半导体中cvd pvdALD什么

半导体中cvd pvdALD什么,第1张

cvd:Chemical Vapor Deposition 化学气相沉积,众多薄膜沉积技术中的一种。pvd:(Vapor ),指利用物理过程实现物质转移,将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。ALD:原子层沉积。拓展由于低温沉积、薄膜纯度以及绝佳覆盖率等固有优点,ALD(原子层淀积)技术早从21世纪初即开始应用于半导体加工制造。DRAM电容的高k介电质沉积率先采用此技术,但近来ALD在其它半导体工艺领域也已发展出愈来愈广泛的应用。

CVD设备是芯片制造薄膜沉积工艺的核心设备,全球市场主要由国外厂商垄断,国产替代需求强烈。”有行业内人士表示。招商证券也在研报中提出,薄膜沉积设备被海外AMAT、LAM、TEL、ASM等龙头垄断。同时,相较于清洗等其他设备,薄膜沉积市场空间更大,国内有望因此涌现出较大的成长空间。


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