相对于第一代(硅基)半导体,第三代半导体禁带宽度大,电导率高、热导率高。第三代半导体的禁带宽度是第一代和第二代半导体禁带宽度的近3倍,具有更强的耐高压、高功率能力。
氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC)并称为第三代半导体材料的双雄,由于性能不同,二者的应用领域也不相同。
氮化镓、高电流密度等优势,可显著减少电力损耗和散热负载,迅速应用于变频器、稳压器、变压器、无线充电等领域,是未来最具增长潜质的化合物半导体。
与GaAs和InP等高频工艺相比,氮化镓器件输出的功率更大;与LDCMOS和SiC等功率工艺相比,氮化镓的频率特性更好。
随着行业大规模商用,GaN生产成本有望迅速下降,进一步刺激GaN器件渗透,有望成为消费电子领域下一个杀手级应用。
GaN主要应用于生产功率器件,目前氮化镓器件有三分之二应用于军工电子,如军事通讯、电子干扰、雷达等领域。
在民用领域,氮化镓主要被应用于通讯基站、功率器件等领域。氮化镓基站PA的功放效率较其他材料更高,因而能节省大量电能,且其可以几乎覆盖无线通讯的所有频段,功率密度大,能够减少基站体积和质量。
氮化镓在光电子、高温大功率器件和高频微波器件应用方面有着广阔的前景。随着5G高频通信的商业化,GaN将在电信宏基站、真空管在雷达和航空电子应用中占有更多份额。
根据Yole估计,大多数Sub 6GHz的蜂窝网络都将采用氮化镓器件,因为LDMOS无法承受如此之高的频率,而砷化镓对于高功率应用又非理想之选。
同时,由于较高的频率会降低每个基站的覆盖范围,需要安装更多的晶体管,因此市场规模将迅速扩大。
Yole预测,GaN器件收入目前占整个市场20%左右,到2025年将占到50%以上,氮化镓功率器件规模有望达到4.5亿美元。
从产业链方面来看,氮化镓分为衬底、外延片和器件环节。
尽管碳化硅被更多地作为衬底材料(相较于氮化镓),国内仍有从事氮化镓单晶生长的企业,主要有苏州纳维、东莞中镓、上海镓特和芯元基等。
从事氮化镓外延片的国内厂商主要有三安光电、赛微电子、海陆重工、晶湛半导体、江苏能华、英诺赛科等。
从事氮化镓器件的厂商主要有三安光电、闻泰 科技 、赛微电子、聚灿光电、乾照光电等。
GaN技术的难点在于晶圆制备工艺,欧美日在此方面优势明显。由于将GaN晶体熔融所需气压极高,须采用外延技术生长GaN晶体来制备晶圆。
其中日本住友电工是全球最大GaN晶圆生产商,占据了90%以上的市场份额。GaN全球产能集中于IDM厂商,逐渐向垂直分工合作模式转变。美国Qorvo、日本住友电工、中国苏州能讯等均以IDM模式运营。
近年来随着产品和市场的多样化,开始呈现设计业与制造业分工的合作模式。
尤其在GaN电力电子器件市场,由于中国台湾地区的台积电公司和世界先进公司开放了代工产能,美国Transphorm、EPC、Navitas、加拿大GaN Systems等设计企业开始涌现。
在射频器件领域,目前LDMOS(横向扩散金属氧化物半导体)、GaAs(砷化镓)、GaN(氮化镓)三者占比相差不大,但据Yoledevelopment预测,至2025年,砷化镓市场份额基本维持不变的情况下,氮化镓有望替代大部分LDMOS份额,占据射频器件市场约50%的份额。
GaAs芯片已广泛应用于手机/WiFi等消费品电子领域,GaN PA具有最高功率、增益和效率,但成本相对较高、工艺成熟度略低,目前在近距离信号传输和军工电子方面应用较多。
