半导体黄光影响

产生薄膜、扩散、蚀刻的影响。

黄光区有电压稳定装置，不致发生晶圆报废情况，但半导体黄光会产生薄膜、扩散、蚀刻区的风险，且较大，可以说是全面报废。

黄光是在半导体行业里，将硅片等晶片进行涂胶、软烘、曝光、显影、硬烤，使其光刻出一定图形的工艺。特点是，黄光是精细电路的制程工艺之一。

半导体黄光区不难学。

黄光区是指TFT工厂或者半导体工厂中的光刻区包含光刻胶涂布、曝光、显影及刻蚀工序

在半导体工业普遍使用的光刻胶，类似于相机的胶片，在遭遇光线照射(特别是紫外线)即有曝光之效果,因此在显影之前,都要远离此光源。因为黄光的波长较长,不容易使得光刻胶曝光,因此将黄光作为显影前最理想的照明光源。

半导体厂用防紫外线黄光管（附被膜防止破裂飞散） 波长500nm以下的光被抑制不会发射，有效防止隔离紫外线，最适合使用在存放感光材料的处所。以东芝防紫外线白色灯管40W为例：亮度高达2880(lm)、寿命更长达10000小时，既环保又省电。用途：适用在使用存放感光材料的处所：IC半导体电子厂、电浆夜晶面板厂、Natebook、PDA、数位相机摄影机、TFT、STN、OLED行动电话制造厂、研发实验室、无尘室等场所。

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