用光刻工艺一次曝光得到 40nm 的光刻胶图形；
2）PR-Slim: 然后通过刻蚀工艺使得光刻胶图形宽度缩小约一半；（此步骤并非必须，根据实际工艺设计而定，下图示例中pattern的间隔是1：1，因此需要PR slim 过程，这样在后续的沉积SiO2工艺后，光刻胶周围的侧壁之间才有足够的间隔空间；常规的SADP 工艺中pattern的间隔一般是1：3，SADP 后形成的图形是1：1，这样就不需要 PR slim）
3）SiO2 depo: 然后在光刻胶图形上沉积SiO2 薄膜；（一般使用ALD 沉积工艺）
4）Spacer Etch: 分别刻蚀掉表层的SiO2薄膜，使得SiO2 覆盖下的光刻胶显露出来；再使用另外一种只刻蚀光刻胶的刻蚀工艺将中间的光刻胶刻蚀完，这样就留下了光刻胶图形两侧的侧壁，成为新的模板，并且实现了PITCH缩小一半；（使用不同化学成分的等离子体刻蚀可以实现不同材质的选择性刻蚀）
5）HM Etch：使用上述留下的侧壁作为掩模版，再向下刻蚀，就可以将图形转移到Hard mask 上；
6）Clean: 最后再清洗掉表层的SiO2/ARC 等，就得到了特征尺寸为20nm的图形，图形间隔为1：1，实现了分辨率缩小一半的结果；,
所以在使用DUV 光刻机实现20nm pattern 时，SADP是一种简单有效的方法。但是SADP 也有自身的问题，比如分辨率缩小是通过将一个线条复制成两个相同的更小的线条，也就是新生成的两个线条形状是一模一样的，所以这种方法只适用于图形相对简单，并且具有很多重复性结构的图形。
同时，新生成的图形是一个闭合的环形结构（下图patterning step2 所示），因此SADP 生成的图形还需要一道切割的工艺，去除掉图形中不需要的部分；如下图所示，所以为了实现我们所需的最终图形，其实是将图形拆分成两部分来设计，两部分图形的最终组合才是我们所需的图形，因此SADP 工艺中图形的拆分也是一个复杂的工序。
然后是 SAQP (self-aligned quadruple patterning) 技术，来实现7nm 制程工艺中线宽最小的Fin 结构。SAQP 与 SADP 非常类似，相当于在使用完一次 SADP 技术以后，再使用一次SADP，这样就可以实现线宽的四倍缩小，也就是实现10nm 图形。
下图是使用SAQP技术来制作Fin 结构的流程图，最初光刻形成的4个pattern 在经过SAQP工艺后变成了16 个pattern, 并且尺寸也缩小为原来的1/4。Fin 作为 Finfet 集成电路的基础单元，具有高度简单的重复性，因此非常适合使用SAQP 技术。
同时Fin 结构本身具有较高的高宽比，因此在Fin 刻蚀工艺的时候，会形成下图中的楔形形貌，从而使得Fin 顶端尺寸比SAQP工艺形成的最终掩模尺寸更小，进而在最终产品中形成线宽为 6nm 的Fin 结构。
7nm 制程工艺Finfet 中Fin 的电镜图，顶端宽度约为6nm 。
至此，使用DUV 光刻机借助 SADP/SAQP 技术实现7nm 制程工艺中关键尺寸的实现就讲完了，接下来介绍使用EUV 工艺实现。
EUV 光刻机得益于使用13.5nm EUV 作为光源，单次曝光的分辨率极限可以达到13nm，因此在7nm 制程工艺中的特征尺寸基本单次曝光（Single Expose）就可以完成。EUV 同样可以使用SADP 技术，实现更小的特征尺寸，使得芯片制程工艺向5nm/3nm 继续发展。
下图是DUV 和EUV 在实现更小的特征尺寸时的方案：
虽然DUV 和 EUV 都可以实现7nm 制程工艺，但是 EUV 相比DUV 是更具技术优势的，EUV 具有更好的成像质量，以及更少的工艺步骤，而工艺步骤的减少对于成本和最终良率都是非常有利的。