经过多年的发展,国内拥有昂瑞微、华为海思、紫光展锐、卓胜微、唯捷创芯等20多家射频有源器件供应商。
根据2019年底昂瑞微董事长发表的题为《全球5G射频前端发展趋势和中国公司的应对之策》的报告显示,截至报告日,国内厂家在2G/3G市场占有率高达95%;在4G方面有30%的占有率,产品以中低端为主,销售额占比仅有10%。
目前我国半导体领域为中美 科技 等领域摩擦中的卡脖子方向,是中国 科技 崛起不可回避的环节,产业链高自主、高可控仍是未来的重点方向。第三代半导体相对硅基半导体偏低投入、较小差距有望得到重点支持,并具备弯道超车的可能。
氮化镓(GAN)是什么?氮化镓(GAN)是第三代半导体材料的典型代表,在T=300K时为,是半导体照明中发光二极管的核心组成部份。氮化镓是一种人造材料,自然形成氮化镓的条件极为苛刻,需要2000多度的高温和近万个大气压的条件才能用金属镓和氮气合成为氮化镓 ,在自然界是不可能实现的。大家都知道,第一代半导体材料是硅,主要解决数据运算、存储的问题;第二代半导体是以砷化镓为代表,它被应用到于光纤通讯,主要解决数据传输的问题;第三代半导体则就是以氮化镓为代表,它在电和光的转化方面性能突出,在微波信号传 输方面的效率更高,所以可以被广泛应用到照明、显示、通讯等各大领域。1998年,美国科学家研制出了首个氮化镓晶体管。氮化镓(GAN)的性能特点高性能:主要包括高输出功率、高功率密度、高工作带宽、高效率、体积小、重量轻等。目前第一代和第二代半导体材料在输出功率方面已经达到了极限,而GaN半导体由于在热稳定性能方面的优势,很容易就实现高工作脉宽和高工作比,将天线单 元级的发射功率提高10倍。高可靠性:功率器件的寿命与其温度密切相关,温结越高,寿命越低。GaN材料具有高温结和高热传导率等特性,极大的提高了器件在不同温度下的适应性和可靠性。GaN器件可以用在650°C以上的军用装备中。低成本:GaN半导体的应用,能够有效改善发射天线的设计,减少发射组件的数目和放大器的级数等,有效降低成本。目前GaN已经开始取代GaAs作为新型雷达和干扰机的T/R(收/发)模块电子器件材料。美军下一代的AMDR(固态有源相控阵雷达) 便采用了GaN半导体。氮化镓禁带宽度大、击穿电压高、热导率大、电子饱和漂移速度高、抗辐射能力强和良好的化学稳定性等优越性质,使得它成为迄今理论上电光、光电转换效率最高的材料体系,并可以成为制备宽波谱、高功率、高效率的微电 子、电力电子、光电子等器件的关键基础材料。GaN较宽的禁带宽度(3.4eV) 及蓝宝石等材料作衬底,散热性能好,有利于器件在大功率条件下工作。随着对Ⅲ族氮化物材料和器件研究与开发工作的不断深入,GaInN超高度蓝光、绿光LED技术已经实现商品化,现在世界各大公司和研究机构都纷纷 投入巨资加入到开发蓝光LED的竞争行列。氮化镓的应用氮化镓作为半导体发光二极管应用于LED照明也已经在中国发展得风起云涌。目前市场上大规模应用于LED照明的氮化镓芯片距离氮化镓真正的“神奇能量”还相距甚远。GaN半导体可以使得汽车、消费电子、电网、高铁等产业系统所使用的各类电机、 逆变器、AC/DC转换器等变得更加节能、高效。GaN用在大功率器件中可以降低自身功耗的同时提高系统其它部件的能效,节能20%-90%。氮化镓的未来发展GaN宽禁带电力电子器件代表着电力电子器件领域发展方向,材料和工艺都存在许多问题有待解决,即使这些问题都得到解决,它们的价格肯定还是比硅基贵。预计到2019年,硅基GaN的价格可能下降到可与硅材料相比拟的水平。