60岁博士尹志尧弃美回国,破冰芯片关键技术,打破美方技术垄断

60岁博士尹志尧弃美回国,破冰芯片关键技术,打破美方技术垄断,第1张

中微半导体可以说是我国芯片领域传奇般的存在 , 面对美国甩出的三把制裁利刃,中微都能险之又险的躲过,并凭借自身过硬的技术实力研发出了等离子刻蚀机 , 让美国都束手无策,美商业部更是将该技术从国家安全出口管制名单中剔除。

组建中微半导体公司的是有着国产设备界教父之称的尹志尧 , 同时,他也是中国突破芯片技术垄断的第一人,究竟尹志尧和他的中微半导体在国内的分量有多重?他又是如何带领中微半导体从美国的三次专利大刀之下奇迹般脱身的呢?

中微半导体要做就做世界第一,做中国第一也会被别人替代 , 这句话出自尹志尧的口中,这位半导体领域的既懂技术又懂得经营的大神 , 已经专注等离子设备研发二十年之久,个人拥有的专利数多达六十多项 , 原本他能很好的在美国做一个应用材料公司的副总裁 , 只因他当年说出的一句誓言,决定只为他日归来,报效祖国。

早年,尹志尧出生在北京城内,大学毕业后 , 在甘肃兰州炼油厂工作了近十年 , 1978 年,他考入了北京大学化学系硕士 , 在那他幸运的见到了一台内存只有一百二十 八 k 的国内最先进计算机,光是电子管做到占据了两栋大楼 , 那场面着实震撼到了尹志尧。

在那时,他的心中就涌现出中国的电脑,要拥有更多内存运行更快的芯片的想法 , 1980 年间,尹志尧父亲鼓励他去国外进修,于是尹志尧踏上了美国的 旅途, 在加利福尼亚大学洛杉矶分校攻读了博士,然后他就在硅谷内打拼 ,和快就得到了科林公司的赏识。

到科林工作后 , 尹志尧用短短数年的时间,就开发出一系列成功的产品,一举帮助科林斩获全球百分之四十的市场 , 这时新的挑战摆到尹志尧的面前,昔日霸主美国应用材料公司向尹志尧 抛 来橄榄枝 , 希望能借助尹志尧让公司扭亏为盈。

1991 年,他到全球最大的半导体设备公司 , 美国应用材料公司担任副总裁 , 在这里,他参与了刻蚀机的研发工作 , 仅仅几年的时间,尹志尧和他的伙伴们就研发出新的产品,一经问世,迅速占领全球百分之五十的市场份额 , 这才是全市实际上到哪里都会发光的最佳案例。

2004 年,六十岁的尹志尧再次开启新的人生挑战,他放弃美国的百万年薪,带领三十人的创业团队返回中国 , 回到国内后,尹志尧及其带回来的人共同创办了中微半导体设备公司 , 不到三年的时间就做出了第一台国产的等离子体刻蚀机,并且采用了业内首创的双反应台,效率比国外同类型产品高出百分之三十。

很多人可能不清楚什么是等离子刻蚀机 是什么, 其实它也是芯片制造过程中最为关键的一步 , 芯片制造不是说有了光刻机,所有问题就都能解决了 , 芯片制造需要经过非常复杂的上百道工序 , 只有光刻机是无法生产 的。

不过在美国应用材料公司的眼中 , 不管你制作多么艰难,他都理所当然的认为尹志尧偷了他们的技术,进而对 中微 半导 体 提起了诉讼 , 花费两年半的时间,彻查成为六百多万件文件和三十多人的电脑都没有找到关于美国应用材料的图纸、技术等数据。

西方国家的技术封锁只在短时间内有效 , 长远来看,只会搬起石头砸自己的脚 , 而技术上只有完全实现国产化,才能有足够的底气和这些西方无赖摆摆手腕, 中微在连续的官司内 名声大噪 , 再加上设备质量过硬,不到十八个月的时间,就占据了国内百分之七十的市场份额,彻底改头换面了。

这绝对是国产半导体领域 , 取得了一次不可思议的胜仗。前不久,中微半导体更是推出了国产五纳米 蚀刻机 ,并获得台积电的认可 , 国产芯片的突破相信就在不远的前方了 ,虽然 说中微的五纳米克时机并不等于能做五纳米光刻机,但是它的出现意味着中国半导体领域向前跨越了意义重大的一步 ,是中国芯片崛起的必经之路。

美国已向芯片制造商提供了 520 亿美元的补贴,需要在美国建厂,10年内无法扩大对中国先进工艺芯片的投资。让芯片厂商在中美之间做出选择。为了遏制中国芯片产业的崛起。预计未来10年美国将建设19家芯片工厂,使美国芯片制造能力翻一番,摆脱对亚洲芯片制造能力的依赖。它不仅对中美关系,对全球供应链都产生巨大影响。

