前些天,我国本土半导体设备传来好消息,中微半导体设备(上海)有限公司自主研制的5nm等离子体刻蚀机经台积电验证,性能优良,将用于全球首条5nm制程生产线。刻蚀机是芯片制造的关键装备之一,中微突破关键核心技术,让“中国制造”跻身刻蚀机国际第一梯队。
近年来,我国大陆半导体设备企业一直在努力追赶国际先进脚步。在多种设备领域有一定突破,除了上述中微半导体的5nm等离子体刻蚀机之外,有越来越多的产品可应用于14nm、7nm制程。
但是,国内设备与国外先进设备相比仍有较大差距,主要表现在两方面:一是有一定竞争力的产品在领先制程上的差距;二是部分产品完全没有竞争能力或尚未布局,比如国内光刻机落后许多代际,仅能达到90nm的光刻要求,国内探针台也处于研发阶段,尚未实现销售收入。
那么,在国家的扶持下,经过这么多年的发展,我国本土半导体设备各个细分领域的发展情况如何呢?相关企业都有哪些?发展到了什么程度呢?下面就来梳理一下。
北方华创
北方华创由七星电子和北方微电子战略重组而成。七星甴子主营清洗机、氧化炉、 气体质量控制器(MFC)等半导体装备及精密甴子元器件等业务,此外七星甴子还是国内真空设备、 新能源锂甴装备重要供应商。北方微甴子主营刻蚀设备(Etch)、物理气相沉积设备(PVD)、化学气相沉积设备(CVD)三类设备。
2010 年 3 月,七星甴子在深交所上市。 2016 年 8 月,七星甴子与北方微甴子实现战略重组,成为中国规模最大、产品体系最丰富、涉及领域最广的高端半导体工艺设备供应商,开成功引迚国家集成甴路产业基金(大基金)等战略投资者,实现了产业与资本的融合。 公司实际控制人是北京甴控,隶属于国资委。
2017 年 2 月,七星甴子正式更名为北方华创 科技 集团股仹有限公司,完成了内部整合,推出全新品牉“北方华创”,开形成了半导体装备、真空装备、新能源锂甴装备和高精密甴子元器件四大业务板块加集团总部的“4+1”经营管理模式。
北方华创的半导体装备亊业群主要包括刻蚀机、 PVD、 CVD、氧化炉、扩散炉、清洗机及质量流量控制器(MFC)等 7 大类半导体设备及零部件,面向集成甴路、先进封装等 8 个应用领域,涵盖了半导体生产前段工艺制程中的除光刻机外的大部分兲键装备。 客户包括中芯国际、华力微甴子、长江存储等国内一线半导体制造企业,以及长甴 科技 、 晶斱 科技 、华天 科技 等半导体封装厂商。
重组之后,北方华创业绩快速增长。2017 年实现营业收入 22.23 亿元,同比增长37.01%,归母净利润 1.26 亿元,同比增长 35.21%。 根据公司 2018 年半年报业绩快报,2018 年上半年公司实现营业收入13.95 亿元,同比增长 33.44%, 归母净利润 1.19 亿元,同比增长 125.44%。 随着下游晶圆厂投资加速, 公司半导体设备等觃模持续扩张。
长川 科技
长川 科技 是国内集成电路封装测试、晶圆制造及芯片设计环节测试设备主要供应商。 半导体测试设备主要包括分选机、 测试机和探针台三大类。自2008年4月成立以来,该公司率先实现了半导体测试设备(分选机和测试机) 的国产化, 并获得国内外众多一流集成电路企业的使用和认可。
该公司于 2012 年 2 月承担并完成国家“十二五”规划重大专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”中的高端封装设备与材料应用工程项目,并于 2015 年 3 月获得国家集成电路产业基金投资。
该公司的测试机和分选机在核心性能指标上已达到国内领先、接近国外先进水平,同时售价低于国外同类型号产品,具备较高的性价比优势。 公司产品已进入国内主流封测企业, 如天水华天、 长电 科技 、 杭州士兰微、 通富微电等。 2017 年,该公司对外积极开拓市场, 设立台湾办事处,拓展台湾市场。