下图是不同工艺节点使用的光刻工艺step 数和套刻误差step 数的对比，从28nm 到7nm , 使用Immersion DUV 设备的光刻工艺step 数增加到了34次，套刻误差step 数达到了60 个以上，如此高的工艺复杂度对工艺整合是个巨大的挑战，同时也大大提高了最终产品良率损失的风险。因此继续使用Immersion DUV 设备进行7nm 以下制程的开发已近乎不可能了，或者说开始不具备实际经济效益了。
而EUV 的引入，大大减少了工艺的复杂程度，7nm EUV 所需光刻工艺step 数和 20nm DUV 的step 数差不多，因此EUV 的引入使得7nm 以下制程的继续开发成为可能，摩尔定律也得以继续存活。
下图是 ASML EUV roadmap, 随着EUV 设备 NA 的增大，可以使得EUV 的最终分辨率达到小于 7nm, 从而使得2nm 制程也成为可能。
至此，通过DUV和 EUV 实现 7nm 制程的光刻工艺实现就全部介绍完了。
虽然通过更好的光刻设备可以实现更小的特征尺寸，但也并不是只要拿到好的设备就可以轻松实现，为了实现设备的分辨率极限，我们还需要使用一系列复杂的分辨率增强技术。同时随着器件特征尺寸的减小，单个器件也需要重新设计以解决器件尺寸缩小带来的短沟道效应(short channel effect, SCE)、热载流子注入效应（hot carrier inject, HCI）以及栅氧化层漏电等问题。
概述英文名字是LiquidCrystalDis，缩写为LCD。它的主要原理是以电流刺激液晶分子产生点、线、面配合背部灯管构成画面。
液晶显示器的特点：
一、机身薄，节省空间：与比较笨重的CRT显示器相比，液晶显示器只要前者三分之一的空间。
二、省电，不产生高温：它属于低耗电产品，可以做到完全不发烫，而CRT显示器，因显像技术不可避免产生高温。
三、无辐射，益健康：液晶显示器完全无辐射，这对于整天在电脑前工作的人来说是一个福音。
四、画面柔和不伤眼：不同于CRT技术，液晶显示器画面不会闪烁，可以减少显示器对眼睛的伤害，眼睛不容易疲劳。
液晶显示器绿色环保，它的能源消耗相对于传统的CRT来说，简直是太小了；对于进来逐渐引起国人重视的噪音污染也与它无缘，因为它的自身的工作特点决定了它不会产生噪音（对于那种喜欢一边使用电脑，一边有节奏的敲打显示器的用户发出的噪音，这里不予以考虑^-^）；液晶显示器还有一个好处就是发热量比较低，长时间使用不会有烤热的感觉，这一点也是以前的显示器无可比拟的，以前的显示器可是宝贵，尤其是夏天，家里的空调、电扇都得为它服务给它降温。使用液晶显示器无形中为大气降了温，也为阻止日益升温的大气作贡献。同时减少辐射，降低环境污染。当然了，环保也不会少了辐射这个指数的，虽然我们不能说液晶显示器就完全没有辐射，但是相对于辐射大户CRT来说，液晶显示器那一点点辐射简直可以忽略不计。
现在的时代其实还是模拟时代，而未来的时代从目前的发展趋势来看是数字时代。显示器智能化 *** 作，数字控制、数码显示是未来显示器的必要条件。随着数字时代的来临，数字技术必将全面取代模拟技术，LCD不久就会全面取代现在的模拟CRT显示器。
不过从另一个方面讲液晶显示器的数字接口现在并不普及，还远远没有到应用领域。从理论上说，液晶显示器是纯数字设备，与电脑主机的连接也应该是采用数字式接口，采用数字接口的优点是不言而喻的。首先可以减少在模数转换过程中的信号损失和干扰；减少相应的转化电路和元件；其次不需要进行时钟频率、向量的调整。
