FPA-Function Point Analysis.功能点分析方法是最重要也是最有效的软件测量规模方法,它可以在项目早期就对软件项目进行测量,并在开发过程中不断地更新数据,从而实现一种持续一致的管理。从应用方面看,全球已经有成千上万个项目采用了功能点分析方法。从研究方面来看,功能点分析方法也已成为很多其他新型测量方法的基础。参考资料《功能点分析-成功软件项目的测量实践》【美】David Garmus David Herron/著 钱岭 苏薇 盛轶阳/译 清华大学出版社FPA是FPA: FOCUS Personality Analysis的缩写,它是根据美国行为心理学家Florence Littauer创建的性格雏形为基本架构,由FOCUS不断发展至今的一套性格分析系统。FPA系统将人们的性格分为:红色、蓝色、黄色、绿色。人的性格是复杂的,因此一个人决不可能仅仅只受一种色彩来支配,四种色彩的综合才是对性格最完整的厄描述,只不过通常其中的一或两种色彩占主导位置。FPA也不仅仅只对职场范围的人际关系起作用,它也可以帮助我们解决生活、婚姻、家庭等全方位的人际关系。12月7日,日本
佳能宣布将于2023年1月上旬发售面向后道工艺的半导体
光刻机新产品——i线
步进式光刻机“FPA-5520iV LF2 Option”。
据了解,在半导体芯片的制造工艺中,光刻机负责“曝光”电路图案。在曝光的一系列工艺中,在硅晶圆上制造出半导体芯片的工艺称为前道工艺。
保护精密的半导体芯片不受外部环境的影响,并在安装时实现与外部的电气连接的封装工艺称为后道工艺。
佳能宣布发售新一代i线步进式光刻机:性能大增
佳能介绍,新款i线步进式光刻机通过0.8μm的高解像力和拼接曝光技术,使100 x 100mm的超大视场曝光成为可能,从而实现2.5D和3D技术相结合的超大型高密度布线封装的量产。
和去年4月发售的前一代产品“FPA-5520iV LF Option”相比,新品能够将像差抑制至四分之一以下,视场尺寸也较52x68mm大幅增加。
所谓i线也就是光源来自波长365nm的水银灯,和EUV光刻机使用的13.5nm波长激光等离子体光源区别明显。
按照佳能的说法,除芯片精细化以外,封装的高密度布线也被认为是实现高性能的技术之一。可以预见,随着对更高性能半导体器件的先进封装需求的增加,后道工艺中的半导体光刻机市场将继续扩大。
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