2013~2017年,长川 科技 营收实现了由 4,341 万元到 1.80 亿元的跨越,复合增速达39.75%。 2017 年,归属母公司净利润由992万元增长至 5,025 万元, 复合增速达31.48%。
中微半导体
中微半导体成立于 2004 年,是一家微加工高端设备公司, 经营范围包括研发薄膜制造设备和等离子体刻蚀设备、大面积显示屏设备等。该公司管理层技术底蕴深厚,大多有任职于应用材料、LAM和英特尔等全球半导体一流企业的经验。
中微半导体先后承担并圆满完成 65-45 纳米、 32-22 纳米、22-14 纳米等三项等离子介质刻蚀设备产品研制和产业化。 公司自主研发的等离子体刻蚀设备 Primo D-RIE 可用于加工 64/45/28 纳米氧化硅、氮化硅等电介质材料,介质刻蚀设备 Primo AD-RIE 可用于 22nm 及以下芯片加工,均已进入国内先进产线。中微半导体的介质刻蚀机已经完成了5nm 的生产。
晶盛机电
晶盛机电是一家专业从事半导体、光伏设备研发及制造的高新技术企业,是国内技术领先的晶体硅生长设备供应商。该公司专注于拥有自主品牌的晶体硅生长设备及其控制系统的研发、制造和销售,先后开发出拥有完全自主知识产权的直拉式全自动晶体生长炉、铸锭多晶炉产品。
该公司立足于“提高光电转化效率、降低发电成本”的光伏技术路线,实现了硅晶体生长“全自动、高性能、高效率、低能耗”国内领先、国际先进的技术优势。全自动单晶炉系列产品和 JSH800 型气致冷多晶炉产品分别被四部委评为国家重点新产品。同时公司积极向光伏产业链装备进行延伸,2015 年成功开发并销售了新一代单晶棒切磨复合一体机、单晶硅棒截断机、多晶硅块研磨一体机、多晶硅块截断机等多种智能化装备,并布局高效光伏电池装备和组件装备的研发。
该公司的晶体生长设备特别是单晶硅生长炉销售形势较好,主要是单晶光伏的技术路线获得认可,随着下游厂商的扩产,单晶的渗透率也逐步提升,带来对单晶硅生长炉的需求增加,该类产品收入已经占营业收入的 81%。
该公司主营业务伴随国内光伏产业的上升发展,给主营业务收入和利润带来显着增长,近两年的增长率均在 80%以上,另外,其毛利率水平和净利率水平也基本维持稳定。
上海微电子
上海微电子装备有限公司成立于2002年,主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发、生产、销售与服务,该公司产品可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等制造领域。
该公司主要产品包括:
600扫描光刻机系列—前道IC制造
基于先进的扫描光刻机平台技术,提供覆盖前道IC制造90nm节点以上大规模生产所需,包含90nm、130nm和280nm等不同分辨率节点要求的ArF、KrF及i-line步进扫描投影光刻机。该系列光刻机可兼容200mm和300mm硅片。
500步进光刻机系列—后道IC、MEMS制造
基于先进的步进光刻机平台技术,提供覆盖后道IC封装、MEMS/NEMS制造的步进投影光刻机。该系列光刻机采用高功率汞灯的ghi线作为曝光光源,其先进的逐场调焦调平技术对薄胶和厚胶工艺,以及TSV-3D结构等具有良好的自动适应性,并通过采用具有专利的图像智能识别技术,无需专门设计特殊对准标记。该系列设备具有高分辨率、高套刻精度和高生产率等一系列优点,可满足用户对设备高性能、高可靠性、低使用成本(COO)的生产需求。
200光刻机系列—AM-OLED显示屏制造
200系列投影光刻机综合采用先进的步进光刻机平台技术和扫描光刻机平台技术,专用于新一代AM-OLED显示屏的TFT电路制造。该系列光刻机不仅可用于基板尺寸为200mm × 200mm的工艺研发线,也可用于基板尺寸为G2.5(370mm × 470mm)和G4.5(730mm × 920mm)的AM-OLED显示屏量产线。
硅片边缘曝光机系列——芯片级封装工艺应用