但目前市场上大部分液晶显示器的接口是模拟接口，存在着传输信号易受干扰、显示器内部需要加入模数转换电路、无法升级到数字接口等问题。并且，为了避免像素闪烁的出现，必须做到时钟频率、向量与模拟信号的完全一致。
此外，液晶显示器的数字接口尚未形成统一标准，带有数字输出的显示卡在市面上并不多见。这样一来，液晶显示器的关键性的优势却很难充分发挥。
这个问题可能不是很好理解，我们举例子说明一下吧。使用过液晶显示器的人都知道液晶显示器很容易产生影像拖尾现象。
响应时间是液晶显示器的一个特殊指标。液晶显示器的响应时间指的是显示器各像素点对输入信号反应的速度，响应时间短，则显示运动画面时就不会产生影像拖尾的现象。这一点在玩游戏、看快速动作的影像时十分重要。足够快的响应时间才能保证画面的连贯。目前，市面上一般的液晶显示器，响应时间与以前相比已经有了很大的突破，一般为40ms左右。不过随着技术的日益发展LCD和CRT的这个差距在逐渐的被弥补上，美格科技新近突出的一款液晶显示器的响应时间就已经缩短到了20ms，不过美格货好价格也好，它的售价比一般的液晶显示器要高出几百元。不过即使是20ms的美格也无法和目前的几乎任何一款CRT相提并论。
所以如果您很喜欢玩3D游戏，看激烈的电影的话，液晶显示器可能会因为响应时间慢拖您的后腿。
从外形上看液晶显示器的外观轻巧超薄，与传统球面显示器相比，其厚度、体积仅是CRT显示器的一半（比如acer的FP581，其厚度更是让人觉得不足普通CRT显示器的1/5），大大减少了占地空间。
香港和东京是世界上液晶显示器普及率最高的地区，去年香港液晶显示器的出货量占到了显示器总出货量的七成。我们观察一下液晶显示器普及率高的地区就不难发现，这些地方大多是比较繁华，比较拥挤，生活水平比较高，而且写字楼、金融大厦林立的地方。在这些地方可谓是寸土寸金。显示器节省下来的空间的地皮价格远远高于液晶显示器和CRT显示器的差价。现在我国大陆的一些大城市的繁华区域也有向着这个方向发展的趋势。
这个问题其实是问您对显示器的用途。众所周知，由于液晶分子不能自己发光，所以，液晶显示器需要靠外界光源辅助发光。一般来讲140流明每平方米才够。有些厂商的参数标准和实际标准还存在差距。这里要说明一下，就是一些小尺寸的液晶显示器以往主要应用于笔记本电脑当中，采用两灯调节，因此它们的亮度和对比度都不是很好。不过现在主流的桌面版本的液晶显示器的亮度一般都可以达到250流明到400流明，已经开始逐渐接近CRT的水平了。
对于大多数人来说，如果把CRT和LCD摆放在一起的话，可以比较轻松的分辨出液晶显示器和普通的CRT显示器的亮度和对比度以及色彩饱和度的不同，但是就一般使用来说，这一点点差距并不会影响您的工作。
但是对于专业的美工等要求准确色彩的工作来说，液晶显示器还不能完全达到其工作的要求。
液晶按结构分类
常见的液晶显示器按物理结构分为四种：
(1)扭曲向列型(TN-Twisted Nematic)；
(2)超扭曲向列型(STN-Super TN)；
(3)双层超扭曲向列型(DSTN-Dual Scan Tortuosity Nomograph)；
(4)薄膜晶体管型(TFT-Thin Film Transistor)。
1.TN型采用的是液晶显示器中最基本的显示技术，而之后其它种类的液晶显示器也是以TN型为基础来进行改良。而且，它的运作原理也较其它技术来的简单。请参照下方的图片。图中所表示的是TN型液晶显示器的简易构造图，包括了垂直方向与水平方向的偏光板，具有细纹沟槽的配向膜，液晶材料以及导电的玻璃基板。
2.STN型的显示原理与TN相类似。不同的是，TN扭转式向列场效应的液晶分子是将入射光旋转90度，而STN超扭转式向列场效应是将入射光旋转180～270度。
