(1)使用外延炉等设备,进行气体纯化、四氯化硅精馏,在单晶片上生长单晶层;
(2)使用高温炉,在半导体晶体表面制备氧化层,使杂质由晶片表面向内部扩散或进行其他热处理;
(3)使用离子注入设备,将掺杂材料的原子或分子电离加速到一定的能量注入到晶体,并退火激活;
(4)使用气相淀积设备,在衬底表面淀积一层固态薄膜;
(5)使用光刻机在半导体表面掩膜层上刻制图形;
(6)使用机械加工等设备,对晶片加工形成器件台面,并对表面作钝化保护;
(7)使用电镀设备,对晶片、半导体器件、集成电路、电级材料的某些部位进行镀覆。
下列工种归入本职业:
外延工,氧化扩散工,离子注入工,化学气相淀积工,光刻工,台面成型工,半导体器件、集成电路电镀工
辽宁稀结紫铜板式半导体电锅炉1、半导体锅炉的热效率95%-98%不同的厂家使用的半导体不同。电控方式不同,照成半导体锅炉的热效率也不同,四面铝管加热体,六面铝管加热体、铜管加热体、铝管加热体+散热水套、紫铜板式加热体。以上不同的加热体热效率也不同,其中紫铜板式加热体因发热体两侧使用紫铜管道,增加传热速度。热效率可达到98%。2、电磁锅炉的热效率88%-92%电磁锅炉理论上比其他的加热方式更加节能,但是也并不能达到100%的热转换效率,其中热量的损失会由IGBT管和线圈损耗掉,一般来说电磁加热线圈的热效率可以达到98%以上。改变电磁控制板的设计思路,采用半桥、全桥设计,另外采用多股漆包线,尽量减小线圈和水胆之间的距离,这样的话电磁锅炉热效率就能达到92%以上。3、电阻式锅炉的热效率80%-90%电阻式锅炉是依靠内部的电阻加热棒来进行加热,它加热时不仅产生热能,还产生光能,光能不能被利用。它的热效率基本上可以达到80%-90%。因为在使用的时候加热棒是被直接放到水里,所以会产生结垢现象,尤其是对于水质较硬的地区来说,这种现象更为严重。而且局部加热方式,使得热量分布不均匀,容易将一个地方加热的特别热,更容易产生水垢,导致加热棒的热效率不断的下降。欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
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