半导体工艺废气如何处理？

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半导体行业中使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量有机物成分，在工艺过程中，这些有机溶剂大部分通过挥发成为废气排放。其废气的主体是VOCs，同时废气中还混合了HCl、氨、HF等危险污染物。

半导体有机废气处理办法

采用RTO设备处理

RTO蓄热式氧化炉是在高温下将可燃废气氧化成氧化物和水，净化废气，并回收废气分解时所释放出来的热量，废气分解效率达到99%以上，热回收效率达到95%以上。

直接燃烧法处理

有机废气风管废气收集→沸石转轮吸附浓缩→直燃炉（TO）→烟囱排气达标排放。

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正常来说，纯水设备生锈是被侵蚀，水质偏向酸性，可是现在的设备很多出是不锈钢做的，不锈钢表面有一层匀称的氧化铬保护层厚度，可以抵御高水温和酸性水对不锈钢的侵蚀。换句话说，如果不锈刚表面生锈，说明不锈钢的膜已经失去了防护作用。所以，正常情况下，纯水设备都不会生锈。

但是呢，纯水设备在用使用的过程中，当时间长了，设备也会生锈。那么，该如何去避免纯水设备生锈呢？下面就由佳洁小编来为大家介绍如何避免设备生锈。

纯水设备

1、用维护膜或涂料按捺腐蚀时，维护膜有些决裂或涂料有些掉落，这些决裂或掉落的当地遭到腐蚀。

2、保证防腐涂料具有良好的附着力、柔韧性以及耐长期冲刷的性能。

3、保证防腐涂料在运输、安装及使用中有良好耐紫外线照射及防水防冻的性能.

4、设备，管道内外喷漆防腐，金属外表所触摸的水溶液中，氧的浓度不一样，构成氧的浓差电池，富氧有些为阴极，而缺氧有些则成阳极遭到腐蚀。

隆昌旺12kw智能型ptc半导体电锅炉调试方法如下：

1、进行补水作业，将管道中与水箱中注满水，之后再开启设备，以免造成干烧问题。

2、设定供暖的温度，将热水温度设定在30~40℃、40~50℃、60~70℃，分几天慢慢升温，避免直接过热而导致暖气片炸裂的问题。

3、供暖结束之后不用将水放出，每2、3年清理一次管道就可以了。

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