欢迎分享,转载请注明来源:内存溢出
cvd:Chemical Vapor Deposition 化学气相沉积,众多薄膜沉积技术中的一种。pvd:(Vapor ),指利用物理过程实现物质转移,将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。ALD:原子层沉积。拓展由于低温沉积、薄膜纯度以及绝佳覆盖率等固有优点,ALD(原子层淀积)技术早从21世纪初即开始应用于半导体加工制造。DRAM电容的高k介电质沉积率先采用此技术,但近来ALD在其它半导体工艺领域也已发展出愈来愈广泛的应用。CVD设备是芯片制造薄膜沉积工艺的核心设备,全球市场主要由国外厂商垄断,国产替代需求强烈。”有行业内人士表示。招商证券也在研报中提出,薄膜沉积设备被海外AMAT、LAM、TEL、ASM等龙头垄断。同时,相较于清洗等其他设备,薄膜沉积市场空间更大,国内有望因此涌现出较大的成长空间。
赞
(0)
打赏
微信扫一扫
支付宝扫一扫
为何台湾的半导体产业会这么强?
上一篇
2023-04-23
数字IC芯片验证流程及验证软件推荐?
下一篇
2023-04-23
评论列表(0条)