由于它们的优异特 性可能主要用于中高端应用,与硅全控器件不可能全部取代硅半控器件一样,SiC和GaN宽禁带电力电子器件在将来也不太可能全面取代硅功率MOSFET、IGBT和GTO(包括IGCT)。SiC电力电子器件将主要用于1200V以上的高压工业应用领域;GaN电力电 子器件将主要用于900V以下的消费电子、计算机/服务器电源应用领域。GaN作为第三代半导体材料,其性质决定了将更适合4G乃至未来5G等技术的应用。从现在的市场状况来看,GaAs仍然是手机终端PA和LNA等的主流,而LDMOS则处于基站RF的霸主地位。但是,伴随着Si材料和GaAs材料在性能上逐步达到极限,我们预计 GaN半导体将会越来越多的应用在无线通信领域中。聚苯胺(Polyaniline)一种重要的导电聚合物。聚苯胺的主链上含有交替的苯环和氮原子,是一种特殊的导电聚合物。可溶于N-甲基吡咯烷酮中。
聚苯胺随氧化程度的不同呈现出不同的颜色。完全还原的聚苯胺(Leucoemeraldine碱)不导电,为白色,主链中个重复单元间不共轭;经氧化掺杂,得到Emeraldine碱,蓝色,不导电;再经酸掺杂,得到Emeraldine盐,绿色,导电;如果Emeraldine碱完全氧化,则得到Pernigraniline碱,不能导电。
聚苯胺具有优良的环境稳定性。可用于制备传感器、电池、电容器等。
聚苯胺由苯胺单体在酸性水溶液中中经化学氧化或电化学氧化得到,常用的氧化剂为过硫酸铵(APS)。中性条件下聚合的聚苯胺常常含有枝化结构。
聚苯胺是一种具有金属光泽的粉末,因分子内具有大的线型共轭 π电子体系,其自由电子可随意迁移和传递,而成为最具代表性的有机半导体材料。与其他导电聚合物相比,聚苯胺具有结构多样化、耐氧化和耐热性好等特点,同时还具有特殊的掺杂机制。聚苯胺及其衍生物不仅可通过质子酸的掺杂获得良好的导电性,而且可通过加入氧化剂或还原剂来使其骨架中的电子迁移发生改变,即“氧化还原掺杂”。掺杂后,聚苯胺及其衍生物的导电率可提高10个数量级以上,并可改善其在溶剂中的溶解性和加工性能。
自从科学家首次发现用AsF5或I2对聚乙炔进行P型掺杂可获得极高导电率的材料以来,导电高分子已在近年来逐渐发展成一门新型的多学科交叉的研究领域。而经过10多年的研究和试验,聚苯胺树脂的可溶性和加工性方面的研究也已取得了一定的突破。目前,解决导电聚苯胺树脂可溶性主要采取的方法有:功能质子酸掺杂、结构修饰、制备可溶性复合物、制备胶体颗料等。以上方法在不同程度上均可提高聚苯胺在有机溶剂中的溶解度,并进一步提高其成型加工能力。但是大多数有机溶剂都会造成不同程度的环境污染,如果能用水来代替,制成水溶性聚苯胺复合物,不仅有利于环保,也会带来更大的经济效益。因此,近年来水溶性导电聚苯胺已成为人们研究的热点。另外,制备聚苯胺复合物是改善聚苯胺加工性能的主要方法,目前主要采用电化学法和化学氧化法两种工艺。UNIAX公司通过溶液共混的方法制备了一种性能优异的透明导电涂层,透光率达80%,而表面电阻仅为 192Ω,可作为导电玻璃使用。聚苯胺还可以同PET、PVC、PS、PVA、 PA和PMMA等聚合物制成复合膜。如采用原位复合的方法可使PANI在很低的含量下就可具有较高的导电率,这是制备导电聚合物复合材料的一种很有发展前景的方法。