3.DSTN是通过双扫描方式来扫描扭曲向列型液晶显示屏，从而达到完成显示目的。DSTN是由超扭曲向列型显示器(STN)发展而来的。由于DSTN采用双扫描技术，因此显示效果相对STN来说，有大幅度提高。
4.TFT型的液晶显示器较为复杂，主要是由：萤光管、导光板、偏光板、滤光板、玻璃基板、配向膜、液晶材料、薄模式晶体管等等构成。首先，液晶显示器必须先利用背光源，也就是萤光灯管投射出光源，这些光源会先经过一个偏光板然后再经过液晶。这时液晶分子的排列方式就会改变穿透液晶的光线角度，然后这些光线还必须经过前方的彩色的滤光膜与另一块偏光板。因此我们只要改变加在液晶上的电压值就可以控制最后出现的光线强度与色彩，这样就能在液晶面板上变化出有不同色调的颜色组合了。是目前主流液晶显示器的面板。
显示原理
（一）液晶的物理特性
液晶的物理特性是：当通电时导通，排列变的有秩序，使光线容易通过；不通电时排列混乱，阻止光线通过。让液晶如闸门般地阻隔或让光线穿透。从技术上简单地说，液晶面板包含了两片相当精致的无钠玻璃素材，称为Substrates，中间夹著一层液晶。当光束通过这层液晶时，液晶本身会排排站立或扭转呈不规则状，因而阻隔或使光束顺利通过。大多数液晶都属于有机复合物，由长棒状的分子构成。在自然状态下，这些棒状分子的长轴大致平行。将液晶倒入一个经精良加工的开槽平面，液晶分子会顺着槽排列，所以假如那些槽非常平行，则各分子也是完全平行的。
（二）单色液晶显示器的原理
LCD技术是把液晶灌入两个列有细槽的平面之间。这两个平面上的槽互相垂直(相交成90度)。也就是说，若一个平面上的分子南北向排列，则另一平面上的分子东西向排列，而位于两个平面之间的分子被强迫进入一种90度扭转的状态。由于光线顺着分子的排列方向传播，所以光线经过液晶时也被扭转90度。但当液晶上加一个电压时，分子便会重新垂直排列，使光线能直射出去，而不发生任何扭转。
LCD是依赖极化滤光器(片)和光线本身。自然光线是朝四面八方随机发散的。极化滤光器实际是一系列越来越细的平行线。这些线形成一张网，阻断不与这些线平行的所有光线。极化滤光器的线正好与第一个垂直，所以能完全阻断那些已经极化的光线。只有两个滤光器的线完全平行，或者光线本身已扭转到与第二个极化滤光器相匹配，光线才得以穿透。
LCD正是由这样两个相互垂直的极化滤光器构成，所以在正常情况下应该阻断所有试图穿透的光线。但是，由于两个滤光器之间充满了扭曲液晶，所以在光线穿出第一个滤光器后，会被液晶分子扭转90度，最后从第二个滤光器中穿出。另一方面，若为液晶加一个电压，分子又会重新排列并完全平行，使光线不再扭转，所以正好被第二个滤光器挡住。总之，加电将光线阻断，不加电则使光线射出。
然而，可以改变LCD中的液晶排列，使光线在加电时射出，而不加电时被阻断。但由于计算机屏幕几乎总是亮着的，所以只有“加电将光线阻断”的方案才能达到最省电的目的。
从液晶显示器的结构来看，无论是笔记本电脑还是桌面系统，采用的LCD显示屏都是由不同部分组成的分层结构。LCD由两块玻璃板构成，厚约1mm，其间由包含有液晶(LC)材料的5μm均匀间隔隔开。因为液晶材料本身并不发光，所以在显示屏两边都设有作为光源的灯管，而在液晶显示屏背面有一块背光板（或称匀光板）和反光膜，背光板是由荧光物质组成的可以发射光线，其作用主要是提供均匀的背景光源。背光板发出的光线在穿过第一层偏振过滤层之后进入包含成千上万水晶液滴的液晶层。液晶层中的水晶液滴都被包含在细小的单元格结构中，一个或多个单元格构成屏幕上的一个像素。在玻璃板与液晶材料之间是透明的电极，电极分为行和列，在行与列的交叉点上，通过改变电压而改变液晶的旋光状态，液晶材料的作用类似于一个个小的光阀。在液晶材料周边是控制电路部分和驱动电路部分。当LCD中的电极产生电场时，液晶分子就会产生扭曲，从而将穿越其中的光线进行有规则的折射，然后经过第二层过滤层的过滤在屏幕上显示出来。
