二十世纪五十年代至六十年代,Dr. Stanford Ovshinsky开始研究无定形物质的性质。
无定形物质是一类没有表现出确定、有序的结晶结构的物质。
1968年,他发现某些玻璃在变相时存在可逆的电阻系数变化。
1969年,他又发现激光在光学存储介质中的反射率会发生响应的变化。
1970年,他与他的妻子Dr. Iris Ovshinsky共同建立的能量转换装置(ECD)公司,发布了他们与Intel的Gordon Moore合作的结果。
1970年9月28日在Electronics发布的这一篇文章描述了世界上第一个256位半导体相变存储器。
近30年后,能量转换装置(ECD)公司与MicronTechnology前副主席Tyler Lowery建立了新的子公司Ovonyx。
在2000年2月,Intel与Ovonyx发表了合作与许可协议,此份协议是现代PCM研究与发展的开端。
2000年12月,STMicroelectronics(ST)也与Ovonyx开始合作。
至2003年,以上三家公司将力量集中,避免重复进行基础的、竞争的研究与发展,避免重复进行延伸领域的研究,以加快此项技术的进展。
2005年,ST与Intel发表了它们建立新的闪存公司的意图,新公司名为Numonyx。
在1970年第一份产品问世以后的几年中,半导体制作工艺有了很大的进展,这促进了半导体相变存储器的发展。
同时期,相变材料也愈加完善以满足在可重复写入的CD与DVD中的大量使用。
Intel开发的相变存储器使用了硫属化物(Chalcogenides),这类材料包含元素周期表中的氧/硫族元素。
Numonyx的相变存储器使用一种含锗、锑、碲的合成材料(Ge2Sb2Te5),多被称为GST。
现今大多数公司在研究和发展相变存储器时都都使用GST或近似的相关合成材料。
大部分DVD-RAM都是使用与Numonyx相变存储器使用的相同的材料。
2011年8月31日,中国首次完成第一批基于相变存储器的产品芯片。
2015年,《自然·光子学》杂志布了世界上第一个或可长期存储数据且完全基于光的相变存储器。
GSD管理系统的优点GSD管理系统是一套标准的数据库管理系统,主要完成GSD方法的信息化;它吸收了传统工艺分析系统中科学的、先进的精华部分,并加以改进;GSD管理系统完全根据中国人的 *** 作习惯而设立的一套视窗系统,更易于我们去学习与接受。它以“生产线平衡”为主要应用目的,根据GST分析员的分析结果及各生产线的总人数,系统自动提供“人员分配表”及“机器分配表”。 强大的分析功能GSD管理系统主要是利用现代计算机信息技术,将制衣行业的一般车缝时间的应用住息化,使企业拥有一个友好、安全、智能的工作平台,系统建立强大的静态资料库,资料库具有图文并茂,检索方便的特点,使最终用户可以轻易通过对资料库中资料的选择与复制,最终达到快速实现新款式的工序分析。并对分析结果采用图形、表格的方式描述出来,同时计算出工艺平衡率,使分析员能够简单、快速、客观地对分析结果进行评估。 完善的应用系统GSD管理系统应用部份为当今世界各种先进生产管理模式的实施提供有力可靠的数据支抚育,使新的生产模式的实施成功成为可能,主要体现在以下向个方面:1、 统一的“工序类型”使生产过程中各相关部门的所有相关人员之间的沟通变得简单容易而准确;2、 完整的“员工组织架构”使管理人员能够了解各部门人员配备,为现场排位提供了基础数据;3、 强大的“员工技能矩阵表”,详细记录员工对各种工序类型的熟练程度,为“生产线平衡”提供基础数据;4、 以“生产线平衡”为应用目的,根据GSD的分析结果及各组人数,系统自动提供“人员分配表”及“机器分配表”;5、 通过产前“生产线排位”功能,系统将自动产生“生产线平衡图”、“生产线目标产量”、“生产线实际时间”、“生产节拍”等一系列报表数据,预测出“瓶颈工序”,为IE调整排位、工艺改善、技术改良、培训员工等提供可靠依据;在生产过程中,随着员工熟练程度的提高,用户可以随时修改相关排位数据,系统可以实时分析出生产线的平衡状态,为生的改善提供了实时有效的帮助。这个不知道对你有没有用相变存储器(OUM)
奥弗辛斯基(Stanford
Ovshinsky)在1968年发表了第一篇关于非晶体相变的论文,创立了非晶体半导体学。一年以后,他首次描述了基于相变理论的存储器:材料由非晶体状态变成晶体,再变回非晶体的过程中,其非晶体和晶体状态呈现不同的反光特性和电阻特性,因此可以利用非晶态和晶态分别代表“0”和“1”来存储数据。后来,人们将这一学说称为奥弗辛斯基电子效应。相变存储器是基于奥弗辛斯基效应的元件,因此被命名为奥弗辛斯基电效应统一存储器(OUM),如图2所示。从理论上来说,OUM的优点在于产品体积较小、成本低、可直接写入(即在写入资料时不需要将原有资料抹除)和制造简单,只需在现有的CMOS工艺上增加2~4次掩膜工序就能制造出来。
OUM是世界头号半导体芯片厂商Intel公司推崇的下一代非易失性、大容量存储技术。Intel和该项技术的发明厂商Ovonyx
公司一起,正在进行技术完善和可制造性方面的研发工作。Intel公司在2001年7月就发布了0.18mm工艺的4Mb
OUM测试芯片,该技术通过在一种硫化物上生成高低两种不同的阻抗来存储数据。2003年VLSI会议上,Samsung公司也报道研制成功以Ge2Sb2Te5(GST)为存储介质,采用0.25mm工艺制备的小容量OUM,工作电压在1.1V,进行了1.8x109
读写循环,在1.58x109循环后没有出现疲劳现象。
不过OUM的读写速度和次数不如FeRAM和MRAM,同时如何稳定维持其驱动温度也是一个技术难题。2003年7月,Intel负责非易失性存储器等技术开发的S.K.Lai还指出OUM的另一个问题:OUM的存储单元虽小,但需要的外围电路面积较大,因此芯片面积反而是OUM的一个头疼问题。同时从目前来看,OUM的生产成本比Intel预想的要高得多,也成为阻碍其发展的瓶颈之一。
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