SMEE开发的硅片边缘曝光机提供了满足芯片级封装工艺中对硅片边缘进行去胶处理的能力,设备可按照客户要求配置边缘曝光宽度、硅片物料接口形式、曝光工位等不同形式。设备同时兼容150mm、200mm和300mm等三种不同规格的硅片,边缘曝光精度可到达0.1mm。设备配置了高功率光源,具有较高的硅片面照度,提高了设备产率。
至纯 科技
至纯 科技 成立于 2000 年, 主要为电子、生物医药及食品饮料等行业的先进制造业企业提供高纯工艺系统的整体解决方案, 产品为高纯工艺设备和以设备组成的高纯工艺系统,覆盖设计、加工制造、安装以及配套工程、检测、厂务托管、标定和维护保养等增值服务。
该公司在 2016年前产品约一半收入来自医药类行业,光伏、 LED 行业及半导体行业收入占比较小。 2016年以来,公司抓住半导体产业的发展机遇,逐步扩大其产品在半导体领域的销售占比, 2016和 2017 年来自半导体领域收入占公司营业收入比重分别为 50%和 57%,占据公司营业收入半壁江山。主攻半导体清洗设备。
该公司于 2015 年开始启动湿法工艺装备研发, 2016 年成立院士工作站, 2017 年成立独立的半导体湿法事业部至微半导体,目前已经形成了 UltronB200 和 Ultron B300 的槽式湿法清洗设备和 Ultron S200 和 Ultron S300 的单片式湿法清洗设备产品系列, 并取得 6 台的批量订单。
精测电子
武汉精测电子技术股份有限公司创立于 2006 年 4 月,并于 2016 年 11 月在创业板上市。公司主要从事平板显示检测系统的研发、生产与销售,在国内平板显示测试领域处于绝对领先地位, 主营产品包括:模组检测系统、面板检测系统、OLED 检测系统、AOI光学检测系统和平板显示自动化设备。近几年来,该公司积极对外投资,设立多家子公司,业务规模迅速扩张,进一步完善了产业布局。
该公司成立初期主要专注于基于电讯技术的信号检测,是国内较早开发出适用于液晶模组生产线的 3D 检测、基于 DP 接口的液晶模组生产线的检测和液晶模组生产线的 Wi-Fi 全无线检测产品的企业,目前该公司的 Module 制程检测系统的产品技术已处于行业领先水平。
2014 年,精测电子积极研发 AOI 光学检测系统和平板显示自动化设备,引进了宏濑光电和台湾光达关于 AOI 光学检测系统和平板显示自动化设备相关的专利等知识产权,使其在 Array制程和 Cell 制程的检测形成自有技术,初步形成了“光、机、电”技术一体化的优势。
精测电子2018年上半年财务报告显示,该公司收入主要来自 AOI 光学检测系统业务,占比 45.49%,毛利占比 41.94%;其次是模组检测系统业务,收入占比 23.33%,毛利占比 27.68%; OLED 检测系统和平面显示自动化设备收入占比分别为 14.29%和12.30%,毛利占比为 14.26%和 10.28%。
电子 科技 集团45所
中国电子 科技 集团公司第45研究所创立于1958年,2010年9月,中央机构编制委员会办公室批准45所第一名称更改为“北京半导体专用设备研究所”,第二名称仍保持“中国电子 科技 集团公司第四十五研究所”不变。
45所是国内专门从事军工电子元器件关键工艺设备技术、设备整机系统以及设备应用工艺研究开发和生产制造的国家重点军工科研生产单位。
45所以光学细微加工和精密机械与系统自动化为专业方向,以机器视觉技术、运动控制技术、精密运动工作台与物料传输系统技术、精密零部件设计优化与高效制造技术、设备应用工艺研究与物化技术、整机系统集成技术等六大共性关键技术为支撑,围绕集成电路制造设备、半导体照明器件制造设备、光伏电池制造设备、光电组件制造和系统集成与服务等五个重点技术领域,开发出了电子材料加工设备、芯片制造设备、光/声/电检测设备、化学处理设备、先进封装设备、电子图形印刷设备、晶体元器件和光伏电池等八大类工艺设备和产品,服务于集成电路、光电元器件与组件、半导体照明和太阳能光伏电池四大行业.
