全掩膜(Full Mask)流片是集成电路的一种流片方式,是将整个晶圆制造过程中的全部掩膜版都为某个芯片所用,成本很高。只有在设计完全有把握成功并且准备大批量生产、商用的时候,才会采用这种方式。
多项目晶圆(Multi Project Wafer)流片,简称为MPW流片,是集成电路的另一种流片方式,是将多个使用相同工艺的集成电路设计放在同一晶圆片上流片,制造完成后,每个设计可以得到数十片芯片样品,成本小但极大地降低了产品开发风险。新产品的开发研制初期,并不需要将芯片规模商用,只需要生产少量芯片来验证其设计结果,往往采用这种方式。
Wafer:
晶圆,它是指制作硅半导体积体电路所用的硅晶片,其原始材料是硅。高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种,然后慢慢拉出,形成圆柱形的单晶硅,硅晶棒在经过研磨,抛光,切片后,形成硅晶圆片,也就是晶圆。新闻经常说的6英寸、8英寸、12英寸指的就是晶圆生产线的尺寸,即Wafer的size。
Die:
一片Wafer上的一小块晶片晶圆体称为Die。由于Die size的不同,一片Wafer所能容纳的Die数量不同。Die一般由封装厂对Wafer进行切割而得。Die其实是死亡的英文,至于为什么叫这个我也不知道。
Chip:
封装厂将Die加个外壳封装成可以焊在电路板上的芯片称为Chip。
CP(Chip Probing):
测试对象是Wafer,目的是为了筛选出坏的Die并且喷墨标识。在封装环节前被淘汰掉能减小封装和测试的成本。基本原理是下探针加信号激励给Die,然后测试功能。CP一般在晶圆厂进行。
FT(Final Test)
测试对象是Chip,目的是为了筛选符合设计要求的芯片,然后将芯片卖给客户。FT一般在封装厂进行。
MPW(Multi Project Wafer):
多项目晶圆,就是将多个使用相同工艺的集成电路设计放在同一晶圆片上流片,制造完成后,每个设计可以得到数十片芯片样品,这对于原型(Prototype)设计阶段的实验、测试已经足够了。MPW有点类似于拼团,晶圆厂会给出一个特定时间,让芯片公司一起流片(Tape Out),这个过程也称为Shuttle。该次制造费用由所有参加MPW项目的公司按照Die size分摊,这可以极大地降低产品开发风险,但是要赶时间,错过了只能等下次了。
Full Mask:
全掩膜,经过MPW充分验证后进行量产,即整片Wafer都是同一个项目的,这个过程可以大大降低单个Chip的成本。
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