晶圆的加热一般使用大功率的灯泡或激光。高功率激光束按一定的路径在晶圆表面扫描,快速加热晶圆(laser scanning annealing,LSA)。这种快速热处理工艺主要用来激活掺杂(dopant activation)、热氧化(thermal oxidaton)等。
然而,RTP和LSA工艺的快速升温经常导致晶圆翘曲(warpage),给随后的光刻对准增加了困难。快速热处理工艺后晶圆的套刻误差增大,不能符合工艺指标的要求。
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晶圆的加热一般使用大功率的灯泡或激光。高功率激光束按一定的路径在晶圆表面扫描,快速加热晶圆(laser scanning annealing,LSA)。这种快速热处理工艺主要用来激活掺杂(dopant activation)、热氧化(thermal oxidaton)等。
然而,RTP和LSA工艺的快速升温经常导致晶圆翘曲(warpage),给随后的光刻对准增加了困难。快速热处理工艺后晶圆的套刻误差增大,不能符合工艺指标的要求。
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