上海睿励
睿励科学仪器(上海)有限公司是于2005年创建的合资公司,致力于研发、生产和销售具有自主知识产权的集成电路生产制造工艺装备产业中的工艺检测设备。主要生产用于65/28/14nm制程工艺控制的膜厚测量设备。
沈阳芯源
沈阳芯源微电子设备有限公司成立于2002年,由中科院沈阳自动化研究所引进国外先进技术投资创建。
芯源公司自主开发的单片匀胶机、显影机、喷胶机、去胶机、清洗机、湿法刻蚀机等设备广泛应用于半导体、先进封装、MEMS、LED等领域。
1.LED领域匀胶显影机:应用于LED芯片制造、PSS(图形化衬底)、MEMS、HCPV(高聚光型太阳能电池)、Waveguide(光波导)工艺的匀胶显影等工艺制程。
2.高端封装全自动涂胶显影机:广泛应用于先进封装BGA、Flip-Chip、WSP、CSP制程的高黏度PR、PI、Epoxy的涂敷、显影工艺制程。
3.高端封装全自动喷雾式涂胶机: 广泛应用于TSV、MEMS、WLP等工艺制程。
4.单片湿法刻蚀机/去胶机/清洗机:广泛应用于先进封装BGA、Flip-Chip、WSP、CSP制程的刻蚀、去胶、清洗工艺制程。
5.前道堆叠式全自动涂胶显影机:应用于90nm光刻工艺、BARC涂覆、SOC、SOD、SOG等工艺制程。
盛美半导体
盛美半导体(ACM Research)是国内半导体清洗设备主要供应商,于1998年在美国硅谷成立,主要研发电抛光技术,2006 年成立上海子公司,专注于半导体清洗设备。2017年11月4日公司在美国纳斯达克上市。2017年公司营业收入3650万美元,同比增长33.2%,其中90%以上的营业收入来自于半导体清洗设备。2017 年研发投入占营业收入比例为14.1%。
由于声波清洗可能会造成晶片损伤,行业公司大多转向研发其他技术,盛美半导体另辟蹊径研发出空间交变相移兆声波清洗(SAPS)和时序能激气泡震荡兆声波清洗(TEBO)两项专利技术,可以实现无伤清洗。公司的清洗设备目前已经进入 SK 海力士、长江存储和上海华力等先进产线。
天津华海清科
天津华海清科机电 科技 有限公司成立于2013年,是天津市政府与清华大学践行“京津冀一体化”国家战略,为推动我国化学机械抛光(CMP)技术和设备产业化成立的高 科技 企业。
华海清科主要从事CMP设备和工艺及配套耗材的研发、生产、销售与服务,核心团队成员来自清华大学摩擦学国家重点实验室及业内专业人才,产品可广泛应用于极大规模集成电路制造、封装、微机电系统制造、晶圆平坦化、基片制造等领域。
中电科装备
中电科电子装备集团有限公司成立于2013年,是在中国电子 科技 集团公司2所、45所、48所基础上组建成立的二级成员单位,属中国电子 科技 集团公司独资公司,注册资金21亿元,该公司是我国以集成电路制造装备、新型平板显示装备、光伏新能源装备以及太阳能光伏产业为主的科研生产骨干单位,具备集成电路局部成套和系统集成能力以及光伏太阳能产业链整线交钥匙能力。
多年来,利用自身雄厚的科研技术和人才优势,形成了以光刻机、平坦化装备(CMP)、离子注入机、电化学沉积设备(ECD)等为代表的微电子工艺设备研究开发与生产制造体系,涵盖材料加工、芯片制造、先进封装和测试检测等多个领域;通过了ISO9001、GJB9001A、UL、CE、TüV、NRE等质量管理体系与国际认证。
沈阳拓荆
