半导体行业使用的气体具体用途是什么

做Si集成电路的fab里，你列举的这些都用的到。

硅烷和笑气，长氧化硅时候用。

HCL:清洗wafer的时候用。

CF4:蚀刻Si和氧化硅的时候用。

SF6:蚀刻Si的时候用。

其他还有BCl3, Cl2, Ar差不多都是蚀刻的使用。

在半导体芯片厂，特别是12英寸的晶圆厂，会使用化学过滤器，化学过滤器一般分为三种，除酸性气体（SO42-、F-、CL-、NO3-、CHCOO-、HCOO-等）、除碱性气体（NH3,NMP等）和除有机物（TVOC),祛除的气体不同选择的化学过滤材料也不相同。祛除气体的浓度不同化学过滤器的寿命也不相同。。。。。上海宣拓

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