（三）彩色LCD显示器的工作原理
对于笔记本电脑或者桌面型的LCD显示器需要采用的更加复杂的彩色显示器而言，还要具备专门处理彩色显示的色彩过滤层。通常，在彩色LCD面板中，每一个像素都是由三个液晶单元格构成，其中每一个单元格前面都分别有红色，绿色，或蓝色的过滤器。这样，通过不同单元格的光线就可以在屏幕上显示出不同的颜色。
LCD克服了CRT体积庞大、耗电和闪烁的缺点，但也同时带来了造价过高、视角不广以及彩色显示不理想等问题。CRT显示可选择一系列分辨率，而且能按屏幕要求加以调整，但LCD屏只含有固定数量的液晶单元，只能在全屏幕使用一种分辨率显示(每个单元就是一个像素)。
CRT通常有三个电子q，射出的电子流必须精确聚集，否则就得不到清晰的图像显示。但LCD不存在聚焦问题，因为每个液晶单元都是单独开关的。这正是同样一幅图在LCD屏幕上为什么如此清晰的原因。LCD也不必关心刷新频率和闪烁，液晶单元要么开，要么关，所以在40～60Hz这样的低刷新频率下显示的图像不会比75Hz下显示的图像更闪烁。不过，LCD屏的液晶单元会很容易出现暇疵。对1024×768的屏幕来说，每个像素都由三个单元构成，分别负责红、绿和蓝色的显示一所以总共约需240万个单元(1024×768×3＝2359296)。很难保证所有这些单元都完好无损。最有可能的是，其中一部分已经短路(出现“亮点”)，或者断路(出现“黑点”)。所以说，并不是如此高昂的显示产品并不会出现瑕疵。
LCD显示屏包含了在CRT技术中未曾用到的一些东西。为屏幕提供光源的是盘绕在其背后的荧光管。有些时候，会发现屏幕的某一部分出现异常亮的线条。也可能出现一些不雅的条纹，一幅特殊的浅色或深色图像会对相邻的显示区域造成影响。此外，一些相当精密的图案(比如经抖动处理的图像)可能在液晶显示屏上出现难看的波纹或者干扰纹。
现在，几乎所有的应用于笔记本或桌面系统的LCD都使用薄膜晶体管（TFT）激活液晶层中的单元格。TFT LCD技术能够显示更加清晰，明亮的图象。早期的LCD由于是非主动发光器件，速度低，效率差，对比度小，虽然能够显示清晰的文字，但是在快速显示图象时往往会产生阴影，影响视频的显示效果，因此，如今只被应用于需要黑白显示的掌上电脑，呼机或手机中。
随着技术的日新月异，LCD技术也在不断发展进步。目前各大LCD显示器生产商纷纷加大对LCD的研发费用，力求突破LCD的技术瓶颈，进一步加快LCD显示器的产业化进程、降低生产成本，实现用户可以接受的价格水平。
四）应用与液晶显示器的新技术
（1）采用TFT型Active素子进行驱动
为了创造更优质画面构造，新技术采用了用独有TFT型Active素子进行驱动。大家都知道，异常复杂的液晶显示屏幕中最重要的组成部分除了液晶之外，就要算直接关系到液晶显示亮度的背光屏以及负责产生颜色的色滤光镜。在每一个液晶像素上加装上了Active素子来进行点对点控制，使得显示屏幕与全统的CRT显示屏相比有天壤之别，这种控制模式在显示的精度上，会比以往的控制方式高得多，所以就在CRT显示屏会上出现图像的品质不良，色渗以及抖动非常厉害的现象，但在加入了新技术的LCD显示屏上观看时其画面品质却是相当赏心悦目的。
（2）利用色滤光镜制作工艺创造色彩斑澜的画面
在色滤光镜本体还没被制作成型以前，就先把构成其主体的材料加以染色，之后再加以灌膜制造。这种工艺要求有非常高的制造水准。但与同其他普通的LCD显示屏相比，用这种类型的制造出来的LCD，无论在解析度，色彩特性还是使用的寿命来说，都有着非常优异的表现。从而使LCD能在高分辨率环境下创造色彩斑澜的画面。
