如何处理半导体(LED)废水

如何处理半导体(LED)废水,第1张

随着科技不断的创新,我国的电子设备需求也在不断的增加,因此电子半导体行业的污水排放量也在不断的增加,在水资源紧缺的情况下LED半导体行业的污水应该怎么处理呢?

  半导体污水分为三大类:含氟废水、有机废水和金属离子废水。

为了除去污水中COD、氨氮、总氮等有机污染物,一般会采用好氧法和缺氧厌氧法相结合的方法进行处理。

金属离子污水则是根据不同的金属离子采用不同的方法,常见的方法有活性炭吸附法、化学沉降法、去离子交换法等。

  对于含氟废水,主要是往污水中加入钙盐,钙盐可以跟水中氟离子形成CaF2,再加上混凝剂辅助就可以去除污水中的氟离子,这就是常说的化学沉降法。

因电子LED半导体行业的用水率高,所以为了降低用水成本、减少对环境的污染,污水回用对于电子半导体行业的经营者是极其重要的。

 LED半导体污水除了除了以上方法以外,还可以对污水进行电渗析、离子交换树脂、吸附、冷冻等,在进行污水处理期间还可以去除一些杂质以及特殊的气味。

随着我国经济的高速发展,半导体行业的发展也在迅速崛起,因此在半导体工业加工的过程中不可避免的会产生含有氟离子,铜离子,磷废水的污染物废水。

含氟离子废水处理:

将废水的p H值调整在6-7左右,再加入的过量的Ca

Cl2和适量的絮凝剂,后续会行形成沉淀,部分污泥循环成为载体,在沉淀池中通过重力沉降能够实现泥水分离。

第一次反应时能够去除80%的氟,再一次加入絮凝剂,氟化钙及其其他形态沉淀,利用污泥泵输送到污泥沉淀池,用板框式脱水机压成泥饼外运,这时候产生的压滤液进入其他的系统进一步处理。

含磷离子废水处理:

含磷废水中磷主要以PO43-为主,采用的方法为化学沉淀法和混凝剂沉降法的组合工艺,通过加入Ca

Cl2生成难溶于水的Ca5(PO4)3OH沉淀。

一级反应池的p H调整到5-6左右,二级反应池p H调整到8.5-9,三级反应池p

H调整到9-9.5(确保完全生成羟基磷酸钙),此工艺流程比较简单,费用也比较低,对于含磷废水处理有很大的适用性。

与研磨废水进行混合:

将半导体器件制造中产生的电镀废水和研磨废水进行混合,混合废水泵入浸没式膜过滤装置过滤,过滤的水泵入纳滤膜过滤装置过滤,经过纳滤膜过滤装置过滤的水即可直接回用。

以上是小编整理的半导体工业废水的处理方法都有哪些,后期将会关于更多污水处理的相关内容。


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