自建一条半导体28nm国产线，需要哪些企业？

昨天下午外媒的一万亿美金的消息点爆了半导体，半导体归根结底，是要实现国产替代，不再被别人卡脖子，落到实处，就是要自己生产，所以肯定要自己建设芯片生产线。

目前按照我们的上、下游水平，我们最有可能攻克的是28nm制程的芯片生产线，市场关于华为自建28nm生产线的消息一直在传。

很多人觉得国外都7nm了，28nm是不是太落后了。

其实不是。

28nm仍然是目前芯片领域的主流制程，占当前芯片市场规模六成以上，能满足除高端商用领域外，大部分基础领域、基础业务的需求。

7nm的技术是好，但是短期我们实现，有很大的难度，饭总要一口一口吃。

即使再28nm的生产设备领域，我们国产化率也仅仅20%不到，国产替代的路还仍然很长。

不过今年以来，芯片设备领域各种攻克技术难题的好消息不断传来，28nm生产线也隐隐能够看到希望了。

下面我们以自建一条28nm生产线为例，来看看哪些是核心受益的标的。

产线从上游到下游：

1，硅片制造

代表企业：

沪硅产业：

12英寸大硅片已可用于28nm制程的芯片制造。

2、热处理

北方华创

已能生产28nm及以上制程的热处理设备

3、刻蚀

主要玩家是北方华创、中微公司、屹唐半导体，生产的刻蚀机已普遍应用在28-3nm的生产线上，这里主要说说中微公司。

4、离子注入

北京中科信覆盖28nm、万业企业突破3nm

5、薄膜沉积

北方华创、沈阳拓荆

6、抛光

华海清科

华海清科28nm制程的抛光机已实现产业化应用，14nm正在验证。

7、清洗

北方华创、至纯 科技 、芯源微

8、前道检测

赛腾股份、精测电子

赛腾收购日本先进半导体检测设备企业optima后，导入三星、海力士、台积电等优质客户资源。

9、光刻

主要使用光刻机和涂胶显影机，大家熟悉的荷兰ASML和卡脖子环节就在这里

上海微电子，国内目前最先进的光刻机厂商，只能量产90nm，据说下半年将会突破28nm国产光刻机，并交付。

涂胶显影机方面，芯源微的前道barc涂胶设备可以满足28nm工艺。

以上，这仅仅是以生产线为例，说一说国产替代趋势下，可能核心受益的标的。具体材料端（例如第三代半导体）还可能存在超车机会，下一篇文章再详聊。点关注，不迷路！

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