随着科技不断的创新,我国的电子设备需求也在不断的增加,因此电子半导体行业的污水排放量也在不断的增加,在水资源紧缺的情况下LED半导体行业的污水应该怎么处理呢?
半导体污水分为三大类:含氟废水、有机废水和金属离子废水。
为了除去污水中COD、氨氮、总氮等有机污染物,一般会采用好氧法和缺氧厌氧法相结合的方法进行处理。
金属离子污水则是根据不同的金属离子采用不同的方法,常见的方法有活性炭吸附法、化学沉降法、去离子交换法等。
对于含氟废水,主要是往污水中加入钙盐,钙盐可以跟水中氟离子形成CaF2,再加上混凝剂辅助就可以去除污水中的氟离子,这就是常说的化学沉降法。
因电子LED半导体行业的用水率高,所以为了降低用水成本、减少对环境的污染,污水回用对于电子半导体行业的经营者是极其重要的。
LED半导体污水除了除了以上方法以外,还可以对污水进行电渗析、离子交换树脂、吸附、冷冻等,在进行污水处理期间还可以去除一些杂质以及特殊的气味。
半导体工业就是通过在本征半导体(比如纯硅)里掺杂质来调节半导体材料导电性和其它物理化学性能的,极微量杂质就会剧烈改变半导体材料的性能,所以整个生产过程必须用去离子水,以减少非必要杂质的引入。去离子水是高纯水,自来水乃至蒸馏水都达不到去离子水的纯度。单晶硅有机硅独特的结构,高纯的单晶硅是重要的半导体材料,具备了无机材料与有机材料的性能,市场上晶闸管、场效应管、二极管、三极管、芯片、CPU以及各种集成电路都是用硅做为原材料的,在对半导体设备的加工过程中会产生大量含有硅废水,本文讲解一下关于半导体工艺产生的废水有哪些?废水处理的流程是什么?
半导体含硅废水处理工艺流程:
1、一级沉淀池,用于沉淀回收部分二氧化硅
2、一级混凝池,用于投加混凝剂去除废水中的胶体硅和溶解硅,与所述一级沉淀池连接
3、二级混凝池,用于投加助凝剂和成核剂,利用成核剂反应析出的沉淀物(泥渣)作为接触介质加快沉淀物的长大,提高混凝效果,与所述一级混凝池连接
4、二级沉淀池,用于固液分离,沉淀混凝后的絮体,与所述二级混凝池连接
在对含硅废水进行初步沉淀时是可以回收部分的二氧化硅,在初步沉淀后的废水投加混凝剂进行一级混凝,去除废水中的胶体硅和溶剂硅,完成一级混凝后的废水投加助凝剂和成核剂,这时将会析出的沉淀物,析出的沉淀物在下落的过程中可以于其他的悬浮物混合,加快了沉淀的速度,提高混凝效果。
该半导体含硅废水处理方法结合了多种混凝除硅方法,药剂得到充分利用时形成协同效应,处理 *** 作简单而且能达到较好的除硅效果。
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