（3）低反射液晶显示技术
众所周知，外界光线对液晶显示屏幕具有非常大的干扰，一些LCD显示屏，在外界光线比较强的时候，因为它表面的玻璃板产生反射，而干扰到它的正常显示。因此在室外一些明亮的公共场所使用时其性能和可观性会大大降低。目前很多LCD显示器即使分辨率再高，其反射技术没处理好，由此对实际工作中的应用都是不实用的。单凭一些纯粹的数据，其实是一种有偏差的去引导用户的行为。而新款的LCD显示器就采用的“低反射液晶显示屏幕”技术就是在液晶显示屏的最外层施以反射防止涂装技术（AR coat），有了这一层涂料，液晶显示屏幕所发出的光泽感、液晶显示屏幕本身的透光率、液晶显示屏幕的分辨率、防止反射等这四个方面都但到了更好的改善。
（4）先进的“连续料界结晶矽”液晶显示方式
在一些LCD产品中，在观看动态影片的时候会出现画面的延迟现象，这是由于整个液晶显示屏幕的像素反应速度显得不足所造成的。为了提高像素反应速度，新技术的LCD采用目前最先进的Si TFT液晶显示方式，具有比旧式LCD屏快600倍的像素反应速度，效果真是不可同日而语。先进的“连续料界结晶矽”技术是利用特殊的制造方式，把原有的非结晶型透明矽电极，在以平常速率600倍的速度下进行移动，从而大大加快了液晶屏幕的像素反应速度，减少画面出现的延缓现象。
现在，低温多晶硅技术、反射式液晶材料的研究已经进入应用阶段，也会使LCD的发展进入一个崭新的时代。而在液晶显示器不断发展的同时，其它平面显示器也在进步中，等离子体显示器（PDP）、场致发光阵列显示器（FED）和发光聚合体显示器（LEP）的技术将在未来掀起平板显示器的新浪潮。其中，最值得关注和看好的就是场致显示器，它具有许多比液晶显示器更出色的性能……不过可以断定，LCD显示技术进入新纪元，作为另一支显示产品的生力军，它们将可能取代CRT显示器。
LCD(Liquid Crystal Display)液晶显示器是一种采用液晶为材料的显示器。液晶是介于固态和液态间的有机化合物。将其加热会变成透明液态，冷却后会变成结晶的混浊固态。在电机的作用下，产生冷热变化，从而影响它的透光性，来达到亮灭的效应。
常见的液晶显示器分为：TN-LCD，STN-LCD，DSTN-LCD和TFT-LCD四种。其中TN-LCD，STN-LCD和DSTN-LCD三种显示原理相同，只是液晶分子的扭曲角度不同而已。
TN-LCD：（Twisted Nematic）液晶分子扭曲角度为90度，
STN：（Super TN）其S即为Super之意，也就是液晶分子的扭转角度加大，呈180度或270度，如此而达到更优越的显示效果(因对比度加大)。
DSTN：（Double layer STN）其D为double layer双层之意，因此又比STN更优异些。由于DSTN的显示面板结构已较TN与STN复杂，显示画质较之更为细腻。
TFT：（Thin Film Transistor）是一种新的液晶制造工艺。
LCD液晶显示器广泛应用于工业控制中，尤其是一些机器的人机，复杂控制设备的面板，医疗器械的显示等等。我常用于工业控制及仪器仪表中的的LCD液晶显示器的分辨率为：320x240，640x480，800x640，1024x768及以上的分辨率的屏，常用的大小有3.9"，4.0"，5.0"，5.5"，5.6"，5.7"，6.0"，6.5"，7.3"，7.5"，10.0"，10.4"，12.3"15"17"20"甚至现在的50"YIS等。颜色有黑白，伪彩，512色，16位色，24位色等。
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