电磁波屏蔽一般是指电磁波的能量被物体表面吸收或反射后而使其传导受阻,电磁波能量衰减程度越大,其屏蔽效果就越好。研究聚苯胺的电磁屏蔽及吸收性能,其导电与介电特性是两个必不可少的参数。随着聚苯胺加工问题的解决,近来以聚苯胺为基础的各种抗静电和电磁屏蔽材料相继问世。如美国UNIAX公司利用有机磺酸掺杂的聚苯胺和商用高聚物进行共混,可制备各种颜色的抗静电地板。另外,研究人员还制备了一种透明的聚苯胺基可热固化的涂料。该涂料与聚合物基体具有良好的粘接性能,它不但耐化学腐蚀,而且耐磨损。另外,科学家最近经反复试验制成了一种水溶性聚苯胺水乳液,它可用作防腐和防静电涂料。美国已将导电聚苯胺用于火箭发射平台的防腐蚀涂层,效果很好。日本还制造了一种透明的PANI防静电涂层,并用于 4MB的软盘上,效果非常好。目前美、日、德聚苯胺电磁屏蔽材料的研究均获得了突破性的进展。
本征导电聚合物(ICPS)是一类新型的微波吸收材料,而高导电及高介电常数的聚苯胺在微波频段能有效地吸收电磁辐射。科学家们经反复试验后得出结论,当掺杂态的聚苯胺处于无定形态时,其吸收比率最大。利用聚苯胺吸收微波这一特性,目前国外已将它用作军事上的伪装隐身,法国正在研制一种隐形潜艇,美国则将其用作远距离加热材料,用于航天飞机中的塑料焊接技术。
随着信息技术的蓬勃发展以及计算机、无线通讯技术的广泛使用,各种频率的电磁波对交通、航空航天、军事等领域的工作产生了不同程度的干扰。为此,一些发达国家和组织相继制定了排除电磁波干扰的国际标准和法规。以聚苯胺为首的包括聚吡咯、聚噻吩等本征导电聚合物在排除电磁波干扰中,发挥了巨大作用。与复合型导电聚合物不同,本征导电聚合物具有相对较高的电导率和介电系数,易于通过化学加工来控制或消除电磁波干扰。而与金属相比,这类材料质轻、有韧性、不易被腐蚀,从而越来越受到人们的青睐。
另外,随着全球经济的迅速发展,环境问题特别是大气污染日益加剧,大气中的各种有害气体不断增多,各国科学工作者已开发出一些相应的气敏材料来检测这些有害气体。聚苯胺薄膜就是利用它能和某些气体发生氧化还原作用,引起掺杂度的改变,进而导致电导率发生明显的变化。利用这一特性,人们可以及时地检测空气中氮氧化物的含量。与NOx不同,H2S是具有还原性的气体。它能使聚苯胺化学传感器的电导率下降。 一般来自工厂的含有SO2的废气对生物和人类的生存环境均有极大的危害,所以如何及时地检测和控制SO2的排放量对控制环境污染至关重要。实验表明,采用旋转和蒸发法制备的聚苯胺薄膜与SO2作用以后,其电导率明显增加,而且完全可逆,其检测极限可达到2ppm。而新制备的聚苯胺蒸发膜灵敏度更高,它甚至可以检测到0.5ppm的SO2含量。另外,在常温下聚苯胺对NH3也有很高的灵敏度,所以也可以用它来检测空气中NH3的浓度含量。关于聚苯胺树脂用于生物传感器近年来中外也有不少研究。自从酶固定的第一篇报告问世以来,人们已经研究了各种固定酶的方法,但到目前为止,无论是酶固定的稳定性、重现性还是固定方法本身均存在一定的问题。鉴于 PANI导电高聚物具有的电化学活性,在氧化还原过程中,阴离子能掺杂进去,为酶的固定提供了新的途径。
为了能制备一种更高电导率的聚苯胺高聚物,今后应加强分子设计和物理改性,研制出一种具有高电导率、介电常数和介电损耗的聚苯胺,以进一步提高聚苯胺树脂的屏蔽和吸收电磁波的性能;要通过各种仪器比和X射线衍射仪、红外光谱仪和扫描电镜等研究其结构与性能的关系。可以相信,通过科学工作者的不断努力和深入研究,今后一种性能更好的聚苯胺及其衍生物的导电聚合物将展现在世人面前,为清除空间电子雾,排除电磁波的干扰,为人类作出更大的贡献。
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