中美两国是整个链条中最重要的“参与者”。当主要“玩家”发生冲突甚至相互对抗时,对全球半导体产业长期健康稳定发展的影响可能是致命的。如果说美国推出的新“筹码法案”就像是一场征战,那么中国只能正面挑战。这是一场持久战。我国半导体产业只能拿出决心,坚定信心,保持决心,在持久战中扎实补全产业短板,一步一个脚印地去做,因为中国芯片的突破没有捷径可走。中国的芯片事业也如火如荼。

华为今年预计将在芯片上投入1200亿元,在这样的投入作用下,海思芯片将加速“破冰”。除了手机处理器,华为海思还有路由器芯片、电视芯片等,其中海思自主研发的电视芯片已经开始被行业厂商采用。中国半导体企业的总销售额增长了四分之一,达到1万亿元人民币,创历史新高。今年上半年,中国少进口半导体200亿多,基本不进口低端芯片。可以看出,中国企业正在不断减少对美国企业芯片的依赖。我国“东方核心港”正式落地,集聚了一批高密度集成电路产业。相信随着时间的发展,我国的中高端芯片也能赶上,弯道超车是有可能的。                 

老美为了限制华为等高 科技 中企的发展,不惜修改规则、破坏全球芯片产业链的平衡,实施了令全球半导体市场为之侧目的芯片禁令。

作为推动 科技 发展的“粮食”,芯片的重要性不言而喻,经过此次芯片“卡脖子”之痛,我们彻底认识到了搭建一条完善半导体产业链的重要性。

然而,由于此前过度依赖海外进口,导致我们在有些关键材料、技术、设备等多个细分领域都有着较大的短板,比如全球只有ASML能生产的EUV光刻设备,堪称是我们实现高端芯片国产化路上最大的“藩篱”。

EUV光刻机作为半导体产业链中最复杂、最精密的设备之一,每台价值高达1.2亿美元,所含精密零件高达十万个,更重要的是,它糅合了全球很多国家的顶尖技术,比如美国的光源、瑞士的机床、德国的镜头等等。不管是ASML或者是台积电,几乎都不看好我们能突破这个壁垒。

但是要知道,再尖端的技术设备也是人造的,而非神造的。

在这关键时刻,中科院、清北高校等顶尖科研机构挺身而出,主动接过光刻研发的重任,并成立专项攻关小组,从EUV最核心的设备入手,来逐一进行破冰。

功夫不负有心人,在科学家们与 科技 企业的共同努力之下,EUV光刻设备的三项核心技术“双工件台系统、光源、光学镜头”先后被攻克。

在双工件台系统领域,北京华卓精科早在2019年底就实现了国产化,成为了继ASML之后,全球第二家掌握该技术的企业。其生产的双工件台应用领域非常广泛,不仅有 65nm及以下节点的ArF干式、浸没式步进扫描光刻机、KrF步进扫描光刻机;而且,单台系列产品还适用于i线、g线步进扫描光刻机及封装光刻机等

在光源方面,唐传祥教授带领的清华科研团队,通过SSMB工作原理, 探索 出了一种加速离子光源“稳态微聚束”,波长可从太赫兹覆盖到极紫外光波段,而极紫外光正是EUV的核心光源。

而近日,央视报道了“光学镜头”的好消息。

中科院研发出的国内首台高能同步辐射光源设备,已步入安装阶段,且工程量完成了70%以上。这是全球最亮的第四代光源之一,该设备的落地,将为国内企业对于光学镜头的研发提供技术支持与保障。

随着EUV三大核心技术的破冰,国产高精度光刻设备的到来不会太久,毕竟我国拥有着全球最大的制造市场,EUV设备的零件根本不是什么大问题。

当然,只有设备,没有芯片制造产线也是不行的。

好消息是,从去年到现在,我国有8座晶圆厂处于在建状态,预计2022年便可全部完工。这意味着,我们不仅有机会进军高端芯片市场,即便已站稳脚跟的中低端芯片市场,其产能也能迎来喷井式的爆发。

至于老美此前卖给我们的高价芯片,就从此让它烂在美企的仓库里吧。

在芯片禁令之初,美国院士就曾发出忠告Meserve:不卖给中国芯片,只会加速他们的研发脚步,或许三五年时间,他们就能彻底摆脱美国市场,到时候,以出口为主的美芯片就真的无所适从了。

事实也的确如此,在华为等中企受到芯片断供影响的同时,美半导体市场一样损失惨重,国际半导体协会SEMI曾统计过,在不卖给中企芯片的半年时间里,美半导体市场损失了近1100亿,而且还失去了很多的高薪岗位。

如今的“中国芯”势如破竹,美国院士的预言即将成真,而美半导体所遭受的损失必然还将继续,不过,这一切都是它自食其果。


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