沈阳拓荆 科技 有限公司成立于2010年4月,是由海外专家团队和中科院所属企业共同发起成立的国家高新技术企业。拓荆公司致力于研究和生产薄膜设备,两次承担国家 科技 重大专项。2016年、2017年连续两年获评“中国半导体设备五强企业”。
该公司拥有12英寸PECVD(等离子体化学气相沉积设备)、ALD(原子层薄膜沉积设备)、3D NAND PECVD(三维结构闪存专用PECVD设备)三个完整系列产品,技术指标达到国际先进水平。产品广泛应用于集成电路前道和后道、TSV封装、光波导、LED、3D-NAND闪存、OLED显示等高端技术领域。
华海清科
天津华海清科机电 科技 有限公司成立于2013年,是天津市政府与清华大学践行“京津冀一体化”国家战略,为推动我国化学机械抛光(CMP)技术和设备产业化成立的高 科技 企业。
华海清科主要从事CMP设备和工艺及配套耗材的研发、生产、销售与服务,核心团队成员来自清华大学摩擦学国家重点实验室及业内专业人才,产品可广泛应用于极大规模集成电路制造、封装、微机电系统制造、晶圆平坦化、基片制造等领域。
以上就是我国大陆地区的主要半导体设备生产企业。
随着我国半导体产业的快速发展,对半导体设备的需求量越来越大,而本土半导体设备企业面临着供给与需求错配的情况。一方面,国内的半导体设备需求随着下游产线的扩张而迅速增加,大陆的半导体设备需求占全球半导体设备需求的比重较高;但另一方面,本土的设备供给存在着水平较为落后,国产化率不高的情况。
针对这一情形,在国家的大力支持下,国内设备企业需要积极布局,以在各细分设备领域实现突破。
半导体芯片材料是半导体产业链中细分最广,半导体芯片材料主要分为圆晶制造材料和封装材料,具体而言, 晶圆制造材料包括光刻胶,光刻胶试剂,硅片,SOI,掩模,电子气体,工艺化学品,靶材,CMP材料(抛光液和抛光垫)和其他材料,封装材料包括引线框,包装基板,陶瓷基板,键合线,封装材料,芯片键合材料和其他封装材料 ,每种材料都包含数十种甚至数百种特定产品。
安集 科技 的主要业务是关键半导体芯片材料的研发生产,目前的产品包括不同系列的 半导体芯片化学机械抛光液和光刻胶去除剂 ,主要用于半导体芯片制造和高级半导体芯片封装领域, 公司成功地打破了国外制造商在半导体芯片领域对化学机械抛光液的垄断,实现了国产替代 ,并使中国企业在该领域具有独立的供应能力,公司的10-7nm技术节点产品正在开发中。
化学机械抛光(CMP) 是在半导体芯片制造过程中使晶片表面平坦化的关键过程,与传统的纯机械或纯化学抛光方法不同,CMP工艺将表面化学和机械抛光相结合,以微米/纳米级去除晶片表面上的不同材料,从而达到晶片表面的高度,用以保证平坦化效果使下一个光刻工艺得以进行。 CMP的主要工作原理是,在纳米研磨剂的机械研磨作用和纳米研磨剂的机械研磨作用之间的高度有机结合的情况下,抛光的晶片在一定压力下并在存在抛光液的情况下相对于抛光垫移动,在各种化学试剂的化学作用下,使抛光后的晶片表面满足高平整度,低表面粗糙度和低缺陷的要求。根据不同工艺和技术节点的要求,每个晶片在生产过程中将经历数个甚至数十个CMP抛光工艺步骤。
光刻胶去除剂 是一种高端的湿化学药品,用于在光刻工艺中去除光刻胶残留物,在晶圆光刻工艺结束时,必须使用光刻胶去除剂才能完全去除残留的光刻胶,然后再进入下一个工艺。对于这种工艺,目前只有少数国内供应商具有供应能力,公司的光刻胶去除剂可根据不同的应用领域分为三个主要系列,包括:集成电路制造系列,晶圆级封装系列和LED / OLED系列。
