半导体rtp是快速热处理的意思。
升温速率能达到10~100摄氏度每秒。一般采用红外卤素灯或者电阻棒加热,加热时电流很大,功率很大。
半导体的制备
1、沙子:硅是地壳内第二丰富的元素,而脱氧后的沙子(尤其是石英)最多包含25%的硅元素,以二氧化硅(SiO2)的形式存在,这也是半导体制造产业的基础。
2、硅熔炼:12英寸/300毫米晶圆级,下同。通过多步净化得到可用于半导体制造质量的硅,学名电子级硅(EGS),平均每一百万个硅原子中最多只有一个杂质原子。此图展示了是如何通过硅净化熔炼得到大晶体的,最后得到的就是硅锭。
3、单晶硅锭:整体基本呈圆柱形,重约100千克,硅纯度99.9999%。
4、硅锭切割:横向切割成圆形的单个硅片,也就是我们常说的晶圆(Wafer)。
5、晶圆:切割出的晶圆经过抛光后变得几乎完美无瑕,表面甚至可以当镜子。
RTP的含义:实时传输协议(Real-time Transport Protocol或简写RTP)是一个网络传输协议,它是由IETF的多媒体传输工作小组1996年在RFC 1889中公布的。
RTP,即快速热处理,是一种升温速度非常快保温时间很短的热处理方式。
简介
RTP快速热处理(rapid thermal processing),是一种升温速度非常快的,保温时间很短的热处理方式。升温速率能达到10~100摄氏度每秒。一般采用红外卤素灯或者电阻棒加热,加热时电流很大,功率很大。
实验室一般采用专门的RTP炉进行实验。是半导体制造中的一道工艺,可以用于离子注入后的杂质快速激活、快速热氧化等。此方法能大量节省热处理时间和降低生产成本,是热处理上的一次革新。
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