砷化镓集成电路主要用于什么领域？

砷化镓集成电路是以砷化镓（GaAs）半导体材料为基片制作的集成电路，其有源器件主要是金属基场效应晶体管和结型场效应晶体管，同时还包含了用高电子迁移率晶体管和异质结双极晶体管等器件所制的集成电路。

GaAs集成电路包括超高速集成电路、微波单片集成电路和光电集成电路。GaAs是一种重要的化合物半导体材料。GaAs集成电路与硅集成电路相比的优点是：电子迁移率比硅大5倍；GaAs工作温度范围宽，可以扩展到-70℃～300℃；抗辐照性能比硅高1～3个数量级。

GaAs集成电路主要应用于通信卫星、电视卫星接收机、移动通信、高清晰度电视、微波毫米波数字频率源、光通信、超高速率信号处理、微型超级计算机、高性能仪器、微波传感器以及国防军用电子装备等。

电导率σ=2Ω -1 CM -1，相对介电常数=介质的介电常数/真空介电常数，相对磁导率=介质磁导率/真空磁导率。

砷化镓是一种化合物半导体材料，分子式GaAs。立方晶系闪锌矿结构，即由As和Ga两种原子各自组成面心立方晶格套构而成的复式晶格，其晶格常数是5.6419A。室温下禁带宽度1.428eV，是直接带隙半导体，熔点1238℃，质量密度5.307g/cm3，电容率13.18。

扩展资料：

注意事项：

1、与众多硅电路相同，砷化镓芯片也是静电敏感器件，应该接地 *** 作。

2、砷化镓不应有高温工艺。因为芯片温度不能超过320℃，所以焊接放置芯片和封盖 *** 作时应特别注意。

3、砷化镓包含砷元素，是作为有毒材料对待的。报废产品应该放置于合适的容器中（第十五节）。 第十四节包含对在封装件内部的芯片底部接触放置的指引。

参考资料来源：百度百科-砷化镓

参考资料来源：百度百科-电导率

参考资料来源：百度百科-相对介电常数

参考资料来源：百度百科-相对磁导率

gaas是直接带隙半导体材料。直接带隙半导体重要性质如下：当价带电子往导带跃迁时，电子波矢不变，在能带图上即是竖直地跃迁，这就意味着电子在跃迁过程中，动量可保持不变——满足动量守恒定律。

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