安集 科技 目前的客户主要是中国领先的集成电路制造商,先进的封装制造商和LED / OLED制造商,包括中芯国际,长江存储/武汉新芯,华虹集团,华润微电子,士兰微,长电 科技 、华天 科技 、通富微电、晶方 科技 、三安光电、和辉光电和中国台湾的台积电、联电、升阳 半导体、日月光、硅片等; 按份额比例占比前五的客户分别为中芯国际(约60%)、台积电(约8%)、长江存储(约7%)、华润微电子(约4%)和华虹半导体(约4%)。
长期以来,全球化学机械抛光液市场主要由美国和日本公司垄断,包括CabotMicroelectronics,美国Versum和日本Fujimi。作为一家国内公司, 安集 科技 成功打破了国外垄断,并抢占了一定的市场份额,目前半导体芯片抛光液产品约占全球市场份额的2.5%,尽管与全球巨头的差距仍然很大,但已逐渐开始实现国内替代并建立国际声誉 ;公司布局的另一个产品领域光刻胶去除剂,目前国内同样也主要依赖于进口,除美国的Versum和Entegris外, 光刻胶去除剂的细分主要公司还包括安集科 科技 和上海新阳。
前三季度公司实现营业收入3.09亿元,同比增长50.39%;净利润1.14亿元,同比增长145.49%;第三季度收入为1.17亿,同比增长53.50%。
A股上市公司半导体芯片材料龙头股安集 科技 目前处于震荡走势,据大数据统计主力筹码约为23.5%,主力控盘比率约为27.9%,主力筹码及控盘比率略显不足; 个股趋势股性可以参考5日均线与60日均线组合,当5日均线与60日均线处于多头排列且方向均为向上时,以5日均线作为多空参考。
日本经济产业省在2019年7月1日宣布对韩国实行出口审查管制,将韩国自外汇出口贸易法令名单删除,并与2019年7月4日对出口韩国的OLED面板表层防护材料氟聚酰亚胺、半导体黄光制程关键材料光阻剂和刻蚀气体高纯度氟化氢等化学原料进行出口审查,一时间整个半导体市场炸了窝。此外有消息称韩国将从中国进口高纯度氟化氢等半导体材料,国内多氟多等相关公司股价一飞冲天。
除了氟聚酰亚胺和高纯氟化氢等外,另一种半导体材料溅射靶材也是必不可少的重要材料,江丰电子(300666.SZ)和阿石创(300706.SZ)、有研新材子公司有研亿金在溅射靶材领域已经颇具规模,在市场中也具有一定竞争优势,是半导体材料国产化中的重点企业。目前江丰电子和阿石创上半年业绩预告都已经披露,有研新材半年报业绩预告还不见踪迹,因此我们主要回顾下江丰电子和阿石创的业绩。
上半年业绩预告回顾
上市两个年头,江丰电子净利润减半
江丰电子业绩预告显示,公司2019年上半年归母净利润1598.59-1106.72万元,相比去年同期的2459.37万元,降幅35%-55%,业绩下降的原因主要是2019年实施了第一期股票期权激励计划,上半年摊销相关费用约为556.16万元,约占上年同期归母净利润的19.22%;报告期内随着公司产能和规模不断扩大、各项研发项目加大力度,导致报告期内研发费用、折旧等相关费用支出同比有所增加,再加上公司银行借款金额增加带来利息费用增加,以及预计公司今年1-6月份非经常性损益935万元,公司上半年业绩有较大幅度降低。
江丰电子的主营业务是高纯溅射靶材的研发、生产与销售,产品主要是各种高纯溅射靶材,包括铝靶、钛靶、钽靶、钨钛靶等,主要用于集成电路、液晶面板、薄膜太阳能电池制造的物理气相沉积工艺即PVD,用于制备电子薄膜材料。
江丰电子是2017年6月上市的,上市之初公司净利润还有2000万元的规模,而上市刚满两个年头净利润就下滑至原来的一半,也显得不太正常。
售价下跌,阿石创利润跌破千万元
阿石创在业绩预告中提到,公司上半年归母净利润870-1250万元,相比去年同期的1919.88万元,归母净利润下降34.89%-54.68%,公司上半年业绩与江丰电子一样腰斩了。
阿石创在公告中提到,公司根据下游市场变化情况,不断优化产品销售结构,促使营收较上年同期相比稳定增长,但部分产品受到积极的销售政策影响导致销售单价下滑,同时由于优化产品结构所投入的高端大型设备产能未能完全释放导致折旧等固定成本增加,因此净利润较上年同期有所下降。
阿石创是一家专门从事各种PVD镀膜材料研发、生产与销售的企业,主要产品是溅射靶材和蒸镀材料,其中溅射靶材主要用于平板显示、光学光通讯、节能玻璃等行业,蒸镀材料主要用于LED、平板显示和半导体分立器件等领域,同时公司拟还加大力度,积极拓展半导体、光伏等行业。
阿石创2017年9月上市,比江丰电子晚了三个月,上市之初公司拟净利润3500万元左右,但倘若半年报披露后公司净利润真的降到800多万的话,公司的投资价值就要重估了。
什么是溅射靶材?
江丰电子、阿石创和另一家上市公司有研新材(600206.SH)子公司有研亿金均有溅射靶材这项业务,那么什么是溅射靶材,这三家公司的溅射靶材业务有什么区别,笔者下面做个简单介绍。
先说溅射靶材。溅射靶材主要应用在晶圆制造和先进封装过程中。以芯片制造为例,我们已经知道在芯片制造过程中有几大关键步骤:光刻、刻蚀、离子注入和抛光等,在抛光工艺CMP之后还有一个金属化的过程,溅射靶材就是在芯片金属化过程中,通过CVD设备使用高能粒子轰击靶材然后在硅片上形成特定功能的金属层,比如阻挡层和导电层。
溅射靶材产业链主要环节有金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用,其中靶材制造和溅射镀膜是关键环节,江丰电子给我们介绍了铝靶的制造过程如下(其他靶材制造过程类似):
靶材的分类很多,按照应用领域分类,靶材可分为半导体用靶材、平板显示用靶材等不同类型,其性能一起也有较大差别:
智研咨询数据显示2016年全球溅射靶材市场规模达到113.6亿美元,其中平板显示、半导体、太阳能电池、记录媒体和其他用五大类型的靶材市场规模分别为38.1亿美元、11.9亿美元、23.4亿美元、33.5亿美元和6.7亿美元,平板显示市场容量占比达到33.54%,半导体市场占比仅有10%左右。相比于千亿美元级别的集成电路市场,溅射靶材的市场规模就小了很多,但其成长性较高,2016年智研咨询的数据显示,预计2016-2019年溅射靶材市场规模GAGR13%, 2019年达到160亿美元左右。
在集成电路用高纯金属靶材领域,江丰电子打破了美日跨国公司的垄断,填补了国内电子材料行业的空白,解决了从无到有的问题,但若要想在该行业内竞争,现有实力还是远远不够。毕竟在全球范围内,美国霍尼韦尔、普莱克斯、日本日矿金属、东曹、住友化学等无论是技术水平还是研发实力、资金实力等都是全球领先,也占据着全球溅射靶材市场绝大部分份额,2015年日本日矿金属在整个溅射靶材市场的份额高达55%,前五大厂商市场份额达到80%。实际上包括溅射靶材在内的半导体材料领域,中国占全球市场的比例2016年仅有2%左右,国产化率也仅有20%左右,还以中低端为主,在高端领域,国内企业想做的功课还很多。
在国内江丰电子还面临诸多国内企业的竞争。除了江丰电子,国内目前做溅射靶材的公司主要有有研新材和阿石创,其中有研新材子公司有研亿金生产半导体用溅射靶材,阿石创主要生产平板显示用溅射靶材,而江丰电子半导体溅射靶材和平板显示溅射靶材均有。
靶材三杰的比较
业务差异
招股书资料显示,江丰电子的靶材主要分为铝靶、钛靶(包括钛环)、钽靶(包括钽环)、钨钛靶,其中钛靶和钽靶主要用于半导体领域,铝靶和钨钛靶有一部分可用于太阳能电池领域,下游客户半导体领域江丰电子的产品进入台积电、格罗方德、中芯国际等一线半导体企业,太阳能用靶材的主要客户是SunPower:
阿石创是从事PVD镀膜材料的研发,目前该产品分为两大类:溅射靶材和蒸镀材料,其中溅射靶材主要是用于平面显示,按照原材质种类阿石创将溅射靶材分为以下三个种类,分类标准与江丰电子不同:
蒸镀材料是阿石创的另一大产品,按照材质公司也将蒸镀材料分为氧化物蒸镀材料等三大类,蒸镀材料主要用于光学元器件、LED、平板显示等:
在收入构成上,2018年阿石创主要的收入是PVD镀膜材料,占到公司营收的96.84%,其中溅射靶材收入占比77.93%,蒸镀材料收入占比18.91%。
客户群体上阿石创与江丰电子相比稍逊一些,招股书显示公司主要客户为北方光电、中电 科技 (南京)电子信息发展有限公司、湖北森浤光学有限公司和南玻集团和蓝思 科技 等,而江丰电子在平面显示领域的客户为京东方和华星光电。
有研新材的业务比江丰电子和阿石创更复杂,其主要业务是高纯金属及稀贵金属材料、高端稀土功能材料等,其全资子公司有研亿金从事的是溅射靶材及蒸发材料等微电子用薄膜材料,目前有研亿金的主要产品有以下几种:
其中在4-8寸芯片制造用靶材市场有研亿金市国内占率第一,在8-12寸先进封装行业用靶材市场公司同样市占率第一。在客户方面,有研新材的主要客户有日立材料、日本先进材料株式会社、优美科等,客户质地同样要好于阿石创。
营收规模有研亿金最高
既然说到了公司就不能不说营收规模。有研新材业务多,体量大,其营收规模也是三个公司中最大的,2018年有研新材、阿石创和江丰电子的营收分别为47.68亿元、2.56亿元和6.50亿元,营收规模阿石创最小。
有研亿金是有研新材体系中从事溅射靶材的主体,如果将有研亿金与阿石创和江丰电子对比,从营收规模上来看有研亿金还是最大的,2018年其营收规模达到17.01亿元,远高于阿石创和江丰电子:
从营收增速来看,阿石创、江丰电子和有研亿金2016年以来的营收增速是放缓的,这与过去几年整个半导体行业景气度下行相关。有研新材复杂的业务体系决定了,即便个别业务下降,但在其他业务增长之下,整体业务还是可以保持增长。
综合盈利能力江丰电子最稳定
笔者简单对照了下这几家公司的综合毛利率,发现江丰电子的综合毛利率一直维持在31%左右,其他公司毛利率近几年均有不同程度的下滑,这个可能与江丰电子优质的客户资源有关,毕竟其最主要的产品半导体溅射靶材已经进入台积电等供应链体系,平面显示溅射靶材的客户也是京东方这样的优质客户。但是ROE方面这三家公司都出现一定幅度的下降,尤其是江丰电子和阿石创,ROE下降幅度很大,这与公司成本费用控制能力、原材料价格波动等因素有关,鉴于时间太晚的缘故,笔者就不展开了,等这三家公司半年报正式发布了,再依次讨论:
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